A plasma reactor for processing workpieces has a microwave source and user interface. The microwave source has the digital synchronous rotation frequency using direct digital upconversion, and the user interface is used to control the rotation frequency.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有以直接上转换对微波场的旋转频率进行的数字控制的等离子体反应器相关申请的交叉引用本申请主张由SatoruKobayashi等人在2015年12月18日提出申请的第14/974,376号专利技术名称为“具有以直接上转换对微波场的旋转频率进行数字控制的等离子体反应器”的美国专利申请的优先权,其主张由SatoruKobayashi等人在2015年3月23日提出申请的第62/136,737号专利技术名称为“具有对微波场的旋转频率进行的数字控制的等离子体反应器”的美国专利临时申请;及由SatoruKobayashi等人在2015年4月28日提出申请的第62/153,688号专利技术名称为“具有以直接上转换对微波场的旋转频率进行的数字控制的等离子体反应器”的美国专利临时申请的权益。背景
本申请涉及用于使用微波等离子体源处理工件(如半导体晶片)的等离子体反应器。
技术介绍
微波等离子体源产生的等离子体的特征在于具有低鞘电压和反应气体的高离解。在微波等离子体处理的许多应用中,圆形径向波导通常用于制造均匀等离子体以处理圆形晶片。然而,由于微波施加器的非均匀(non-uniform)场分布,以及部分由于表面波的激发,所得到的等离子体通常在径向方向与方位角方向的一者或两者中具有不均匀(inhomogeneous)的离子密度分布。为了改善等离子体均匀性,已经提出了将微波施加器使用于TE111模式的高均匀场在邻近处理区域的圆柱形腔中旋转的地方。这是通过从两个空间正交的方向引入时间相位差90度的微波来完成的。为了激发在圆形腔中的完美圆形(perfectlycircular)旋转,在 ...
【技术保护点】
一种等离子体反应器,包括:圆柱形微波腔,所述圆柱形微波腔在工件处理腔室之上,及所述圆柱形微波腔的侧壁中的第一与第二耦接孔以一角度分隔开;微波源,所述微波源具有微波频率且包括微波控制器,所述微波控制器具有耦接至所述第一与第二耦接孔中的相应耦接孔的相应的微波输出,所述微波控制器的各者包含:(a)第一与第二数字调制信号的源,所述第一与第二数字调制信号具有对应于慢速旋转频率的频率;(b)第一数字载波信号的源,所述第一数字载波信号具有中频;(c)乘法器级,所述乘法器级包含一对乘法器,该对乘法器中的各个乘法器具有一对输入,所述乘法器级经耦接以分别接收(a)所述第一数字调制信号、所述第二数字调制信号与所述第一数字载波信号,所述乘法器级具有相应的输出in1与in2;(d)数字转模拟转换器,所述数字转模拟转换器经耦接以接收所述相应的输出in1与in2且具有对应于所述输出in1与in2的模拟输出;及上转换器,所述上转换器具有与所述模拟输出耦接的输入,所述上转换器包含所述微波输出。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.23 US 62/136,737;2015.04.28 US 62/153,688;1.一种等离子体反应器,包括:圆柱形微波腔,所述圆柱形微波腔在工件处理腔室之上,及所述圆柱形微波腔的侧壁中的第一与第二耦接孔以一角度分隔开;微波源,所述微波源具有微波频率且包括微波控制器,所述微波控制器具有耦接至所述第一与第二耦接孔中的相应耦接孔的相应的微波输出,所述微波控制器的各者包含:(a)第一与第二数字调制信号的源,所述第一与第二数字调制信号具有对应于慢速旋转频率的频率;(b)第一数字载波信号的源,所述第一数字载波信号具有中频;(c)乘法器级,所述乘法器级包含一对乘法器,该对乘法器中的各个乘法器具有一对输入,所述乘法器级经耦接以分别接收(a)所述第一数字调制信号、所述第二数字调制信号与所述第一数字载波信号,所述乘法器级具有相应的输出in1与in2;(d)数字转模拟转换器,所述数字转模拟转换器经耦接以接收所述相应的输出in1与in2且具有对应于所述输出in1与in2的模拟输出;及上转换器,所述上转换器具有与所述模拟输出耦接的输入,所述上转换器包含所述微波输出。2.如权利要求1所述的等离子体反应器,其中:该对乘法器中的第一个乘法器经耦接以接收所述第一数字调制信号与所述第一数字载波信号,且具有包含所述输出in1的第一乘法器输出;及该对乘法器中的第二个乘法器经耦接以接收所述第二数字调制信号与所述第一数字载波信号,且具有包含所述输出in2的第二乘法器输出。3.如权利要求1所述的等离子体反应器进一步包括所述中频的第二数字载波信号的源,其中:所述第一数字载波信号的所述源耦接至所述输出in1;该对乘法器中的第一个乘法器经耦接以接收所述第一数字调制信号与所述第一数字载波信号;该对乘法器中的第二个乘法器经耦接以接收所述第二数字调制信号与所述第二数字载波信号,且具有包含所述乘法器输出in2的第二乘法器输出;及其中所述乘法器级进一步包括加法器,所述加法器经耦接以接收该对乘法器的输出,所述加法器具有包含所述输出in2的输出。4.如权利要求2所述的等离子体反应器,其中所述第一与第二数字调制信号分别包括余弦形式分量I与正弦形式分量Q。5.如权利要求4所述的等离子体反应器,其中第一与第二数字调制信号的所述源包括:第一RAM、第二RAM与低时钟指针,所述第一RAM包含所述余弦形式分量I的连续取样,所述第二RAM包含所述正弦...
【专利技术属性】
技术研发人员:小林悟,菅井英夫,S·朴,K·拉马斯瓦米,D·卢博米尔斯基,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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