阻光粘合剂制造技术

本申请涉及包含共聚物的粘合剂，所述共聚物包含第一单体和第二单体的重复单元，其中：所述第一单体包括基于(甲基)丙烯酸酯的单体、基于硅的单体或基于氨基甲酸乙酯的单体，所述第二单体包含光吸收基团，并且所述光吸收基团为基于偶氮的染料。

【技术实现步骤摘要】
阻光粘合剂相关申请的交叉引用2016年6月1日向韩国知识产权局提交且标题为“粘合剂”的第10-2016-0068372号韩国专利申请通过引用整体并入本文。
实施方案涉及阻光粘合剂。
技术介绍
紫外光和一部分可见光具有足以使分子键、如有机化合物的分子键裂解的强度的能量。因此，紫外光和一部分可见光可以是使各种产品的强度和性能变差的因素。
技术实现思路
实施方案涉及阻光粘合剂。实施方案可以通过提供包含共聚物的粘合剂来实现，所述共聚物包含第一单体和第二单体的重复单元，其中：所述第一单体包括基于(甲基)丙烯酸酯的单体、基于硅的单体或基于氨基甲酸乙酯的单体，所述第二单体包含光吸收基团，并且所述光吸收基团为基于偶氮的染料。所述光吸收基团可以具有约380nm至约420nm的吸收波长。所述第二单体还可以包含与所述光吸收基团连接的可共聚的官能团。所述可共聚的官能团可以包括(甲基)丙烯酸酯基团、乙烯基基团、异氰酸酯基团、羟基基团、羧基基团、氨基基团或卤素基团。所述第二单体可以由以下式1表示：[式1]其中，在式1中，X可以是(甲基)丙烯酸酯基团、乙烯基基团、异氰酸酯基团、羟基基团、羧基基团、氨基基团或卤素基团，本文档来自技高网...

【技术保护点】
包含共聚物的粘合剂，所述共聚物包含第一单体和第二单体的重复单元，其中：所述第一单体包括基于(甲基)丙烯酸酯的单体、基于硅的单体或基于氨基甲酸乙酯的单体，所述第二单体包含光吸收基团，并且所述光吸收基团为基于偶氮的染料。

【技术特征摘要】
2016.06.01 KR 10-2016-00683721.包含共聚物的粘合剂，所述共聚物包含第一单体和第二单体的重复单元，其中：所述第一单体包括基于(甲基)丙烯酸酯的单体、基于硅的单体或基于氨基甲酸乙酯的单体，所述第二单体包含光吸收基团，并且所述光吸收基团为基于偶氮的染料。2.如权利要求1所述的粘合剂，其中所述光吸收基团具有380nm至420nm的吸收波长。3.如权利要求1所述的粘合剂，其中所述第二单体还包含与所述光吸收基团连接的可共聚合的官能团。4.如权利要求3所述的粘合剂，其中所述可共聚合的官能团包括(甲基)丙烯酸酯基团、乙烯基基团、异氰酸酯基团、羟基基团、羧基基团、氨基基团或卤素基团。5.如权利要求1所述的粘合剂，其中所述第二单体由以下式1表示：[式1]其中，在式1中，X为(甲基)丙烯酸酯基...

【专利技术属性】
技术研发人员：金泳道，丁昭娟，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR