基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。不改变磷酸水溶液的浓度地将磷酸水溶液的沸腾状态保持固定，实现蚀刻均匀性。基板液处理装置(1)具有液处理部(39)、处理液循环线(42)以及调整设置于液处理部(39)的处理槽(34)的沸腾状态检测部(70)。控制部(7)基于来自沸腾状态检测部(70)的信号对处理液循环线(42)的供给泵(51)进行控制来对供给的流路内的磷酸水溶液的压力进行调整，从而将磷酸水溶液的沸腾状态调整为期望的状态。

A substrate liquid treatment device, a substrate liquid treatment method, and a storage medium

The invention provides a substrate liquid treatment device, a substrate liquid processing method and a storage medium. Without changing the concentration of phosphoric acid solution, the boiling state of the aqueous solution of phosphoric acid is kept in order to achieve the uniformity of etching. The substrate liquid treatment device (1) has a liquid treatment part (39), a processing liquid circulation line (42), and a boiling state detection part (70) adjusted to the treatment slot (34) disposed in the liquid treatment part (39). The control part (7) from the boiling state detection unit (70) based on the signal processing of liquid circulation line (42) the supply pump (51) of phosphoric acid solution to control flow path of the supply pressure adjustment, which will be boiling. The state of adjustment to the expected phosphate aqueous solution.

【技术实现步骤摘要】
基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质
本专利技术涉及利用处理液对基板进行液处理的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。
技术介绍
在制造半导体部件、平板显示器等时，使用基板液处理装置利用蚀刻液等处理液对半导体晶圆、液晶基板等基板实施蚀刻等处理。例如，在专利文献1所公开的基板液处理装置中，进行如下处理：使基板浸在处理槽内贮存的处理液(蚀刻液：磷酸水溶液)中，来对形成于基板的表面的氮化硅膜进行蚀刻。在该基板液处理装置中，将利用纯水将磷酸稀释为规定的浓度而成的磷酸水溶液用作处理液。而且，在基板液处理装置中，以规定的浓度和规定的温度对磷酸水溶液进行加热使其沸腾，来进行蚀刻处理。但是，仅仅这样难以确保蚀刻均匀性，在蚀刻均匀性方面需要改进。专利文献1：日本特开2013-93478号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术是考虑这样的问题而完成的，其目的在于提供一种在磷酸水溶液的处理中能够实现蚀刻均匀性的提高的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。用于解决问题的方案本专利技术是一种基板液处理装置，其特征在于，具备：液处理部，其容纳含有磷酸水溶液的处理液以及基板，并且使用该处理液对所述基板进行处理；处理液供给部，其包括用于向所述液处理部供给所述处理液的供给泵；沸腾状态检测部，其设置于所述液处理部，对所述处理液的沸腾状态进行检测；以及控制部，其基于来自所述沸腾状态检测部的信号对所述供给泵进行控制来对从所述处理液供给部向所述液处理部供给的流路内的处理液的压力进行调整。本专利技术是一种基板液处理方法，其特征在于，具备以下工序：在容纳含有磷酸水溶液的处理液以及基板的液处理部中，使用该处理液对所述基板进行处理的工序；通过包括供给泵的处理液供给部向所述液处理部供给处理液的工序；通过设置于所述液处理部的沸腾状态检测部检测所述处理液的沸腾状态的工序；以及通过控制部基于来自所述沸腾状态检测部的信号对所述供给泵进行控制来对从所述处理液供给部向所述液处理部供给的流路内的处理液的压力进行调整的工序。本专利技术是一种用于使计算机执行基板液处理方法的存储介质，其特征在于，所述基板液处理方法具备以下工序：在容纳含有磷酸水溶液的处理液以及基板的液处理部中，使用该处理液对所述基板进行处理的工序；通过包括供给泵的处理液供给部向所述液处理部供给处理液的工序；通过设置于所述液处理部的沸腾状态检测部检测所述处理液的沸腾状态的工序；以及通过控制部基于来自所述沸腾状态检测部的信号对所述供给泵进行控制来对从所述处理液供给部向所述液处理部供给的流路内的处理液的压力进行调整的工序。专利技术的效果根据本专利技术，通过不改变磷酸水溶液的浓度地将磷酸水溶液的沸腾状态调整为期望的状态，能够实现蚀刻均匀性。附图说明图1是表示基板液处理系统整体的俯视图。图2是表示基板液处理装置的侧视图。图3是表示基板液处理装置的俯视图。图4的(a)、图4的(b)是表示磷酸水溶液的沸腾状态的图。附图标记说明1：蚀刻处理装置(基板液处理装置)；1A：基板液处理系统；7：控制部；8：基板；34：处理槽；39：液处理部；40：磷酸水溶液供给部；41：纯水供给部；42：处理液循环线；44：外槽；51：供给泵；52：过滤器；53：加热器；70：沸腾状态检测部；71：气体喷出管；72：气体供给部；73：背压指示计。具体实施方式下面，参照图1至图4来对本专利技术的实施方式进行说明。首先对组装有基于本专利技术的基板液处理装置1的基板液处理系统1A整体进行叙述。如图1所示，基板液处理系统1A具有承载件输入输出部2、基板组形成部3、基板组载置部4、基板组输送部5、基板组处理部6以及控制部7。其中，承载件输入输出部2用于进行承载件9的输入以及输出，该承载件9将多张(例如25张)基板(硅晶圆)8以水平姿势上下排列地容纳。在该承载件输入输出部2设置有用于载置多个承载件9的承载件台10、用于进行承载件9的输送的承载件输送机构11、暂时保管承载件9的承载件存储部12及13、以及用于载置承载件9的承载件载置台14。在此，承载件存储部12用于在利用基板组处理部6对要成为产品的基板8进行处理之前暂时保管该基板8。另外，承载件存储部13用于在利用基板组处理部6对要成为产品的基板8进行了处理之后暂时保管该基板8。并且，承载件输入输出部2使用承载件输送机构11将从外部输入到承载件台10的承载件9向承载件存储部12、承载件载置台14输送。另外，承载件输入输出部2使用承载件输送机构11将载置于承载件载置台14的承载件9向承载件存储部13、承载件台10输送。输送到承载件台10的承载件9被输出到外部。基板组形成部3将容纳于一个或多个承载件9的基板8组合来形成包括同时被处理的多张(例如50张)基板8的基板组。此外，在形成基板组时，既可以使基板8的表面上形成有图案的面彼此相向地形成基板组，另外也可以使基板8的表面上形成有图案的面全部朝向一个方向地形成基板组。在该基板组形成部3设置有用于输送多张基板8的基板输送机构15。此外，基板输送机构15能够在基板8的输送中途使基板8的姿势从水平姿势变更成垂直姿势或者从垂直姿势变更成水平姿势。并且，基板组形成部3使用基板输送机构15将基板8从载置于承载件载置台14的承载件9向基板组载置部4输送，将形成基板组的基板8载置到基板组载置部4。另外，基板组形成部3利用基板输送机构15将载置于基板组载置部4的基板组向载置于承载件载置台14的承载件9输送。此外，基板输送机构15具有用于支承处理前(利用基板组输送部5输送之前)的基板8的处理前基板支承部和用于支承处理后(利用基板组输送部5输送之后)的基板8的处理后基板支承部这两种基板支承部来作为用于支承多张基板8的基板支承部。由此，防止附着于处理前的基板8等的微粒等转附到处理后的基板8等。基板组载置部4将要利用基板组输送部5在基板组形成部3与基板组处理部6之间输送的基板组暂时载置(待机)于基板组载置台16。在该基板组载置部4设置有用于载置处理前(利用基板组输送部5输送之前)的基板组的输入侧基板组载置台17和用于载置处理后(利用基板组输送部5输送之后)的基板组的输出侧基板组载置台18。1个基板组的多张基板8以垂直姿势前后排列地载置于输入侧基板组载置台17以及输出侧基板组载置台18。而且，在基板组载置部4中，利用基板组形成部3形成的基板组被载置于输入侧基板组载置台17，经由基板组输送部5向基板组处理部6输入该基板组。另外，在基板组载置部4中，从基板组处理部6经由基板组输送部5输出的基板组被载置于输出侧基板组载置台18，向基板组形成部3输送该基板组。基板组输送部5在基板组载置部4与基板组处理部6之间、基板组处理部6的内部之间进行基板组的输送。在该基板组输送部5设置有进行基板组的输送的基板组输送机构19。基板组输送机构19包括沿着基板组载置部4和基板组处理部6配置的轨道20以及一边保持多张基板8一边沿着轨道20移动的移动体21。用于保持以垂直姿势前后排列的多张基板8的基板保持体22以进退自如的方式设置于移动体21。而且，基板组输送部5利用基板组输送机构19的基板保持体22接收被载置于输入侧基板组载置台17的基板组，将该基板组向基板组处理部6交接。另外，基板组输送部5利用基板组输送机构19的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板液处理装置，其特征在于，具备：液处理部，其容纳含有磷酸水溶液的处理液以及基板，并且使用该处理液对所述基板进行处理；处理液供给部，其包括用于向所述液处理部供给所述处理液的供给泵；沸腾状态检测部，其设置于所述液处理部，对所述处理液的沸腾状态进行检测；以及控制部，其基于来自所述沸腾状态检测部的信号对所述供给泵进行控制来对从所述处理液供给部向所述液处理部供给的流路内的处理液的压力进行调整。

