氧化铝真空镀膜机制造技术

本实用新型专利技术提供一种氧化铝真空镀膜机，其包括：真空箱体、镀膜鼓、挡板、氮气输送机构、氧气输送机构以及铝源；所述镀膜鼓、挡板、氮气输送机构、氧气输送机构以及铝源位于所述真空箱体内部，所述挡板分布于所述镀膜鼓的两侧，所述镀膜鼓部分地自两侧挡板之间的空间伸出，所述铝源位于所述镀膜鼓下方，所述铝源与所述镀膜鼓之间的空间形成蒸镀空间，所述氮气输送机构具有氮气输送口，所述氧气输送机构具有氧气输送口，所述氮气输送口和氧气输送口朝向所述蒸镀空间设置。本实用新型专利技术的氧化铝真空镀膜机通过设置氮气输送机构和氧气输送机构实现了氧化铝的蒸镀，其具有结构简单、生产效率高的优点，有利于降低镀膜产品的成本。

【技术实现步骤摘要】
氧化铝真空镀膜机
本技术涉及一种镀膜机，尤其涉及一种氧化铝真空镀膜机。
技术介绍
在真空环境中，将材料加热并镀到基片上的技术为真空蒸镀。具体而言，真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出的过程。真空蒸镀中的金属镀层通常为铝膜，但其它金属也可通过蒸发沉积形成。然而，现有的镀膜机结构较为复杂且成本较高，无法充分适应工业化生产的需求，不利于降低镀膜产品的成本。有鉴于此，针对上述问题，有必要提出进一步的解决方案。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种氧化铝真空镀膜机，以克服现有技术中存在的不足。为实现上述技术目的，本技术提供一种氧化铝真空镀膜机，其包括：真空箱体、镀膜鼓、挡板、氮气输送机构、氧气输送机构以及铝源；所述镀膜鼓、挡板、氮气输送机构、氧气输送机构以及铝源位于所述真空箱体内部，所述挡板分布于所述镀膜鼓的两侧，所述镀膜鼓部分地自两侧挡板之间的空间伸出，所述铝源位于所述镀膜鼓下方，所述铝源与所述镀膜鼓之间的空间形成蒸镀空间，所述氮气输送机构具有氮气输送口，所述氧气输送机构具有氧气输送口，所述氮气输送口和氧气输送口朝向所述蒸镀空间设置。作为本技术的氧化铝真空镀膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化铝真空镀膜机，其特征在于，所述氧化铝真空镀膜机包括：真空箱体、镀膜鼓、挡板、氮气输送机构、氧气输送机构以及铝源；所述镀膜鼓、挡板、氮气输送机构、氧气输送机构以及铝源位于所述真空箱体内部，所述挡板分布于所述镀膜鼓的两侧，所述镀膜鼓部分地自两侧挡板之间的空间伸出，所述铝源位于所述镀膜鼓下方，所述铝源与所述镀膜鼓之间的空间形成蒸镀空间，所述氮气输送机构具有氮气输送口，所述氧气输送机构具有氧气输送口，所述氮气输送口和氧气输送口朝向所述蒸镀空间设置。

【技术特征摘要】
1.一种氧化铝真空镀膜机，其特征在于，所述氧化铝真空镀膜机包括：真空箱体、镀膜鼓、挡板、氮气输送机构、氧气输送机构以及铝源；所述镀膜鼓、挡板、氮气输送机构、氧气输送机构以及铝源位于所述真空箱体内部，所述挡板分布于所述镀膜鼓的两侧，所述镀膜鼓部分地自两侧挡板之间的空间伸出，所述铝源位于所述镀膜鼓下方，所述铝源与所述镀膜鼓之间的空间形成蒸镀空间，所述氮气输送机构具有氮气输送口，所述氧气输送机构具有氧气输送口，所述氮气输送口和氧气输送口朝向所述蒸镀空间设置。2.根据权利要求1所述的氧化铝真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜鼓与两侧挡板之间具有间隙，所述间隙的尺寸大于所述镀膜鼓上卷绕的基材与基材上镀层的厚度之和。3.根据权利要求2所述的氧化铝真空镀膜机，其特征在于，所述基材为塑料基材。4.根据权利要求3所述的氧化铝真空镀膜机，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：高嵩，
申请(专利权)人：无锡市司马特贸易有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32