基板的检查方法、基板处理系统和计算机存储介质技术方案

具有对基板实施规定处理的多个处理装置的基板处理系统的基板的检查方法，拍摄用处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像，从该第一基板图像抽取规定的特征量，从存储有与各自不同的范围的特征量对应地设定的多个检查方案的存储部，选择与从第一基板图像抽取的特征量对应的检查方案，拍摄用处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像，基于检查方案和第二基板图像，判断基板有无缺陷。

Inspection method of substrate, substrate processing system and computer storage medium

With the provisions of a plurality of processing devices with the substrate processing system, substrate inspection method of substrate, substrate processing apparatus with shooting surface before processing to achieve the first substrate image, from the feature set of the first substrate image extraction, from storing a plurality of inspection program characteristics and their different the scope of the corresponding set, and from the corresponding feature image extraction of the first substrate inspection scheme, shooting surface substrate treatment device after treatment to achieve the second substrate image inspection program and the second board image based on the judgment of substrate without defects.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板的检查方法、基板处理系统和计算机存储介质
(相互参照关联申请)本申请基于2015年5月12日在日本申请的特愿2015-097333号，要求优先权，在此引用其内容。本专利技术涉及检查基板的方法、基板处理系统和存储实行所述基板的检查方法的程序的可读取的计算机存储介质。
技术介绍
例如半导体器件的制造步骤的光刻步骤中，依次进行向作为基板的半导体晶片(以下，称为“晶片”)上涂敷抗蚀剂液来形成抗蚀剂膜的抗蚀剂涂敷处理、将抗蚀剂膜以规定图案曝光的曝光处理、对曝光过的抗蚀剂膜进行显影的显影处理等一系列的处理，并在晶片上形成规定的抗蚀剂图案。上述一系列的处理，在装载处理晶片的各种处理装置或搬送晶片的搬送机构等的作为基板处理系统的涂敷显影处理系统中进行。在上述的涂敷显影处理系统设置有对晶片进行所谓巨大缺陷进行检查的检查装置(专利文献1)。在巨大缺陷检查中，在涂敷显影处理系统进行了规定的处理的晶片，在规定的照明下利用例如CCD线阵传感器等的拍摄装置进行拍摄，取得该晶片的拍摄图像。然后，与以取得的拍摄图像为基准的晶片的图像比较，据此判断是否有缺陷。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板的检查方法，其用于具有对基板实施规定处理的多个处理装置的基板处理系统，所述基板的检查方法的特征在于：拍摄用所述处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像，从所述第一基板图像抽取规定的特征量，从存储有与各自不同的范围的所述特征量对应地设定的多个检查方案的存储部，选择与从所述第一基板图像抽取出的所述特征量对应的检查方案，拍摄用所述处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像，基于所述检查方案和所述第二基板图像，判断基板有无缺陷。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.12 JP 2015-0973331.一种基板的检查方法，其用于具有对基板实施规定处理的多个处理装置的基板处理系统，所述基板的检查方法的特征在于：拍摄用所述处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像，从所述第一基板图像抽取规定的特征量，从存储有与各自不同的范围的所述特征量对应地设定的多个检查方案的存储部，选择与从所述第一基板图像抽取出的所述特征量对应的检查方案，拍摄用所述处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像，基于所述检查方案和所述第二基板图像，判断基板有无缺陷。2.如权利要求1所述的基板检查方法，其特征在于：在所述存储部内不存在与所述第一基板图像的特征量对应的检查方案时，将所述第一基板图像和第二基板图像保存在图像保存部，基于所述第一基板图像的特征量，将保存于所述图像保存部的多个所述第一基板图像分类成多个组，按所述各组将与分类后的多个所述第一基板图像对应的多个所述第二基板图像合成，来生成作为缺陷检查的基准的基准图像，基于所述生成的基准图像生成检查方案，并将所述生成的检查方案存储于所述存储部，所述基板有无缺陷的判断是基于预先设定的检查方案和所述第二基板图像的。3.如权利要求1所述的基板检查方法，其特征在于：生成所述第一基板图像和与所述第一基板图像对应的所述第二基板图像的差图像，所述基板有无缺陷的判断是基于所述选择的检查方案和所述差图像进行的，存储于所述存储部的检查方案用于基于所述差图像判断基板有无缺陷。4.如权利要求3所述的基板检查方法，其特征在于：在所述存储部内不存在与所述第一基板图像的特征量对应的检查方案时，将所述第一基板图像、所述第二基板图像和所述差图像保存在图像保存部，基于所述第一基板图像的特征量，将保存于所述图像保存部的多个所述第一基板图像分类成多个组，按所述各组将与分类后的多个所述第一基板图像对应的多个所述差图像合成，来生成作为缺陷检查基准的基准图像，基于所述生成的基准图像生成检查方案，并将该生成的检查方案存储在所述存储部，所述基板有无缺陷的判断是是基于预先设定的检查方案和所述差图像进行的。5.如权利要求1所述的基板检查方法，其特征在于：所述规定的特征量为所述第一基板图像的像素值。6.如权利要求2所述的基板检查方法，其特征在于：所述规定的特征量为所述第一基板图像的像素值。7.如权利要求3所述的基板检查方法，其特征在于：所述规定的特征量为所述第一基板图像的像素值。8.如权利要求4所述的基板检查方法，其特征在于：所述规定的特征量为所述第一基板图像的像素值。9.一种基板处理系统，其具有对基板实施规定处理的多个处理装置，所述基板处理系统的特征在于，包括：检查装置，其包括：第一拍摄装置，其拍摄用所述处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像；特征量抽取部，其从所述第一基板图像抽取规定的特征量；存储部，其存储有与各自不同的范围的所述特征量对应地设定的多个检查方案；方案选择部，其从存储于所述存储部的所述检查方案，选择与由所述特征量抽取部抽取出的特征量对应的检查方案；和第二拍摄装置，其拍摄用所述处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像；和缺陷判断部，其基于所述选择的检查方案，判断所述第二基板图像中有无缺陷。10.如权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，还包括：图像保存部，其保存所述第一基板图像和第二基板图像，图像分类部，其基于由所述特征量抽取部抽取出的特征量，将保存于所述图像保存部的多个所述第一基板图像分类成多个组，基准图像生成部，其按所述各组将与分类后的多个所述第一基板图像对应的多...

【专利技术属性】
技术研发人员：森拓也，早川诚，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP