用于射频皮肤处理的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于RF皮肤处理的装置(100)，其包括有源电极(1)，该有源电极(1)布置在该装置的操作侧面(15)上，并且具有用于与用户皮肤接触的第一皮肤接触面，该第一皮肤接触面具有小于或等于2mm的最大横截面尺寸。该装置包括回流电极(2)，该回流电极(2)布置在该装置的操作侧面(15)上，并且具有用于与用户皮肤接触的第二皮肤接触面，其中第二皮肤接触面的面积是第一皮肤接触面的面积的至少五倍大。RF发生器(21)布置成在有源电极(1)和回流电极(2)之间供应RF处理电压，以便加热有源电极下方的皮肤区域，其中RF处理电压具有在100MHz–3GHz范围内的频率。与使用可比RF处理电压、但是频率低得多的RF皮肤处理装置相比，通过使用所述范围内的RF处理电压频率，作为施加该RF处理电压的结果，在有源电极下方形成的热损伤深度显著增加。

A device for radiofrequency skin treatment

The invention relates to a device for RF skin treatment (100), which includes an active electrode (1), the active electrode (1) arranged on the operating side of the device (15), and having a first skin contact surface in contact with the user's skin, the first skin contact mask has the maximum cross-sectional dimension less than or equal to 2mm. The device comprises a back electrode (2), the return electrode (2) arranged on the operating side of the device (15), and has a second skin contact surface in contact with the user's skin, second skin contact surface area is at least five times as large as the first skin contact surface area. The RF generator (21) is arranged to supply RF processing voltage between the active electrode (1) and the reflux electrode (2), so as to heat the skin area beneath the active electrode, and the RF processing voltage has the frequency in the range of 100MHz to 3GHz. Compared with the RF skin treatment device with comparable RF processing voltage and much lower frequency, the thermal damage depth formed under the active electrode is significantly increased by processing the voltage frequency in the range RF as the result of applying the RF processing voltage.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于射频皮肤处理的装置
本专利技术涉及用于皮肤处理的装置，特别是用于人皮肤的射频(RF)处理的装置。该装置主要适用于部分RF皮肤处理，特别是用于嫩肤。
技术介绍
