基板输送装置和基板输送方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板输送装置和基板输送方法。抑制从基板的周缘部产生灰尘，并且防止对处理后的基板带来处理前的基板的不良影响。实施方式所涉及的基板输送装置具备第一支承部和第二支承部以及升降机构。第一支承部和第二支承部从基板的下方支承基板。升降机构使第二支承部在第一位置与第二位置之间升降，其中，该第一位置是比固定式的第一支承部的高度高的位置，该第二位置是比第一支承部的高度低的位置。

Transport of substrate and substrate

The present invention provides a substrate conveying device and a substrate conveying method. The inhibition of dust from the periphery of the substrate is suppressed and the adverse effects of the processed substrate on the treated substrate are prevented. The substrate conveying device involved in the implementation mode is provided with a first support part, a second supporting part and a lifting mechanism. The first support part and the second supporting part support the substrate from the bottom of the substrate. The lifting mechanism causes the second supporting part to rise and fall between the first position and the second position, wherein the first position is higher than the height of the first supporting part of the fixed type, and the second position is lower than the height of the first supporting part.

【技术实现步骤摘要】
基板输送装置和基板输送方法
公开的实施方式涉及一种基板输送装置和基板输送方法。
技术介绍
以往，已知一种具备针对半导体晶圆、玻璃基板之类的基板进行规定的基板处理的多个处理部的基板处理装置。关于该基板处理装置中的基板输送，提出了一种技术，该技术的目的在于以不对处理后的基板带来处理前的基板的不良影响的方式向处理部搬入基板以及从处理部搬出基板(例如参照专利文献1)。关于该基板处理装置中的基板输送，提出了一种技术，将用于支承基板的垫以能够通过隔膜泵进行升降的方式设置并将多个该垫设为一组，设置多个该组并按组改变升降状态，由此使处理前的基板的支承位置与处理后的基板的支承位置不同(例如参照专利文献2)。专利文献1：日本特开2002-299405号公报专利文献2：日本特开平08-107136号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，在上述的专利文献1的技术中，将基板倾斜地支承于具有多层的支承面的多个保持部之间，因此导致基板的周缘部与保持部接触，例如在周缘部存在膜等的情况下，有可能发生膜脱落等而从周缘部产生灰尘。另外，在上述的专利文献2的技术中，即使利用隔膜泵进行流体的供排，也无法掌握垫实际上是否随本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板输送装置，其特征在于，具备：第一支承部和第二支承部，所述第一支承部和所述第二支承部从基板的下方支承该基板；以及升降机构，其使所述第二支承部在第一位置与第二位置之间升降，其中，所述第一位置是比固定式的所述第一支承部的高度高的位置，所述第二位置是比所述第一支承部的高度低的位置。

【技术特征摘要】
2016.06.13 JP 2016-117383;2016.06.13 JP 2016-117381.一种基板输送装置，其特征在于，具备：第一支承部和第二支承部，所述第一支承部和所述第二支承部从基板的下方支承该基板；以及升降机构，其使所述第二支承部在第一位置与第二位置之间升降，其中，所述第一位置是比固定式的所述第一支承部的高度高的位置，所述第二位置是比所述第一支承部的高度低的位置。2.根据权利要求1所述的基板输送装置，其特征在于，还具备防偏移构件，该防偏移构件具有比所述第一位置高的高度，被配置在将所述基板的偏移限制在规定的允许范围内的位置。3.根据权利要求1或2所述的基板输送装置，其特征在于，还具备对所述升降机构进行控制的控制部，在输送处理前的所述基板的情况下，所述控制部使所述升降机构将所述第二支承部下降至所述第二位置，在输送处理后的所述基板的情况下，所述控制部使所述升降机构将所述第二支承部上升至所述第一位置。4.根据权利要求1、2或3所述的基板输送装置，其特征在于，在基于被该第二支承部支承的所述基板的规定的基准位置的中心虚拟地描绘的同一同心圆的圆周上等间隔地设置多个所述第二支承部。5.根据权利要求1、2或3所述的基板输送装置，其特征在于，在基于被该第一支承部支承的所述基板的规定的基准位置的中心虚拟地描绘的同一同心...

【专利技术属性】
技术研发人员：森川胜洋，松岛祐大，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP