用于控制流并且用于中断流路的真空阀制造技术

用于控制流并且用于中断流路的真空阀。用于控制流的真空阀具有阀座，包括限定开口轴线的阀开口和围绕开口并限定第一密封平面的第一密封表面；带对应于第一密封表面且限定第二密封平面的第二密封表面的阀盘；第一联接元件，连接到阀盘且包括接纳装置，用于提供阀盘的受控引导；驱动单元，与第一联接元件联接且构造为使阀盘能从打开位置调整到关闭位置并返回，在打开位置阀盘和阀座彼此以无接触方式存在，在关闭位置第二密封表面借助密封件压靠第一密封表面。驱动单元和阀盘构造和相互作用，使得阀盘能调整到精细控制位置，其中阀盘相对于阀座以限定方式倾斜，使得第一和第二密封平面围成限定角度，密封件充分紧靠一个密封表面且仅部分紧靠另一个。

A vacuum valve used to control the flow and to use to interrupt the flow.

A vacuum valve used to control the flow and to be used to interrupt the flow. For the control flow of the vacuum valve has a valve including a valve opening and opening axis around the opening and defining a first sealing plane with the first sealing surface; corresponding to the first sealing surface and the sealing surface second defining second sealing valve disc surface; the first connecting element connected to the valve disc and includes a receiving device for providing controlled the valve disc guide; drive unit, and the first connecting element is connected and configured so that the valve disc can be adjusted to the closed position from the open position and return, in the open position the valve disc and valve seat to each other without any contact, in the closed position with second sealing surface to seal against the first sealing surface. The driving unit and the valve disc structure and interaction, so that the valve disc can be adjusted to control the fine position relative to the valve seat valve plate to define a way to tilt, so that the first and second sealing plane around a defined angle, close to a full seal sealing surface and only partially close to another.

【技术实现步骤摘要】
用于控制流并且用于中断流路的真空阀
本专利技术涉及一种真空控制阀，该真空控制阀具有阀盘和按照至少三级用于该阀盘的导向件。
技术介绍
一般而言，从现有技术中已知用于以基本上气密的方式关闭穿过形成在阀壳体中的开口的流路的真空阀的不同的实施方式。特别地，必须在尽可能不存在污染微粒子的受保护大气中发生的IC和半导体制造的领域中，使用真空滑动阀。例如，在半导体晶片或液晶基板的生产工厂中，高度敏感的半导体或液晶元件顺序地穿过数个工艺室，其中位于工艺室内部的半导体元件在每种情况下借助于一个处理设备被处理。在工艺室内部的处理工艺期间以及在从工艺室到工艺室的传输期间，高度敏感的半导体元件总是必须位于受保护大气中-特别在真空中。工艺室例如借助于连接通路连接在一起，能够借助于用于将零件从一个工艺室传递到下一个工艺室的真空滑动阀来打开工艺室并且然后关闭它们从而以气密方式执行相应的生产步骤。这些类型的阀由于所描述的应用领域也被称为真空传递阀并且由于它们的矩形横截面开口也被称为矩形滑动器。另外，当使用传递阀时，在高度敏感的半导体元件的生产期间，必须使特别通过阀的致动并且通过阀封闭构件上的机械载荷所导致的粒子产生本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空阀(10、20、30、40)，特别是真空控制阀，所述真空阀(10、20、30、40)用于控制体积流或质量流并且用于以气密方式中断流路，所述真空阀(10、20、30、40)具有·阀座(12、22、32、42)，所述阀座(12、22、32、42)包括限定开口轴线(A)的阀开口(16、26、36、46)、以及围绕所述阀开口(16、26、36、46)并且限定第一密封平面(ES)的第一密封表面(13、23、33)，·阀盘(11、21、31、41)，所述阀盘(11、21、31、41)用于控制所述体积流或质量流并且用于中断所述流路，具有对应于所述第一密封表面(13、23、33)的第二密封表面(14、...

