在激光退火系统中用于控制边缘轮廓的定制光瞳光阑形状技术方案
Shape of a custom pupil aperture used to control edge contour in a laser annealing system
The embodiment of the present invention generally relates to a laser annealing system with an optical element for imaging a pattern on a substrate. An optical element may include a plurality of holes or a hole on the surface of the substrate by shaping an image to be exposed to the substrate. The image can be determined by the shape of the hole in the optical element system.
【技术实现步骤摘要】
在激光退火系统中用于控制边缘轮廓的定制光瞳光阑形状本申请是申请日为2013年12月18日、申请号为201380074089.X、专利技术名称为“在激光退火系统中用于控制边缘轮廓的定制光瞳光阑形状”的专利技术专利申请的分案申请。背景
本专利技术的实施方式一般涉及具有用于将图案成像于基板上的光学元件的激光退火系统。更具体地，本专利技术的实施方式涉及在激光退火系统中用于控制边缘轮廓(edgeprofile)的定制光瞳光阑(customizedpupilstop)形状。
技术介绍
热处理普遍实行于半导体工业。半导体基板在历经许多转化的情况下经受受热处理，这些变化包含：硅化，结晶化，氧化，栅极、源极、漏极和沟道结构的掺杂、活化和退火，、以及类似处理。热处理技术已经从简单的炉烘焙发展到各种形式的日益增快的快速热处理，诸如RTP、尖峰退火(spikeannealing)和激光退火。传统的激光退火处理使用激光发射器，激光发射器可以是具有光学元件的半导体激光器或固态激光器，光学元件会将激光加以聚焦、散焦、或者变化地加以成像而成为所需的形状。一种普遍的方法是将激光成像成为一条线或细矩...
【技术保护点】
一种用于在光学系统中使用的装置，所述装置包括：光源，所述光源用于提供具有第一数值孔径的照射；均化器；第一孔构件，所述第一孔构件具有第一孔；第二孔构件，所述第二孔构件具有第二孔；和中继光学元件，所述中继光学元件沿所述照射的光轴对准，所述中继光学元件具有第二数值孔径，所述第二数值孔径由所述第二孔所限定，其中所述第二孔具有沿第一方向的尺寸和沿第二方向的尺寸，所述沿第一方向的尺寸不同于所述沿第二方向的尺寸，所述沿第一方向的尺寸适于匹配所述第一孔的所述第一数值孔径比上所述中继光学元件的所述第二数值孔径的比值。
【技术特征摘要】
2013.03.12 US 61/777,5311.一种用于在光学系统中使用的装置，所述装置包括：光源，所述光源用于提供具有第一数值孔径的照射；均化器；第一孔构件，所述第一孔构件具有第一孔；第二孔构件，所述第二孔构件具有第二孔；和中继光学元件，所述中继光学元件沿所述照射的光轴对准，所述中继光学元件具有第二数值孔径，所述第二数值孔径由所述第二孔所限定，其中所述第二孔具有沿第一方向的尺寸和沿第二方向的尺寸，所述沿第一方向的尺寸不同于所述沿第二方向的尺寸，所述沿第一方向的尺寸适于匹配所述第一孔的所述第一数值孔径比上所述中继光学元件的所述第二数值孔径的比值。2.如权利要求1所述的装置，其中所述第一孔构件被所述光源照射且所述第一孔构件适于由所述照射形成图像。3.如权利要求2所述的装置，其中由所述第一孔形成的所述图像是矩形的。4.如权利要求1所述的装置，其中所述第二孔构件设置于所述第一孔构件的下游。5.如权利要求1所述的装置，其中所述光源包括多个脉冲激光源。6.如权利要求5所述的装置，其中由所述均化器产生的照射包括具有均匀场的两道激光光束。7.如权利要求1所述的装置，其中所述第二孔构件是中继孔。8.如权利要求1所述的装置，其中所述第二孔构件包含主体，所述主体限定开口。9.如权利要求8所述的装置，其中所述开口是长圆形开口。10.如权利要求9所述的装置，其中所述长圆形开口具有多个直线边缘与多个弯曲边...
【专利技术属性】
技术研发人员：道格拉斯·E·霍姆格伦，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US
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