COA基板及其制作方法、显示面板技术

本发明专利技术提供了一种COA基板，包括基板以及依次形成于基板上的栅极、栅极绝缘层、有源层、源极、漏极、第一钝化层、色阻层、第二钝化层、像素电极、黑色矩阵和隔离柱，所述像素电极经过孔与漏极接触，还包括用于形成不同高度的隔离柱的垫块，所述垫块设置在与色阻层相同的一层上，所述垫块设置于黑色矩阵的区域中且与隔离柱的位置相对。本发明专利技术还提供了一种COA基板的制作方法以及显示面板。与现有技术相比，从而可以简化制程，降低光罩用的掩模版的使用成本。

COA base plate and its making method and display panel

The invention provides a COA substrate, comprises a substrate and a gate gate are formed on a substrate insulating layer, an active layer, a source electrode, a drain electrode, a first passivation layer, the color resistance layer and the second passivation layer, the pixel electrode, and a black matrix isolation column, the pixel electrode through the drain contact hole and also, including the spacer for pad formed in different height, the cushion block is arranged in the same color and resistance layer on the pad is arranged on the black matrix in the area and the relative location of the isolation column. The invention also provides a method for making the COA substrate and a display panel. Compared with the existing technology, it can simplify the process and reduce the cost of the mask used for the mask.

【技术实现步骤摘要】
COA基板及其制作方法、显示面板
本专利技术涉及一种液晶面板技术，特别是一种COA基板及其制作方法、显示面板。
技术介绍
目前，液晶显示面板通常包括彩色滤光片基板(CF基板)、阵列基板(TFT基板)以及填充于彩色滤光片基板和阵列基板之间的液晶(LC)，形成液晶盒，其中彩色滤光片基板用于实现彩色画面的显示。COA(Color-filteronArray)技术是一种将彩色滤光层直接制作在阵列基板上的一种集成技术，目前正常COA基板制作包括在基板上制作M1(栅极层)-GI(栅极绝缘层)-AS(有源层)-M2(源极、漏极)-PV1(第一钝化层)-R/G/B(色阻层)-PV2(第二钝化层)-ITO(像素电极)外加BM(黑色矩阵)-PS(隔离子)两道制程共9-10道光罩(mask)黄光制程，而为了节省制成，现有的做法为将BM和PS合成一道制程进行制作，从而减少了一道制程，形成了BPS(BlackPhotoSpacer，hasfunctionsofBMandPS，简称黑色隔离柱，它是由用于填充色阻层中彩色色阻间隙的黑色矩阵以及隔离柱)；但BPS同一站制程需要做出BM(黑色矩阵)和MainPS(主隔离柱)和SUBPS(次隔离柱)三个不同高度；而MainPS(主隔离柱)的透过率为100％、SubPS(次隔离柱)的透过率为30％和BM(黑色矩阵)的透过率为20％，由于膜厚以及CD(Criticaldimension)关键尺寸均匀性差；且同一种材料采用三种透过率对材料要求严格，制程界限(ProcessWindow)极小，制程极不稳定，材料开发难度大且三段差的光罩用的掩模版昂贵。
技术实现思路
为克服现有技术的不足，本专利技术提供一种COA基板及其制作方法、显示面板，从而简化制程。本专利技术提供了一种COA基板，包括基板以及依次形成于基板上的栅极、栅极绝缘层、有源层、源极、漏极、第一钝化层、色阻层、第二钝化层、像素电极、黑色矩阵和隔离柱，所述像素电极经过孔与漏极接触，还包括用于形成不同高度的隔离柱的垫块，所述垫块设置在与色阻层相同的一层上，所述垫块设置于黑色矩阵的区域中且与隔离柱的位置相对。进一步地，所述垫块包括第一垫块和第二垫块，所述第一垫块的厚度大于第二垫块的厚度。进一步地，所述隔离柱包括主隔离柱和次隔离柱，所述第一垫块与主隔离柱位置相对，第二垫块与次隔离柱位置相对，使主隔离柱和次隔离柱高度不同。进一步地，所述垫块与色阻层采用相同的光阻材料。本专利技术还提供了一种COA基板的制作方法，包括如下步骤：在第一钝化层上形成色阻层的同时形成用于形成不同高度的隔离柱的垫块；在色阻层以及垫块上形成第二钝化层；在第二钝化层上形成连接漏极的过孔；在第二钝化层上形成透明导电层，对透明导电层进行图形化处理形成像素电极，所述像素电极经过孔与漏极接触；在像素电极以及第二钝化层上覆盖黑色光阻材料，通过光刻工艺形成黑色矩阵以及隔离柱，所述垫块设置在形成黑色矩阵的区域中并且与隔离柱位置相对，从而使隔离柱具有不同的高度。进一步地，通过光刻工艺形成黑色矩阵以及隔离柱中黑色矩阵和隔离柱使用相同的曝光量进行曝光。进一步地，所述垫块包括第一垫块和第二垫块，所述第一垫块的厚度大于第二垫块的厚度。进一步地，所述垫块与色阻层采用相同的光阻材料。进一步地，所述黑色光阻材料的流平性的等级为0-7。本专利技术还提供了一种显示面板，包括所述的COA基板。本专利技术与现有技术相比，通过在色阻层中覆盖黑色矩阵的区域内且位于隔离柱的位置处设置垫块，通过BPS制程，覆盖黑色光阻材料后通过一次光光刻工艺即可形成黑色矩阵以及隔离柱，通过垫块自身的厚度使黑色矩阵、隔离柱形成不同的，从而可以简化制程，降低光刻工艺中光罩所使用的掩模版的使用成本。附图说明图1是本专利技术剖视图；图2是本专利技术形成第二垫块以及红或绿色阻块的示意图；图3是本专利技术形成绿或红色阻块的示意图；图4是本专利技术形成第一垫块以及蓝色阻块的示意图；图5是本专利技术形成黑色矩阵以及隔离柱的示意图；图6是本专利技术中黑色矩阵与垫块的位置关系示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步详细说明。图1示出的为一般COA基板的组成的示意图，图2、图3、图4和图5为为了能够清楚的理解本专利技术而省略了第二钝化层以及像素电极部分以及夸大了层和区域的厚度，图2、图3、图4和图5中标示100则为具有第一钝化层的TFT阵列基板，但是值得注意的是，结合附图所示出的示意性附图以及实施例是为了解释本专利技术的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本专利技术的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。如图1、图5和图6所示，本专利技术的一种COA基板，包括基板1以及依次形成于基板1上的栅极2、栅极绝缘层3、有源层4、源极5、漏极6、第一钝化层7、色阻层81、第二钝化层9、像素电极10、黑色矩阵11和隔离柱12；还包括用于形成不同高度的隔离柱12的垫块82，其中：垫块82设置在与色阻层81相同的一层上；栅极2设置于基板1的表面上；栅极绝缘层3形成于栅极2上，覆盖栅极2以及基板1上；具体地，为未设置有栅极2的这部分基板1以及栅极2上；有源层4形成于栅极绝缘层3上；所述源极5以及漏极6形成于有源层4上，且与有源层4的源极区以及漏极区接触；第一钝化层7形成于源极5以及漏极6上，覆盖源极5、漏极6以及栅极绝缘层3上；具体地，覆盖在源极5、漏极6以及未设置有源极5、漏极6的这部分栅极绝缘层3上；所述色阻层81包括彼此分开的色阻块；所述垫块82设置于黑色矩阵11的区域中且与隔离柱12的位置相对；第二钝化层9覆盖在色阻层81、垫块82以及第一钝化层7上，在第二钝化层9上位于漏极6处形成过孔；所述像素电极10经过孔与漏极6接触；图1中所示出的漏极6所在位置远离有源层4，这是剖切位置所致，在实际制作中，在第一钝化层7的其余区域位置中有相连，也就是说源极6是与有源层4接触的；在第二钝化层9以及像素电极10上设置黑色光阻材料，通过一次光刻工艺形成黑色矩阵11以及隔离柱12；通过控制黑色光阻材料的流动性，在像素电极10以及第二钝化层9上形成用于填平COA基板不平整区域以及隔离彩色色阻811的黑色矩阵11、在位于垫块82的位置上方形成隔离柱12，具体地，在制作黑色矩阵11以及隔离柱12所采用的光刻工艺中黑色矩阵11和隔离柱12采用相同的曝光量曝光形成，具体地，这里所述采用相同的曝光量形成为掩模版上用于形成黑色矩阵11以及隔离柱12的位置光可100％的通过。黑色光阻材料的流平性等级为0-7。在上述的COA基板中，垫块的厚度为0.2-0.5um；此处为了方便制作，垫块82可采用与色阻层81相同的光阻材料进行制作；具体地，垫块82包括第一垫块821、第二垫块822，第一垫块821的厚度大于第二垫块822的厚度。本专利技术中色阻层81包括红绿蓝三色色阻块，作为一种优选，第一垫块821可采用与蓝色阻块相同的光阻材料制成；第二垫块822则可采用与红色阻块或绿色阻块相同的光阻材料制成。为了进一步地简化制作，与第一垫块821一同制作的蓝色阻块(B)的厚度与第一垫块821的厚度相同，第二垫块822与一同制作的红或绿色阻块的厚度相同，但本专利技术不限于此，也可通过控制光刻工艺的曝光量在色阻块的厚度相同的情况下，第一垫块821的厚本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种COA基板，包括基板(1)以及依次形成于基板(1)上的栅极(2)、栅极绝缘层(3)、有源层(4)、源极(5)、漏极(6)、第一钝化层(7)、色阻层(81)、第二钝化层(9)、像素电极(10)、黑色矩阵(11)和隔离柱(12)，所述像素电极(10)经过孔与漏极(6)接触，其特征在于：还包括用于形成不同高度的隔离柱(12)的垫块(82)，所述垫块(82)设置在与色阻层(8)相同的一层上，所述垫块(82)设置于黑色矩阵(11)的区域中且与隔离柱(12)的位置相对。

【技术特征摘要】
1.一种COA基板，包括基板(1)以及依次形成于基板(1)上的栅极(2)、栅极绝缘层(3)、有源层(4)、源极(5)、漏极(6)、第一钝化层(7)、色阻层(81)、第二钝化层(9)、像素电极(10)、黑色矩阵(11)和隔离柱(12)，所述像素电极(10)经过孔与漏极(6)接触，其特征在于：还包括用于形成不同高度的隔离柱(12)的垫块(82)，所述垫块(82)设置在与色阻层(8)相同的一层上，所述垫块(82)设置于黑色矩阵(11)的区域中且与隔离柱(12)的位置相对。2.根据权利要求1所述的COA基板，其特征在于：所述垫块(82)包括第一垫块(821)和第二垫块(822)，所述第一垫块(821)的厚度大于第二垫块822的厚度。3.根据权利要求2所述的COA基板，其特征在于：所述隔离柱(12)包括主隔离柱(121)和次隔离柱(122)，所述第一垫块(821)与主隔离柱(121)位置相对，第二垫块(822)与次隔离柱(122)位置相对，使主隔离柱(121)和次隔离柱(122)高度不同。4.根据权利要求1-3所述的COA基板，其特征在于：所述垫块82与色阻层81采用相同的光阻材料。5.一种COA基板的制作方法，其特征在于：包括如下步骤：在第一钝化层(7)上形成色阻层(81)的同时形成用于形成不同高度的隔...

【专利技术属性】
技术研发人员：贺晖，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44