射频(RF)通常用于皮肤紧致的专业和家用美学市场两者中。在真皮层面处大体积加热的能力使得射频技术成为皮肤紧致和处理皮肤松弛的标准。与基于激光的皮肤处理装置相比，RF皮肤处理装置具有相对较低的成本价格，并且可以提供更大体积的皮肤的处理和更深皮肤组织的处理。此外，皮肤组织的RF能量耗散不依赖于发色团的光吸收，以使组织色素沉着不会干扰能量递送。在皮肤表面对组织的RF能量递送的基本原理是：在具有皮肤的闭合电路中施加交变RF电流。皮肤组织阻抗直接影响加热的程度。RF电流更容易通过具有高电导率(即低电阻)的皮肤组织传播，而具有高电阻(即高阻抗和低电导率)的皮肤组织是RF能量的差导体。RF能量采取通过皮肤组织的具有最小电阻的路径，并且主要归因于分子振动而消散为热能。除了皮肤紧致之外，用于RF皮肤处理的越来越多的应用是嫩肤，其中使用一个或多个小的有源电极，在皮肤中同时产生部分热损伤。近来，针对使用射频装置进行嫩肤的美学市场，已经开始推出不同的专业装置。嫩肤是不同消费者益处的组合，诸如均匀肤色、减少色素沉着斑点、改善光泽和纹理、以及减少细纹。在这种处理中，能量用于主要伤害角质层和表皮(包括真皮–表皮接合部)，以及可能伤害真皮的顶部。传统地，通过水高度吸收的激光波长的烧蚀或非烧蚀设置来进行嫩肤处理，其中烧蚀处理使皮肤蒸发并在皮肤中产生中空柱，并且非烧蚀处理将皮肤加热至65℃–100℃之间的温度，以启动细胞坏死、胶原蛋白变性和收缩、以及最终胶原蛋白重塑。部分处理的优点主要归因于产生足够小的而不诱导组织瘢痕化并相对快愈合的微观热损伤的能力。根据文献，部分热损伤的尺寸应小于0.5mm，以避免瘢痕化和其他副作用(例如感染)。另一方面，部分处理的功效也取决于微观热损伤的深度，因为该处理还应导致真皮中胶原蛋白的热变性以引起真皮再生和复原。因此，理想的情况是当部分处理产生具有小的横截面面积和大的穿透深度的单一热损伤(即具有大的深度宽度比的热损伤)时。为了改善RF皮肤处理装置的安全性，最近提出了一种家用装置，该装置包括双极电极配置。利用该装置，非常小的有源内部电极和围绕内部电极的较大的外部回流电极两者都与皮肤接触，并且以1MHz至40MHz之间的频率向皮肤施加小于50V的RF处理电压。利用该RF处理装置，RF能量的热穿透深度大约是有源内部电极直径的0.5倍，以使实际上具有约200微米的穿透深度的热损伤借助于具有约400微米直径的有源内部电极实现。WO2012/023129A1公开了一种部分RF皮肤处理装置，该装置具有直径在100微米和2000微米之间的范围内的有源电极，该有源电极被大得多的回流电极围绕。该装置以350kHz和10MHz之间的范围内的频率施加50伏特和400伏特之间的范围内的RF处理电压。US2014/0249609A1公开了一种系统，该系统用于将电磁能通过皮肤表皮层施加到下面的真皮和/或真皮下组织以及下面的胶原蛋白组织，以引起脂解和胶原蛋白重塑的加速。该系统包括一个或多个电容施用器，以在不接触皮肤的情况下产生穿过皮肤的电磁场。施用器被放置在由电介质或非导电材料制成的间隔物的顶部上，以设置施用器和皮肤之间的间隔距离。施用器可以是双极电极，其中电极备选地具有有源和回流功能。该系统包括高频发生器，该高频发生器可以生成电磁场，优选地在13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz或2.45GHz，以避免产生无线电干扰。US2009/0018628A1公开了一种设备，该设备用于通过跨大组织区域递送高频能量来处理皮肤状况。该设备包括手持件、可释放地与手持件联接的处理尖端、以及由处理尖端承载的能量递送构件。能量递送构件与高频电源电耦合，该高频电源具有在电磁频谱的射频区域中的、特别是在几百kHz至约60MHz的范围内的工作频率，以赋予处理患者皮肤表面下方的目标组织的治疗效果。该设备还包括无源回流电极，该无源回流电极与高频电源的负电压极性端子电耦合，物理地附接到患者的远离处理尖端的身体表面。US6,228,078B1公开了一种用于处理患者外部身体表面的方法，其中电极端子被定位为紧密靠近外部身体表面上的目标位点，并且其中将高频电能施加到电极端子，足以去除外部身体表面的层，并且实现在所述层下面的组织内的胶原蛋白纤维的收缩。电极端子包括电极阵列以及回流电极，该电极阵列分布在端子的接触表面上。施加在回流电极和电极阵列之间的电压处于射频水平，通常在约5kHz至20MHz之间，更优选地小于350kHz，最优选地在约100kHz至200kHz之间。WO2012/029065A2公开了一种用于处理患者皮肤的自操作装置，其包括：具有第一侧和第二侧的基底；布置在所述基底中的多个RF电极，所述RF电极被配置成发射从所述第一侧向所述皮肤的表面的RF辐射；被配置成生成到所述RF电极的电流脉冲的至少一个RF发生器；以及连接到所述至少一个RF发生器的控制单元，所述控制单元适于控制所述RF电极的操作，其中所述控制单元适于根据预定的处理方案来控制所述RF电极的操作，以使所述控制单元根据预定的模式以任何预定的时间间隔激活或停用所述RF电极中的至少一个，以便实现特定的治疗结果。该装置在约1Hz至约100MHz之间的预定频率下工作。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种用于RF皮肤处理的改善装置，与已知的RF皮肤处理装置相比，该改善装置在皮肤组织中生成具有增加的穿透深度和增加的深度宽度比的非烧蚀部分热损伤，同时使用相对低的RF处理电压。根据第一方面，本专利技术提供了一种用于RF皮肤处理的装置，其包括有源电极，该有源电极布置在装置的操作侧面上，并且具有用于与用户的皮肤接触的第一皮肤接触面，该第一皮肤接触面具有小于或等于2mm的最大横截面尺寸。该装置还包括回流电极，该回流电极布置在装置的操作侧面上，并且具有用于与用户的皮肤接触的第二皮肤接触面，其中第二皮肤接触面的面积是第一皮肤接触面的面积的至少五倍大。该装置还包括RF发生器，该RF发生器布置成在有源电极和回流电极之间供应RF处理电压，以便加热有源电极下方的皮肤区域，其中RF处理电压具有在100MHz–3GHz范围内的频率。与根据现有技术的部分RF皮肤处理装置相比，根据本专利技术，使用高得多的RF处理电压频率。这种相对高的频率的结果是，在双极电极配置的小尺寸有源电极下方的RF能量的较深的热穿透深度，导致在有源电极下方的更深的热损伤，其也具有改善的(即更高的)深度宽度比。在根据本专利技术的装置的一个优选实施例中，RF处理电压的频率在500MHz–1.5GHz的范围内。模拟已经示出：通过使用500MHz–1.5GHz范围内的频率，实现有源电极下方的部分热损伤的最佳穿透深度和最佳深度宽度比。对于直径为200微米、施加频率为1GHz以及脉冲持续时间为50ms的RF能量脉冲的有源电极，热损伤深度为使用频率为1MHz的可比RF能量脉冲实现的热损伤深度的约1.5倍。使用更高频率的RF处理电压的另一个优点是提高了将RF能量转换成皮肤组织中的热量的效率，这导致在皮肤组织中达到特定温度所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于RF皮肤处理的装置(100)，包括：有源电极(1)，被布置在所述装置的操作侧面(15)上，并且具有用于与用户的皮肤接触的第一皮肤接触面，所述第一皮肤接触面具有小于或等于2mm的最大横截面尺寸；回流电极(2)，被布置在所述装置的所述操作侧面(15)上，并且具有用于与所述用户的所述皮肤接触的第二皮肤接触面，所述第二皮肤接触面的面积是所述第一皮肤接触面的面积的至少五倍大；RF发生器(21)，被布置成在所述有源电极(1)与所述回流电极(2)之间供应RF处理电压，以便加热所述有源电极下方的皮肤区域，其特征在于，所述RF处理电压具有在100MHz–3GHz的范围内的频率。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.28 EP 15165369.81.一种用于RF皮肤处理的装置(100)，包括：有源电极(1)，被布置在所述装置的操作侧面(15)上，并且具有用于与用户的皮肤接触的第一皮肤接触面，所述第一皮肤接触面具有小于或等于2mm的最大横截面尺寸；回流电极(2)，被布置在所述装置的所述操作侧面(15)上，并且具有用于与所述用户的所述皮肤接触的第二皮肤接触面，所述第二皮肤接触面的面积是所述第一皮肤接触面的面积的至少五倍大；RF发生器(21)，被布置成在所述有源电极(1)与所述回流电极(2)之间供应RF处理电压，以便加热所述有源电极下方的皮肤区域，其特征在于，所述RF处理电压具有在100MHz–3GHz的范围内的频率。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述RF处理电压的频率在500MHz–1.5GHz的范围内。3.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·A·帕勒洛，M·巴拉格纳，M·朱纳，B·瓦尔格斯，H·H·范阿麦龙根，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL