抗敏修护面膜制造技术

本发明专利技术公开一种抗敏修护面膜，包括以下组分：水、双丙甘醇、甘油、甲基丙二醇、蘑菇葡聚糖、舒敏佳、油橄榄果提取物、牛奶皮肤调理剂、尿囊素、透明质酸钠、生物糖胶‑1、PEG‑40 氢化蓖麻油、EDTA二钠、GPL防腐剂、羟苯甲酯和香精。本发明专利技术使用的原料性质温和，无刺激，无毒、无副作用，具有舒缓敏感、消炎杀菌、收敛修复皮肤、活化皮肤细胞、增强肌肤抵抗力、恢复皮肤生理功能的显著功效，能能迅速缓解由于皮肤过敏引起的红肿疼痛，收敛修复敏感受损细胞，深层渗透肌肤，持续补充肌肤营养和水分，长效锁水保湿，在补水的同时起到滋养作用，达到长久养颜的效果。

Anti sensitive masks

The invention discloses an anti allergy mask, which comprises the following components: water, dipropylene glycol, glycerol, propylene glycol methyl, mushroom glucan, Shu Minjia, olive fruit extract, milk skin conditioners, allantoin, sodium hyaluronate, biological Gum 1, PEG 40 hydrogenated castor oil, EDTA two sodium, GPL preservatives, methylparaben and flavor. The properties of material used in the invention is mild, non-toxic, no stimulation, no side effects, soothing sensitive, anti-inflammatory effects of sterilization, convergence skin, repair skin cell activation, enhance the skin resistance and restore the physiological function of the skin, can quickly relieve the skin allergy caused by swelling and pain, repair damaged cells sensitive to convergence, deep continue to penetrate the skin, replenish nutrition and moisture, long-lasting moisturizing and nourishing effect to replenishment at the same time, to achieve a lasting beauty effect.

【技术实现步骤摘要】
抗敏修护面膜
本专利技术涉及护肤品
，特别是抗敏修护面膜。
技术介绍
随着人们生活节奏的加快、工作压力的增大以及饮食结构的变化，过敏性人群快速增长。据不完全统计，过敏病患已经占世界人口五分之二，在全球范围内，自我感觉过敏性肌肤的人群越来越多，皮肤过敏已经成为影响人类健康的社会问题，也是学者们研究的热点问题。目前天然抗敏添加剂的开发多以单一抗炎途径实现抗敏功效，虽然可以一定程度上改善肌肤敏感问题，却无法满足消费者期望从“皮肤养生”的角度出发、整体综合改善肌肤敏感状态的护肤诉求。以整体观为指导，皮肤科学为基础，结合化妆品属性，将传统中医理论与现代科学技术相结合，研究开发特色植物功效原料具有独特的优势。中医认为，皮肤敏感是“风、湿、热、毒”侵袭肌肤，结合古人“治风先治血，血形风自灭”等论述，从“玉屏风散方”等传统组方中汲取灵感，以御屏固表、祛风散邪、清热解毒为原则，思考抗敏功效化妆品植物功效原料新思路，具有现实的意义和广阔的市场前景。现在市面的绝大部分的抗敏产品只具有舒敏、止痒的功效，其原料种类多而复杂，功效单一，无法满足人们的需求，且制备过程复杂，设备昂贵，不易实现。
技术实现思路
为本文档来自技高网...

【技术保护点】
抗敏修护面膜，其特征在于：包括以下组分：水、双丙甘醇、甘油、甲基丙二醇、蘑菇葡聚糖、舒敏佳、油橄榄果提取物、牛奶皮肤调理剂、尿囊素、透明质酸钠、生物糖胶‑1、PEG‑40 氢化蓖麻油、EDTA二钠、GPL防腐剂、羟苯甲酯和香精。

【技术特征摘要】
1.抗敏修护面膜，其特征在于：包括以下组分：水、双丙甘醇、甘油、甲基丙二醇、蘑菇葡聚糖、舒敏佳、油橄榄果提取物、牛奶皮肤调理剂、尿囊素、透明质酸钠、生物糖胶-1、PEG-40氢化蓖麻油、EDTA二钠、GPL防腐剂、羟苯甲酯和香精。2.根据权利要求1所述的抗敏修护面膜，其特征在于：按照质量百分比计，包括以下组分：水：70-90%，双丙甘醇：2-6%，甘油：2-6%，甲基丙二醇：1-5%，蘑菇葡聚糖：0.5-1.5%，舒敏佳：1-5%，油橄榄果提取物：0.5-2.5%，牛奶皮肤调理剂：0.1-0.5%，尿囊素：0.1-0.3%，透明质酸钠：0.005-0.015%，生物糖胶-1：0.2-0.6%，PEG-40氢化蓖麻油：0.01-0.03%，EDTA二钠：0.03-0.07%，GPL防腐剂：0.1-0.3%，羟苯甲酯：0.05-0.15%和香精：0.005-0.015%。3.根据权利要求2所述的抗敏修护面膜，其特征在于：按照质量百分比计，包括以下组分：水：82.21%，双丙甘醇：4%，甘油：4%，甲基丙二醇：3%，蘑菇葡聚糖：1%，舒敏佳：3%，油橄榄果提取物：1.5%，牛奶皮肤调理剂：0.3%，尿囊素：0.2%，透明质酸钠：0.01%，生物糖胶-1：0.4%，PEG-40氢化蓖麻油：0.02%，EDTA二钠：0.05%，GPL防腐剂：0.2%，羟苯甲酯：0.1%和香精：0.01%。4.根据权利要求1-3任一所述的抗敏修护面膜，其特征在于：包括制备方法如下：⑴将羟苯甲酯用少量甲基丙二...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴成亮，
申请(专利权)人：合肥卡迪尔化妆品有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34