【技术特征摘要】
2016.06.14 EP 16174376.01.一种真空阀(10、20、30、40)，特别是真空控制阀，所述真空阀(10、20、30、40)用于控制体积流或质量流并且用于以气密方式中断流路，所述真空阀(10、20、30、40)具有·阀座(12、22、32、42)，所述阀座(12、22、32、42)包括限定开口轴线(A)的阀开口(16、26、36、46)、以及围绕所述阀开口(16、26、36、46)并且限定第一密封平面(ES)的第一密封表面(13、23、33)，·阀盘(11、21、31、41)，所述阀盘(11、21、31、41)用于控制所述体积流或质量流并且用于中断所述流路，具有对应于所述第一密封表面(13、23、33)的第二密封表面(14、24)，其中，所述第二密封表面(14、24)限定第二密封平面(ET)，所述阀盘(11、21、31、41)的可变化的位置通过所述阀盘(11、21、31、41)的相应的位置和对准来确定，·第一联接元件(38、48)，所述第一联接元件(38、48)连接到所述阀盘(11、21、31、41)并且包括接纳装置，用于提供所述阀盘(11、21、31、41)的受控引导，以及·驱动单元(39、49)，所述驱动单元(39、49)与所述第一联接元件(38、48)联接，特别地借助于所述接纳装置，并且构造为使得所述阀盘(11、21、31、41)能在纵向关闭方向上至少基本上沿着几何纵向轴线从打开位置调整到关闭位置并且返回，o在所述打开位置中，所述阀盘(11、21、31、41)和所述阀座(12、22、32、42)相对于彼此以无接触方式存在，o在所述关闭位置中，由于位于所述第一密封表面(13、23、33)与所述第二密封表面(14、24)之间的密封件(15、25、35、45)而在所述第一密封表面(13、23、33)与所述第二密封表面(14、24)之间存在轴向密封接触，并且所述阀开口(16、26、36、46)因此以气密方式关闭，其特征在于所述驱动单元(39、49)和所述阀盘(11、21、31、41)如此构造和相互作用，特别是如此联接，使得所述阀盘(11、21、31、41)能调整到精细控制位置，其中·所述阀盘(11、21、31、41)相对于所述阀座(12、22、32、42)以限定方式倾斜，使得所述第一密封平面(ES)和所述第二密封平面(ET)围成限定角度(α)，并且·所述密封件(15、25、35、45)充分地紧靠所述第一密封表面(13、23、33)或所述第二密封表面(14、24)并且仅部分地紧靠相应的另一个密封表面(13、23、33、14、24)。2.根据权利要求1所述的真空阀(10、20、30、40)，其特征在于，所述驱动单元(39、49)和所述阀盘(11、21、31、41)构造和联接为使得当将所述阀盘(11、21、31、41)从所述打开位置调整到所述关闭位置或者从所述关闭位置调整到所述打开位置时，所述阀盘(11、21、31、41)在到达所述关闭位置之前或者说在到达所述打开位置之前呈现所述精细控制位置。3.根据权利要求1或2所述的真空阀(10、20、30、40)，其特征在于，所述阀盘(11、21、31、41)被定位在所述精细控制位置，使得通过所述第二密封表面(14、24)的延伸所限定的所述第二密封平面(ET)向所述开口轴线(A)或者向所述纵向轴线倾斜。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的真空阀(10、20、30、40)，其特征在于·所述第一密封表面(13、23、33)指向与所述开口轴线(A)或纵向轴线平行的方向并且与所述开口轴线(A)或纵向轴线正交地延伸，或者·所述第一密封表面(13、23、33)指向横向于所述开口轴线(A)或纵向轴线的方向并且向与所述开口轴线(A)或纵向轴线正交地延伸的平面倾斜。5.根据权利要求1至4中的任一项所述的真空阀(10、20、30、40)，其特征在于·所述第一密封平面和所述第二密封平面(ES、ET)在所述打开位置和在所述精细控制位置围成限定角度(α)，并且·所述第一密封平面和所述第二密封平面(ES、ET)在所述关闭位置基本上平行地对准。6.根据权利要求1至5中的任一项所述的真空阀(10、20、30、40)，其特征在于，所述阀盘(11、21、31、...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·内策，丹尼尔·塞茨，H·松德雷格，
申请(专利权)人：VAT控股公司，
类型：发明
国别省市：瑞士,CH