The present invention relates to formulations comprising at least one organic semiconductor and at least one organic solvent, the preparations for the preparation of electronic devices, the preparation method of the invention is used in electronic devices and electronic devices by these methods and the preparation and characteristics of the preparation is characterized in that the preparation contains per less than 10000 meter rise preparation particle average size from 0.1 to 20 in the range of M.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有低粒子含量的制剂
本专利技术涉及包含至少一种有机半导体和至少一种有机溶剂的、用于电子或光电子器件层的印刷的涂料或油墨的可溶性有机或混合功能材料的制剂,所述制剂用于制备电子或光电子器件如液体涂布或印刷的电子、光电子、光生伏打、传感或有机电致发光器件的用途,使用本专利技术的制剂制备这种器件的方法以及由这种方法和制剂制备的器件,所述制剂的特征在于,所述制剂含有以每升制剂计少于10,000个平均尺寸在0.1至20μm范围内的粒子。
技术介绍
有机电子或光电子器件很早已经通过真空沉积工艺制造。其它技术诸如喷墨印刷由于其诸如成本节省和规模扩大可能性等优点而在最近得到充分研究。多层印刷的主要挑战之一是确定相关参数,以获得油墨在基板上的均匀沉积。例如,已知为了进行喷墨印刷而制备的油墨中的粒子减少导致油墨的良好流动性,并且防止了印刷头中的油墨通道的堵塞。这确保了油墨在基板上的均匀施加并减少了由于油墨施加减少或没有油墨施加而引起的缺陷。EP1134269A2涉及可用于制备聚合物发光器件的聚合物荧光物质和聚合物荧光物质溶液。已发现包含至少一个基本上不含直径大于1μm的粒子状外来物质的发光层的聚合物发光器件几乎没有使显示质量降低的暗点。然而,在现有技术中不考虑亚微米范围内的粒子的存在是否对聚合物发光器件的层结构中的缺陷的形成产生影响。本专利技术解决了这一问题,并对从有机半导体材料溶液制备的电子或光电子器件层的缺陷的发生和原因进行了综合研究。因此,本专利技术的目的是提供包含一种或多种半导体材料和一种或多种有机溶剂的制剂,所述制剂适于制备具有减少的数量的缺陷的电子或光电子器件。专 ...
【技术保护点】
一种制剂,其包含一种或多种有机半导体材料和一种或多种有机溶剂,其特征在于所述制剂含有以每升制剂计少于10,000个平均尺寸为0.1至20μm的粒子。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.01.30 EP 15000288.91.一种制剂,其包含一种或多种有机半导体材料和一种或多种有机溶剂,其特征在于所述制剂含有以每升制剂计少于10,000个平均尺寸为0.1至20μm的粒子。2.根据权利要求1所述的制剂,其特征在于所述制剂含有以每升制剂计少于1,000个平均尺寸为0.2至20μm的粒子。3.根据权利要求1或2所述的制剂,其特征在于所述制剂含有以每升制剂计少于100个平均尺寸为0.5至20μm的粒子。4.根据权利要求1至3中的一项或多项所述的制剂,其特征在于所述制剂含有以每升制剂计少于10个平均尺寸为0.1至20μm的金属和/或电子导电粒子。5.根据权利要求1至4中的一项或多项所述的制剂,其特征在于所述有机半导体材料是分子量Mw>5,000g/mol的聚合物。6.根据权利要求1至5中的一项或多项所述的制剂,其特征在于所述有机半导体材料是分子量≤5,000g/mol的低分子量材料。7.根据权利要求1至6中的一项或多项所述的制剂,其特征在于所述有机半导体材料选自空穴注入、空穴传输、电子阻挡、发光、空穴阻挡、电子传输、电子注入和电介质吸收材料。8.根据权利要求1至7中的一项或多项所述的制剂,其特征在于所述制剂含有一种溶剂。9.根据权利要求8所述的制剂,其特征在于所述溶剂的沸点≥90℃、优选≥150℃并且更优选≥200℃。10.根据权利要求1至9中的一项或多项所述的制剂,其特征在于所述制剂含有至少两种不同的溶剂,其中所述至少两种不同溶剂中的两种溶剂的沸点差异≥10℃。11.根据权利要求1至10中的一项或多项所述的制剂,其特征在于所述制剂含有至少两种不同的溶剂,其中...
【专利技术属性】
技术研发人员:埃德加·伯姆,安雅·格哈德,迪特马尔·孔克尔,沃尔克·希拉留斯,内田昌宏,园山卓也,武井周一,今村光治,
申请(专利权)人:默克专利有限公司,精工爱普生株式会社,
类型:发明
国别省市:德国,DE
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