化合物、包含其的感光性树脂组合物以及彩色滤光片制造技术

技术编号:16961014 阅读:62 留言:0更新日期:2018-01-07 01:07
本公开提供一种由化学式1表示的化合物、包含所述化合物的感光性树脂组合物、及包括使用所述感光性树脂组合物制造的感光性树脂膜的彩色滤光片。本公开的所述化合物具有色彩特性,且当使用包含所述化合物的感光性树脂组合物时,可提供具有改善的亮度、耐热性、及可加工性的彩色滤光片。[化学式1]

A compound, a photosensitive resin composition containing it and a color filter

The present disclosure provides a compound represented by chemical formula 1, a photosensitive resin composition containing the compound, and a color filter including a photosensitive resin film made from the photosensitive resin composition. The compounds disclosed in this disclosure have color characteristics, and can provide a color filter with improved brightness, heat resistance and processability when using the photosensitive resin composition containing the compounds. [chemical type 1]

【技术实现步骤摘要】
化合物、包含其的感光性树脂组合物以及彩色滤光片
本公开涉及一种新颖化合物、包含其的感光性树脂组合物以及彩色滤光片。
技术介绍
在诸多种类的显示器中,液晶显示器装置具有轻、薄、成本低、操作功耗低、及对集成电路的支持性高的优点,且已更广泛地用于膝上型计算机、监视器、及电视屏幕。液晶显示器装置包括下部衬底及上部衬底,在下部衬底上形成有黑色矩阵、彩色滤光片、及氧化铟锡像素电极,在上部衬底上形成有包括液晶层、薄膜晶体管、及电容器层的有源电路部分以及氧化铟锡像素电极。通过按照预定次序依序堆叠多个彩色滤光片(一般来说,由三原色(例如红色(R)、绿色(G)、及蓝色(B))形成)以形成每一像素而在像素区中形成彩色滤光片,且以预定图案将黑色矩阵层设置在透明衬底上以形成各像素之间的边界。作为形成彩色滤光片的各种方法中的一种方法,颜料分散方法通过重复一系列以下工艺来提供经着色薄膜:例如将包含着色剂的感光性树脂组合物涂布在包括黑色矩阵的透明衬底上,将所形成的图案曝光,用溶剂移除未被曝光的部分,以及对其进行热固化。用于根据颜料分散方法制造彩色滤光片的感光性树脂组合物一般包含粘合剂树脂、光可聚合单体、光聚合引发剂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化合物,其特征在于,由化学式1表示:[化学式1]

【技术特征摘要】
2016.06.24 KR 10-2016-0079656;2016.12.05 KR 10-2011.一种化合物,其特征在于,由化学式1表示:[化学式1]其中,在化学式1中,R1为卤素原子、经取代或未经取代的C1至C20烷基、经取代或未经取代的C1至C20烷氧基、或者经取代或未经取代的C6至C20芳基,R2为经取代或未经取代的C3至C20脂环族环状基、或者经取代或未经取代的C6至C20芳基,其限制条件是所述芳基仅具有至少一个选自卤素原子、经取代或未经取代的C1至C10烷基、经取代或未经取代的C1至C10烷氧基、及经取代或未经取代的C1至C10烷硫基中的取代基,R3至R5独立地为经取代或未经取代的C1至C20烷基、经取代或未经取代的C1至C20烷氧基、或者经取代或未经取代的C6至C20芳基,m及n独立地为介于1至5范围内的整数,且L由化学式2表示,[化学式2]*-L1-A其中,在化学式2中,L1为-O(C=O)-或-S-,且A为经取代或未经取代的C1至C20烷基、经取代或未经取代的C3至C20脂环族环状基、经取代或未经取代的C6至C20芳基、或者经取代或未经取代的C2至C20杂芳基。2.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,R1为经取代或未经取代的C1至C20烷基、经取代或未经取代的C1至C20烷氧基、或者经取代或未经取代的C6至C20芳基。3.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,R2为经取代或未经取代的金刚烷基、或者经取代或未经取代的苯基,其限制条件是所述苯基仅具有至少一个选自卤素原子、经取代或未经取代的C1至C10烷基、经取代或未经取代的C1至C10烷氧基、及经取代或未经取代的C1至C10烷硫基的取代基。4.根据权利要求3所述的化合物,其特征在于,R2为所述未经取代的金刚烷基或者仅具有至少一个选自卤素原子、经取代或未经取代的C1至C10烷基、经取代或未经取代的C1至C10烷氧基、及经取代或未经取代的C1至C10烷硫基中的取代基的所述苯基。5.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,R3至R5独立地为经取代或未经取代的C1至C20烷基。6.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,L由选自化学式3至化学式7中的一者表示:[化学式3][化学式4][化学式5][化学式6][化学式7]其中,在化学式3至化学式7中,R6为经取代或未经取代的C1至C10烷基、经取代或未经取代的氨基、或者经取代或未经取代的酰基,R7至R9独立地为羟基或者经取代或未经取代的C1至C10烷基,其限制条件是R7及R8中的至少一者为羟基,R10为经取代或未经取代的C1至C10烷基,o及p独立地为介于1至3范围内的整数,其限制条件是2≤o+p≤5,且q为介于0至4范围内的整数。7.根据权利要求6所述的化合物,其特征在于,所述经取代或未经取代的氨基由化学式8表示,且所述经取代或未经取代的酰基由化学式9表示:[化学式8][化学式9]其中,在化学式8中,Rx为经取代或未经取代的C1至C10烷基,且z为介于0至5范围内的整数。8.根据权利要求6所述的化合物,其特征在于,R6为叔丁基、由化学式8表示的取代基、或由化学式9表示的取代基,R7至R9独立地为羟基或叔丁基,其限制条件是R7及R8...

【专利技术属性】
技术研发人员:申先雄冯新惠赵南植金圭泳李英辛明晔李贞和徐光源郑周昊
申请(专利权)人:三星SDI株式会社
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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