【技术特征摘要】
2016.06.09 JP 2016-1156011.一种基板液处理装置，其特征在于，具备：液处理部，其容纳含有磷酸水溶液的处理液以及基板，并且使用该处理液对所述基板进行处理；处理液供给部，其包括用于向所述液处理部供给所述处理液的供给泵；沸腾状态检测部，其设置于所述液处理部，对所述处理液的沸腾状态进行检测；以及控制部，其基于来自所述沸腾状态检测部的信号对所述供给泵进行控制来对从所述处理液供给部向所述液处理部供给的流路内的处理液的压力进行调整。2.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其特征在于，基于来自所述沸腾状态检测部的信号，在所述处理液的沸腾状态激烈的情况下，所述控制部增大来自所述供给泵的所述处理液的压力来抑制流路内的所述处理液的沸腾状态，在所述处理液的沸腾状态平和的情况下，所述控制部减小来自所述供给泵的所述处理液的压力来促进流路内的所述处理液的沸腾状态。3.根据权利要求1或2所述的基板液处理装置，其特征在于，所述处理液供给部包括与所述液处理部连接的处理液循环线，所述供给泵设置于该处理液循环线。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板液处理装置，其特征在于，在所述处理液供给部连接有供给磷酸水溶液的磷酸水溶液供给部和供给纯水的纯水供给部。5.一种基板液处理方法，其特征在于，具备以下工序：在容纳含有磷酸水溶液的处理液以及基板的液处理部中，使用该处理液对所述基板进行处理的工序；通过包括供给泵的处理液供给部向所述液处理部供给处...

【专利技术属性】
技术研发人员：田中裕司，平山司，稻田尊士，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP