表面处理剂制造技术

本发明专利技术提供下述通式(A1)或(A2)所示的化合物。R

Surface treatment agent

The present invention provides the compounds shown in the general formula (A1) or (A2). R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面处理剂
本专利技术涉及含(聚)醚基的硅烷化合物、以及含有该化合物的表面处理剂。
技术介绍
已知某些种类的硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的功能(例如拨水性、拨油性、防污性)等。由含有硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下，也称为“表面处理层”)，作为所谓的功能性薄膜，应用于例如玻璃、塑料、纤维、建筑材料等各种各样的基材。作为这样的硅烷化合物，已知含氟硅烷化合物。具体而言，在专利文献1和2中记载了在分子末端具有与Si原子结合的能够水解的基团的含全氟聚醚基的硅烷化合物。另外，作为其他的硅烷化合物，已知含聚醚基的硅烷化合物。具体而言，在专利文献3和4中记载了在分子末端具有与Si原子结合的能够水解的基团的含聚醚基的硅烷化合物。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第97/07155号专利文献2：日本特表2008－534696号公报专利文献3：日本特开2013－60354号专利文献4：日本特开2014－65827号
技术实现思路
专利技术所要解决的课题由专利文献1～4所记载的那样的表面处理剂得到的表面处理层，即使为薄膜也能够发挥如上所述的功能，因此适合用于需要透光性或透明性的眼镜、或触摸面板等光学部件。在这样的用途中，指纹的附着成为问题。由含有如专利文献1和2所记载的那样的含全氟聚醚基的硅烷化合物的表面处理剂得到的层具有优异的拨水拨油性，指纹不易附着。然而，在由含有含全氟聚醚基的硅烷化合物的表面处理剂得到的层中，虽然指纹的附着量少，但在附着了指纹的情况下，由于其优异的拨水拨油性、即高的接触角，所以存在附着的皮脂散射光、指纹变得明显的问题。由含有如专利文献1和2所记载的那样的含聚醚的硅烷化合物的表面处理剂得到的层由于亲油性高，附着的皮脂渗入层中，所以即使在附着了指纹的情况下，也不易变得明显。然而，由含有如专利文献1和2所记载的那样的含聚醚的硅烷化合物的表面处理剂得到的层，存在即使将附着的指纹擦去，皮脂的痕迹仍然残留的问题。本专利技术的目的在于提供一种能够形成附着的指纹的视认性低、且附着的指纹的痕迹容易消除的层的硅烷化合物、以及含有该化合物的表面处理剂。用于解决课题的方法本专利技术的专利技术人经过深入研究，结果发现，通过在含(聚)醚基的硅烷化合物中的(聚)醚基中包含CH2CH2CH2CH2O单元，能够得到可提供附着的指纹的视认性低、且附着的指纹的痕迹容易消除的表面处理层的化合物，从而完成了本专利技术。即，根据本专利技术的第一要点，提供下述通式(A1)或(A2)所示的化合物：R1-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRakRblRcm)α…(A1(RcmRblRakSi)α-X-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRakRblRcm)α…(A2)[式中：R1表示OR4；R4表示氢原子或碳原子数1～20的烷基；PE1在每次出现时分别独立地为下式所示的基团：－(CaH2aO)b－(式中：a在每个标注b且用括号括起来的单元中分别独立地为1～6的整数；其中，在式(A1)或(A2)中，在至少1个单元中a为4；a为4的－(C4H8O)－单元为－(CH2CH2CH2CH2O)－；b在每次出现时分别独立地为1～200的整数)；Y在每次出现时分别独立地表示单键或－CONH－R5－NHCOO－；R5在每次出现时分别独立地表示二价的有机基团；n为1～50的整数；PE2表示单键或上述－(CaH2aO)b－基；X分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；Ra在每次出现时分别独立地表示－Z－SiR71pR72qR73r；Z在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团；R71在每次出现时分别独立地表示Ra′；Ra′的意义与Ra相同；Ra中，经由Z基以直链状连结的Si最多为5个；R72在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；R73在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；p在每次出现时分别独立地为0～3的整数；q在每次出现时分别独立地为0～3的整数；r在每次出现时分别独立地为0～3的整数；在1个Ra中，p、q与r之和为3；Rb在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；Rc在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；k在每次出现时分别独立地为0～3的整数；l在每次出现时分别独立地为0～3的整数；m在每次出现时分别独立地为0～3的整数；在标注α且用括号括起来的单元中，k、l与m之和为3；α分别独立地为1～9的整数；其中，式中至少存在1个R72或Rb]。根据本专利技术的第二要点，提供含有上述式(A1)或式(A2)所示的至少1种化合物的表面处理剂。根据本专利技术的第三要点，提供包括基材、和在该基材的表面由上述表面处理剂形成的层的物品。专利技术的效果根据本专利技术，提供一种新型的含(聚)醚基的硅烷化合物以及含有该化合物的表面处理剂。通过使用该表面处理剂，能够形成即使在附着了指纹的情况下指纹的视认性也低、指纹的痕迹容易消除的表面处理层。具体实施方式以下，对本专利技术的化合物进行说明。在本说明书中使用时，“烃基”意指含有碳和氢的基团，是从烃脱离了1个氢原子而得到的基团。作为这样的烃基，没有特别限定，可以列举可以被1个或1个以上的取代基取代的、碳原子数1～20的烃基、例如脂肪族烃基、芳香族烃基等。上述“脂肪族烃基”为直链状、支链状或环状的任一种均可，饱和或不饱和的任一种均可。另外，烃基可以包含1个或1个以上的环结构。此外，这样的烃基在其末端或分子链中可以具有1个或1个以上的N、O、S、Si、酰胺、磺酰基、硅氧烷、羰基、羰氧基等。在本说明书中使用时，作为“烃基”的取代基，没有特别限定，例如可以列举选自：卤原子；可以被1个或1个以上的卤原子取代的、C1－6烷基、C2－6烯基、C2－6炔基、C3－10环烷基、C3－10不饱和环烷基、5～10元的杂环基、5～10元的不饱和杂环基、C6－10芳基和5～10元的杂芳基中的1个或1个以上的基团。在本说明书中使用时，“2～10价的有机基团”意指含碳的2～10价的基团。作为这样的2～10价的有机基团，没有特别限定，可以列举从烃基再脱离1～9个氢原子而得到的2～10价的基团。例如，作为2价的有机基团，没有特别限定，可以列举从烃基再脱离1个氢原子而得到的2价的基团。本专利技术提供下述通式(A1)或(A2)所示的至少1种含(聚)醚基的硅烷化合物。R1-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRakRblRcm)α…(A1(RcmRblRakSi)α-X-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRakRblRcm)α…(A2)上述式(A1)或(A2)中，R1表示OR4。R4表示氢原子或碳原子数1～20的烷基。该碳原子数1～20的烷基既可以为直链，也可以为支链，优选为直链。碳原子数1～20的烷基优选为碳原子数1～10的烷基，更优选为碳原子数1～6的烷基。具体而言，碳原子数1～20的烷基优选为甲基、乙基或正丙基，更优选为甲基。R4优选为氢原子或甲基，更优选为氢原子。上述式(A1)或(A2)中，PE1在每次出现时分别独立地为下述式所示的基团：-(CaH2aO)b-(式中：a在每个标注b且用括号括起来的单元中分别独立地为1～6的整数，优选为2～4的整数；b在每次出现时分别独立地为1～200的整数，优选为5～200的整数，更优选为5～100的整数，进一步优选为5～本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种下述通式(A1)或(A2)所示的化合物，其中，R

