The subject of the invention is to restrain the foreign particles produced in the cutting process to attach to the protective film assembly. Method of producing protective film component of the invention relates to the method of protective film protective film component manufacturing assembly includes a protective film and protective film surrounding the support frame, wherein the method includes the following operations: forming a protective film on a substrate (101), will have the scalability and is from external stimulation when sticking adhesive sheet will be reduced to (106107) side is bonded to the substrate, the substrate is part of the adhesive sheet in paste form inside the incision, pasted with the adhesive sheet to maintain the state of the substrate formed part of the substrate lateral incision of the peripheral part (111) separated to form the protective film assembly frame the adhesive sheet, stimulation and stripping adhesive sheet.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防护膜组件的制造方法及带有防护膜组件的光掩模的制造方法
本专利技术涉及防护膜组件的制造方法。
技术介绍
在LSI、超LSI等半导体装置或液晶显示面板等的制造中,对光掩模、中间掩模曝光而形成图案,但如果在光掩模、中间掩模的表面具有异物,则每次曝光时异物都会转印到晶片上。因此,采用如下方式:以使防护膜在距离光掩模、中间掩模的表面为数mm的部分配置的方式粘贴具备防护膜组件框和防护膜的防护膜组件。即,在光掩模、中间掩模的至少图案面配置了防护膜组件的情况下,附着于防护膜组件表面的异物由于聚焦位置偏离,因此不会在形成于半导体晶片上的光致抗蚀剂上成像,不会使电路图案产生缺陷。作为制造带有防护膜组件的光掩模的方法,以往采用了下述方法:将厚度10μm以下的由硝酸纤维素或纤维素衍生物等透明高分子膜形成的防护膜拉伸扩张而粘接于具有与光掩模、中间掩模的形状对应的形状的厚度数毫米左右的防护膜组件框体的一个边缘面,并且将防护膜组件框体的另一个边缘面介由粘着材而粘贴于光掩模、中间掩模的表面。另外,关于光刻的波长,短波长化推进,作为新一代的光刻技术,EUV光刻的开发正在被推进。EUV光是指软X射 ...
【技术保护点】
一种防护膜组件的制造方法,是制造包含防护膜和支撑防护膜周围的防护膜组件框的防护膜组件的方法,所述方法包含如下操作:在基板上形成防护膜,将具有伸缩性且在受到来自外部的刺激时粘着力会降低的粘着片粘贴于所述基板的两面侧,在粘贴有所述粘着片的部分的所述基板的内部形成切口,维持粘贴有所述粘着片的状态,将所述基板的形成了所述切口的部分的外侧的基板外周部分离,从而形成防护膜组件框,对所述粘着片给予所述刺激而剥离粘着片。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.27 JP 2015-0907801.一种防护膜组件的制造方法,是制造包含防护膜和支撑防护膜周围的防护膜组件框的防护膜组件的方法,所述方法包含如下操作:在基板上形成防护膜,将具有伸缩性且在受到来自外部的刺激时粘着力会降低的粘着片粘贴于所述基板的两面侧,在粘贴有所述粘着片的部分的所述基板的内部形成切口,维持粘贴有所述粘着片的状态,将所述基板的形成了所述切口的部分的外侧的基板外周部分离,从而形成防护膜组件框,对所述粘着片给予所述刺激而剥离粘着片。2.根据权利要求1所述的防护膜组件的制造方法,其包含如下操作:从所述基板的与形成有防护膜的面相反一侧的面进行蚀刻而露出所述防护膜。3.根据权利要求1或2所述的防护膜组件的制造方法,从所述基板的与形成有所述防护膜的面相反一侧的面进行蚀刻而露出所述防护膜后,在露出所述防护膜的区域的周围,将所述粘着片粘贴于所述基板的两面侧。4.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:高村一夫,种市大树,小野阳介,石川比佐子,美谷岛恒明,佐藤泰之,广田俊明,
申请(专利权)人:三井化学株式会社,龙云株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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