The invention relates to an implant material which can form a built-in electric field and a preparation method thereof, which solves the technical problem that the existing materials do not have enough bone induction activity and low bone binding rate, and is composed of multilayer piezoelectric ceramic materials. The invention also provides a preparation method. The invention can be widely used in the field of preparation of bone repair composite material.
【技术实现步骤摘要】
一种可形成内置电场的植入材料及其制备方法
本专利技术涉及一种外科手术用修复材料及其制备方法,特别涉及一种可形成内置电场的的植入材料及其制备方法。
技术介绍
种植修复是治疗牙齿缺失的主要手段。随着社会发展与生活质量的提高,种植体的需求量逐年增加。然而,目前所用的种植体由于力学匹配性差、缺乏生物活性等原因,影响临床长期稳定性、结合率、种植修复成功率。近年来,尽管大量研究对种植体材料进行了表面改性,如药物负载、表面微纳结构化等,但由于药物半衰期短、微纳物理结构骨诱导性能不足而导致生物活性差、骨整合效果不理想,难以满足临床修复需求。因此,如何使种植体材料表面具备足够的骨诱导活性并提高骨结合率,成为目前口腔种植修复材料的主要瓶颈。
技术实现思路
本专利技术就是为了解决现有材料不具备足够的骨诱导活性且骨结合率不高的技术问题,提供一种使种植体材料表面具备足够的骨诱导活性并提高骨结合率可形成内置电场的植入材料及其制备方法。为此,本专利技术提供一种可形成内置电场的植入材料,其由多层结构压电陶瓷材料组成。优选的,多层结构的基底层为钛酸锶,中间层为钌酸锶,表层为铁酸铋。优选的,可形成内置电 ...
【技术保护点】
一种可形成内置电场的植入材料,其特征是其由多层结构压电陶瓷材料组成。
【技术特征摘要】
1.一种可形成内置电场的植入材料,其特征是其由多层结构压电陶瓷材料组成。2.根据权利要求1所述的可形成内置电场的植入材料,其特征在于:所述多层结构的基底层为钛酸锶,中间层为钌酸锶,表层为铁酸铋。3.根据权利要求2所述的可形成内置电场的植入材料,其特征在于:所述可形成内置电场的植入材料为薄片状材料,厚度为100μm~800μm。4.根据权利要求2所述的可形成内置电场的植入材料,其特征在于:所述铁酸铋厚度为10μm~80μm。5.如权利要求1~4任意一项权利要求所述的可形成内置电场的植入材料的制备方法,其特征是所述可形成内置电场的植入材料由脉冲激光沉积法制成。6.根据权利要求5所述的可形成内置电场的植入材料的制备方法,其特征在于包括如下步骤:(1)以钛酸锶单晶作为电活性植入材料的衬底,...
【专利技术属性】
技术研发人员:邓旭亮,张学慧,卫彦,刘云,张金星,
申请(专利权)人:北京大学口腔医学院,
类型:发明
国别省市:北京,11
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