具有随机光束分布的光谱仪制造技术

光谱仪包括光源，所述光源被配置成沿通过包括分析物的样品体积的光束路径发射光束。所述光谱仪还包括至少一个检测器以及至少一个反射器，所述至少一个检测器定位成检测由所述光源发射的所述光束的至少一部分，所述至少一个反射器沿所述光束路径定位在所述光源与所述至少一个检测器中间，所述至少一个反射器具有大于诸如

A spectrometer with random beam distribution

The spectrometer includes a light source, which is configured to transmit a beam along a beam path through the volume of the sample including the analyte. The spectrometer also includes at least one detector and at least one reflector, wherein at least a portion of at least one detector positioned to detect emitted by the light source of the light beam, wherein the at least one reflector along the beam path is positioned in the light source and the at least one detector, the at least one reflector is greater than such as

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有随机光束分布的光谱仪相关申请的交叉引用本申请根据巴黎公约要求于2015年5月4日提交的标题为“SpectrometerwithRandomBeamProfiles”的美国申请第14/703,616号的优先权，该案所公开的内容以引用的方式并入本文中，引用的程度是适用法律允许的。
本文所描述的主题涉及光谱分析仪，其中，由光源发射的光束穿过样品池，在该样品池中，光束分布和准直由非最优条件(例如，通过衍射、折射、散射、吸收、光学干涉等)修改，并且尽管如此，该样品池还是会产生关于在样品池中的样品中的分析物的有意义的数据。本文还描述了用于包括有缺陷的光源的光谱分析的系统。
技术介绍
光谱测量技术可以用于识别目标化学物质或者分析物在气体样品中的存在。光谱测量技术通常依赖于分析物在可见光谱中或者在无法看到的波长处与光的相互作用。根据所使用的光谱测量技术，收集到的光谱可以示出在激发光束穿过气体样品之后吸收的光、发射的光、或者从样品散射的光的强度。接收到的光强度的光谱分布的峰或者谷可以指示特定化学物质。在一些光谱测量技术中，每种化学物质的数量或者相对量可以由光谱得出。然而，如果光谱仪从气体样品收集到本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设备，包括：光源，所述光源被配置成沿通过包括分析物的样品体积的光束路径发射光束；至少一个检测器，所述至少一个检测器定位成检测由所述光源发射的所述光束的至少一部分；以及至少一个反射器，所述至少一个反射器沿所述光束路径定位在所述光源与所述至少一个检测器中间，所述至少一个反射器具有大于约

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.04 US 14/703,6161.一种设备，包括：光源，所述光源被配置成沿通过包括分析物的样品体积的光束路径发射光束；至少一个检测器，所述至少一个检测器定位成检测由所述光源发射的所述光束的至少一部分；以及至少一个反射器，所述至少一个反射器沿所述光束路径定位在所述光源与所述至少一个检测器中间，所述至少一个反射器具有大于约RMS的表面粗糙度。2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述至少一个反射器集成至样品池的外壳。3.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述至少一个反射器耦接至样品池的外壳。4.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述至少一个反射器具有从预定曲率半径变化大于±0.05％、±0.075％、±0.1％、±0.15％、±0.22％、±0.5％、±1％、±1.5％、或者±2％的曲率半径。5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述预定曲率半径是基于所述至少一个反射器相对于所述至少一个光源和/或至少一个检测器的间隔和位置。6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述至少一个反射器具有无穷大或者基本无穷大的曲率半径。7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述至少一个反射器的至少一部分具有负曲率半径。8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述至少一个反射器的至少一部分具有正曲率半径。9.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述至少一个反射器的至少一部分是圆柱形的、非球面的、环形的、球形的、抛物线的或者椭圆的。10.根据权利要求9所述的设备，其中，所述至少一个反射器在至少10μm×10μm的表面区域上具有大于RMS、RMS、RMS、RMS、RMS、RMS、RMS、RMS或者RMS的表面粗糙度。11.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述至少一个反射器在至少一个区域中具有大于λ/100、λ/50、λ/10、λ/5、λ/2λ、2λ、3、5或者10的面形精度。12.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述一个或者多个反射表面造成从所述光源到所述至少一个检测器的所述光束的强度损失。13.根据权利要求12所述的设备，其中，所述一个或者多个反射表面随机衍射来自所述光源的所述光束。14.根据权利要求12所述的设备，其中，所述一个或者多个反射表面以预定模式衍射来自所述光源的所述光束。15.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述一个或者多个反射表面造成散射、衍射、或者散射且衍射两者的信号损失，使得由所述至少一个检测器检测到的所述光束的强度低于由所述光源发射的所述光束的强度的预定义百分比。16.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述一个或者多个反射表面包括单点金刚石车削镜面、模制表面、湿法蚀刻表面、干法蚀刻表面、压制镜面、烧结镜面、或者成形表面中的至少一个。17.根据权利要求16所述的设备，其中，所述一个或者多个反射表面包括以下中的至少一个：机加工的金属、蚀刻的金属、模制的金属、铸造的金属、成形的金属、涂覆有电介质的金属、涂覆有半导体的金属、机加工的塑料、蚀刻的塑料、模制的塑料、铸造的塑料、塑料膜、涂覆有金属的塑料、涂覆有电介质的塑料、涂覆有半导体的塑料、复合材料、涂覆有金属的复合材料、涂覆有电介质的复合材料、涂覆有半导体的复合材料、机加工的陶瓷材料、模制的陶瓷材料、铸造的陶瓷材料、压制和烧结的陶瓷材料、涂覆有金属的陶瓷材料、涂覆有电介质的陶瓷材料、涂覆有半导体的电介质材料、机加工的玻璃材料、蚀刻的玻璃材料、模制的玻璃材料、铸造的玻璃材料、涂覆有金属的玻璃、涂覆有电介质的玻璃材料、涂覆有半导体的玻璃材料、电介质材料、半导体、机加工的半导体、蚀刻的半导体、涂覆有金属的半导体、或者涂覆有电介质的半导体。18.根据权利要求17所述的设备，其中，所述一个或者多个反射表面包括涂覆有金属或者电介质或者半导体的塑料材料。19.根据权利要求17所述的设备，其中，所述一个或者多个反射表面包括涂覆有金属或者电介质或者半导体的陶瓷材料。20.根据权利要求17所述的设备，其中，所述一个或者多个反射表面包括涂覆有金属或者电介质的半导体。21.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其进一步包括：至少一个孔隙，所述至少一个孔隙沿所述光束路径被包括在所述光源与所述至少一个检测器之间。22.一种方法，其包括：由形成光谱仪的部分的光源，沿光束路径将光束发射到包括分析物的样品体积中；由至少一个检测器，在所述光束已经被至少一个反射器反射之后，检测由所述光源发射的所述光束的至少一部...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿尔弗雷德·菲提施，彼得·多恩，詹姆斯·特德斯柯，刘翔，
申请(专利权)人：光谱传感器公司，
类型：发明
国别省市：美国,US