除草化合物制造技术

本发明专利技术涉及具有式(I)的除草杂芳基‑烷基‑氧基‑取代的杂芳基/苯基‑哒嗪‑二酮和杂芳基‑烷基‑氧基‑取代的杂芳基‑/苯基‑哒嗪酮衍生物，以及用于制备此类衍生物的方法和中间体。本发明专利技术进一步延伸到包括此类衍生物的除草组合物，连同此类化合物和组合物在有用植物的作物中控制不希望的植物生长中的用途，特别是在控制杂草例如阔叶双子叶杂草中的用途。

Herbicides

The invention relates to a type (I) herbicidal heteroaryl alkyl alkoxy substituted heteroaryl phenyl / pyridazine two ketone and heteroaryl alkyl alkoxy substituted heteroaryl / phenyl pyridazinone derivatives, and methods and intermediates for the preparation of such derivatives. The invention further extends to the herbicidal composition including such derivatives, together with such compounds and compositions, in controlling the growth of the plants which are not useful in useful plant crops, especially in controlling weeds, such as broad-leaved dicotyledonous weeds.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】除草化合物本专利技术涉及具有式(I)的除草杂芳基-烷基-氧基-取代的杂芳基/苯基-哒嗪-二酮和杂芳基-烷基-氧基-取代的杂芳基-/苯基-哒嗪酮衍生物，以及用于制备此类衍生物的方法和中间体。本专利技术进一步延伸到包括此类衍生物的除草组合物，以及此类化合物和组合物在有用植物的作物中控制不希望的植物生长中的用途，特别是在控制杂草例如阔叶双子叶杂草中的用途。除草哒嗪酮是从WO2009/086041已知的。此外，除草5/6元杂环基取代的哒嗪酮是从WO2011/045271已知的。同时WO2013/160126描述了吲哚基-哒嗪酮衍生物，这些衍生物展示出了除草活性。本专利技术是基于以下发现，即具有式(I)的杂芳基-烷基-氧基-取代的杂芳基/苯基-哒嗪-二酮和杂芳基-烷基-氧基-取代的杂芳基-/苯基-哒嗪酮衍生物展示了出人意料良好的除草活性。因此，在第一方面，提供了一种具有式(I)的化合物或者其盐或N-氧化物，R1选自下组，该组由以下各项组成：C1-C4烷基、C3-C6环烷基、C1-C2烷氧基-C1-C2烷基、C2-C4烯基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基和C2-C4卤代炔基；R2选自下组，该组由以下各项组成：氢、卤素、氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C3卤代烷氧基-C1-C3烷基-、C1-C6烷氧基、C1-C3烷氧基-C1-C3烷基、C1-C3烷氧基-C1-C3烷氧基-C1-C3烷基-、C3-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C1-C6羟烷基-、C1-C6烷基羰基-、C1-C6烷基-S(O)m-、氨基、C1-C6烷基氨基、C1-C6二烷基氨基、-C(C1-C3烷基)＝N-O-C1-C3烷基和C2-C6卤代炔基；G是氢、或C(O)R3；R3选自下组，该组由以下各项组成：C1-C6烷基、C1-C6烯基、C1-C6炔基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基-S-、-NR4R5和任选地被一个或多个R6取代的苯基；R4和R5独立地选自由C1-C6烷基和C1-C6烷氧基组成的组，或者R4和R5一起可以形成吗啉基环；R6选自下组，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基以及C1-C3卤代烷氧基；以及T是包含1、2或3个独立地选自氮、氧和硫的杂原子的5或6元单环杂芳基环系统，所述5元环系统被一个或多个选自X、Y和R7的基团取代，并且所述6元环系统被一个或多个选自X1、X2、X3、X4和R7的基团取代，并且其中该氧基-烷基-D部分和该哒嗪二酮/哒嗪酮部分经由环T连接，使得它们相对于彼此位于邻位；或者T是具有式(Tp)的经取代的苯环每个X、X3、X23以及每个Y独立地是氢、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、或卤素；X1是氧代基(oxo)、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、或卤素；X2和X4独立地是氢、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、氧代基、或卤素；X21是C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、或卤素；X22和X24独立地是氢、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、或卤素；R7是氢、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基；A表示与该氧基-烷基-D部分的附接点并且B表示与该哒嗪二酮/哒嗪酮部分的附接点；并且D是包含1、2或3个独立地选自氧、氮和硫的杂原子的经取代的或未经取代的5或6元单环杂芳基环，并且其中当D被取代时，其在至少一个具有R8的环碳原子上和/或具有R9的环氮原子上被取代；每个R8独立地是氧、羟基、卤素、氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C3卤代烷氧基-C1-C3烷基-、C1-C6烷氧基、C1-C3烷氧基-C1-C3烷基、C1-C3烷氧基-C1-C3烷氧基-C1-C3烷基-、C3-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C1-C6羟基烷基-、C1-C6烷基羰基-、C1-C6烷基-S(O)m-、氨基、C1-C6烷基氨基、C1-C6二烷基氨基、-C(C1-C3烷基)＝N-邻位C1-C3烷基和C2-C6卤代炔基；每个R9独立地是C1-C4烷基、C3-C6烷氧基、C1-C2烷氧基-C1-C2烷基、C2-C4烯基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基或C2-C4卤代炔基；以及M是0、1或2的整数。具有式(I)的化合物可以包含不对称中心或手性轴并且可以作为单一对映异构体、以任何比例的对映异构体对而存在，或在存在多于一个不对称中心/手性轴的情况下，包含所有可能比率的非对映异构体。通常，与其他可能性相比，这些对映异构体之一具有增强的生物活性。类似地，在存在双取代烯烃的情况下，这些可以以E或Z形式或作为任何比例的二者的混合物而存在。此外，具有式(I)的化合物可以与替代的互变异构形式处于平衡。例如，具有式(I-i)的化合物，即具有式(I)，其中R2是氢并且G是氢的化合物可以被绘为至少三种互变异构形式：应当理解的是，所有互变异构形式(单一互变异构体或其混合物)、外消旋混合物和单一异构体被包括在本专利技术的范围内。每个烷基部分单独或者作为较大基团(如烷氧基、烷硫基、烷氧基羰基、烷基羰基、烷氨基羰基或二烷氨基羰基等)的一部分可以是直链或支链的。典型地，该烷基是例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、新戊基、或正己基。这些烷基基团通常是C1-C6烷基基团(除了在已经更狭窄地定义的情况下)，但优选地是C1-C4烷基或C1-C3烷基基团，并且更优选地是C1-C2烷基基团(例如甲基)。烯基和炔基部分可以处于直链或支链的形式，并且这些烯基部分适当时可以是具有(E)-或(Z)-构型。烯基或炔基部分典型地是C2-C4烯基或C2-C4炔基，更确切地说是乙烯基、烯丙基、乙炔基、炔丙基或丙-1-炔基。烯基与炔基部分能以任何组合包含一个或多个双和/或三键；但是优选地仅包含一个双键(对于烯基)或仅包含一个三键(对于炔基)。优选地，术语环烷基是指环丙基、环丁基、环戊基或环己基。卤素(或卤代)包含氟、氯、溴或碘。该卤素对应地应用于其他定义背景下的卤素，如卤代烷基或卤代苯基。具有从1至6个碳原子链长的卤代烷基基团是，例如氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、2,2,2-三氟乙基、2-氟乙基、2-氯乙基、五氟乙基、1,1-二氟-2,2,2-三氯乙基、2,2,3,3-四氟乙基和2,2,2-三氯乙基、七氟正丙基以及全氟正己基。烷氧基基团优选地具有从1至6个碳原子的链长。烷氧基是，例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基或叔丁氧基或戊氧基或己氧基异构体，优选地是甲氧基和乙氧基。还应当领会的是，两个烷氧基取代基可以存在于相同碳原子上。卤代烷氧基是，例如氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、2,2,2-三氟乙氧基、1,1,2,2-四氟乙氧基、2-氟乙氧基、2-氯乙氧基、2,2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有式(I)的化合物