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.12 JP 2015-119825;2015.10.15 JP 2015-203611.一种下述通式(A1)或(A2)所示的化合物，其中，R1-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRakRblRcm)α…(A1)(RcmRblRakSi)α-X-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRakRblRcm)α…(A2)式中：R1表示OR4；R4表示氢原子或碳原子数1～20的烷基；PE1在每次出现时分别独立地为式：-(CaH2aO)b-所示的基团，式-(CaH2aO)b-中：a在每个标注b且用括号括起来的单元中分别独立地为1～6的整数，其中，在式(A1)或(A2)中，在至少1个单元中a为4，-(C4H8O)-单元为-(CH2CH2CH2CH2O)-，b在每次出现时分别独立地为1～200的整数；Y在每次出现时分别独立地表示单键或-CONH-R5-NHCOO-；R5在每次出现时分别独立地表示二价的有机基团；n为1～50的整数；PE2表示单键或上述-(CaH2aO)b-基；X分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；Ra在每次出现时分别独立地表示-Z-SiR71pR72qR73r；Z在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团；R71在每次出现时分别独立地表示Ra′；Ra′的意义与Ra相同；Ra中，经由Z基以直链状连结的Si最多为5个；R72在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；R73在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；p在每次出现时分别独立地为0～3的整数；q在每次出现时分别独立地为0～3的整数；r在每次出现时分别独立地为0～3的整数；在1个Ra中，p、q与r之和为3；Rb在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；Rc在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；k在每次出现时分别独立地为0～3的整数；l在每次出现时分别独立地为0～3的整数；m在每次出现时分别独立地为0～3的整数；在标注α且用括号括起来的单元中，k、l与m之和为3；α分别独立地为1～9的整数；其中，式中至少存在1个R72或Rb。2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于：该化合物由式(A1)表示，R1-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRakRblRcm)α…(A1)式中，R1、PE1、PE2、X、Y、Ra、Rb、Rc、k、l、m、n和α的意义与权利要求1的记载相同。3.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：PE1和PE2中的－(CaH2aO)b－分别独立地为下式所示的基团：－(C4H8O)c－(C3H6O)d－(C2H4O)e－式中：c、d和e分别独立地为0～200的整数；c、d与e之和为1～200；标注下标c、d或e且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。4.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：本多义昭，森安礼奈，胜间希望，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP