一种用于超大规模集成电路芯片的清洗剂组合物及其制备方法技术

一种用于超大规模集成电路芯片的清洗剂组合物及其制备方法，属于化学品制备领域。由壬基酚聚氧乙烯醚、椰子油二乙醇酰胺、氧丙烯氧乙烯甘油醚（３０００～３６００）甜菜碱型表面活性剂、氨基酸型表面活性剂乙二胺四乙酸、柠檬酸、碘、异丙醇、乙醇、乙醇胺、去离子水。将有关组分通过离子交换提纯达到ＭＯＳ纯，混合，复配，常压下，搅拌，消泡，过滤。使用本发明专利技术清洗剂组合物完全可以代替传统清洗技术中使用的硫酸、硝酸、盐酸、双氧水和氨水等化学试剂，清洗效果相当于或略优于传统清洗技术，清洗成本低于或大大低于传统清洗技术且无毒、无腐蚀性、对人体无危害、对环境无污染，操作简单。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于超大规模集成电路芯片的清洗剂组合物，其特征在于，基本组成为：组份 重量百分比（％）壬基酚聚氧乙烯醚 ２～１０椰子油二乙醇酰胺 ２～１５聚醚型表面活性剂（３０００～３６００） ０～５甜菜碱型表面活性剂 ０～２氨 基酸型表面活性剂 ０～２乙二胺四乙酸 ０～２柠檬酸 ０．５～２碘 ０～０．５异丙醇 ０～６乙醇 ４～６乙醇胺 １～３去离子水余量。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：曹宝成，于新好，马洪磊，马谨，
申请(专利权)人：山东大学，
类型：发明
国别省市：88[中国|济南]