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.30 GB 1507464.41.一种具有式(I)的化合物或者其盐或N-氧化物，R1选自下组，该组由以下各项组成：C1-C4烷基、C3-C6环烷基、C1-C2烷氧基-C1-C2烷基、C2-C4烯基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基和C2-C4卤代炔基；R2选自下组，该组由以下各项组成：氢、卤素、氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C3卤代烷氧基-C1-C3烷基-、C1-C6烷氧基、C1-C3烷氧基-C1-C3烷基、C1-C3烷氧基-C1-C3烷氧基-C1-C3烷基-、C3-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C1-C6羟烷基-、C1-C6烷基羰基-、C1-C6烷基-S(O)m-、氨基、C1-C6烷基氨基、C1-C6二烷基氨基、-C(C1-C3烷基)＝N-O-C1-C3烷基和C2-C6卤代炔基；G是氢、或C(O)R3；R3选自下组，该组由以下各项组成：C1-C6烷基、C1-C6烯基、C1-C6炔基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基-S-、-NR4R5以及任选地被一个或多个R6取代的苯基；R4和R5独立地选自下组，该组由以下各项组成：C1-C6烷基和C1-C6烷氧基，或R4和R5一起可以形成吗啉基环；R6选自下组，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基以及C1-C3卤代烷氧基；并且T是包含1、2或3个独立地选自氮、氧和硫的杂原子的5或6元单环杂芳基环系统，所述5元环系统被一个或多个选自X、Y和R7的基团取代，并且所述6元环系统被一个或多个选自X1、X2、X3、X4和R7的基团取代，并且其中该氧基-烷基-D部分和该哒嗪二酮/哒嗪酮部分经由环T连接，使得它们相对于彼此位于邻位；或者T是具有式(Tp)的经取代的苯环每个X、X3、X23以及每个Y独立地是氢、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、或卤素；X1是氧代基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、或卤素；X2和X4独立地是氢、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、氧代基、或卤素；X21是C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、或卤素；X22和X24独立地是氢、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、或卤素；R7是氢、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基；A表示与该氧基-烷基-D部分的附接点并且B表示与该哒嗪二酮/哒嗪酮部分的附接点；并且D是包含1、2或3个独立地选自氧、氮和硫的杂原子的经取代的或未经取代的5或6元单环杂芳基环，并且其中当D被取代时，其在至少一个具有R8的环碳原子上和/或具有R9的环氮原子上被取代；每个R8独立地是氧、羟基、卤素、氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C3卤代烷氧基-C1-C3烷基-、C1-C6烷氧基、C1-C3烷氧基-C1-C3烷基、C1-C3烷氧基-C1-C3烷氧基-C1-C3烷基-、C3-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C1-C6羟基烷基-、C1-C...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·E·沙纳翰，T·J·C·奥里奥尔丹，
申请(专利权)人：先正达参股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士,CH