The present invention relates to compound I, in which the variables are defined in the specification and the book of claims. The invention also relates to the use, method and intermediate of compound I.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】喹啉化合物本专利技术涉及对抗植物病原性真菌的喹啉化合物及其N-氧化物和盐和对抗植物病原性真菌的用途和方法以及涂覆有至少一种该类化合物的种子。本专利技术还涉及制备这些化合物的方法、中间体、制备这类中间体的方法和包含至少一种化合物I的组合物。在许多情况下，尤其是在低施用率下，已知杀真菌化合物的杀真菌活性并不令人满意。基于此，本专利技术的目的是要提供对植物病原性有害真菌具有改进活性和/或更宽活性谱的化合物。惊人的是，该目的通过使用对植物病原性真菌具有有利杀真菌活性的本专利技术式I的喹啉化合物实现。因此，本专利技术涉及式I化合物及其N-氧化物和可农用盐：其中m为0、1、2、3或4；R1在每种情况下独立地选自卤素、OH、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、NH-SO2-Rx、C1-C6烷基、C2-C6链烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C3-C6环烷基、5或6员杂芳基和芳基；其中所述杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；且其中Rx为C1-C4烷基、C1-C4卤素烷基、未取代芳基或被1、2、3、4或5个独立地选自C1-C4烷...
【技术保护点】
式I化合物及其N‑氧化物和可农用盐
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.02 EP 15162483.01.式I化合物及其N-氧化物和可农用盐其中m为0、1、2、3或4；R1在每种情况下独立地选自卤素、OH、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、NH-SO2-Rx、C1-C6烷基、C2-C6链烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C3-C6环烷基、5或6员杂芳基和芳基；其中所述杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；且其中Rx为C1-C4烷基、C1-C4卤素烷基、未取代芳基或被1、2、3、4或5个独立地选自C1-C4烷基的取代基Rx1取代的芳基；其中R1的脂族结构部分未经进一步取代或带有1、2、3或至多最大可能数目的相同或不同的相互独立地选自如下的基团R1a:R1a卤素、OH、CN、C1-C6烷氧基、C3-C6环烷基、C3-C6卤素环烷基、C1-C4卤素烷氧基、C1-C6烷硫基和苯氧基，其中所述苯基未取代或带有1、2、3、4或5个选自由卤素、OH、C1-C4烷基、C1-C4卤素烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤素烷氧基组成的组的取代基R11a；其中R1的环烷基、杂芳基和芳基结构部分未经进一步取代或带有1、2、3、4、5或至多最大数目的相同或不同的相互独立地选自如下的基团R1b:R1b卤素、OH、CN、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤素烷基、C3-C6环烷基、C3-C6卤素环烷基、C1-C4卤素烷氧基和C1-C6烷硫基；n为0、1或2；R2在每种情况下独立地选自如对R1所定义的取代基，其中R2的可能取代基分别为R2a和R2b，其分别对应于R1a和R1b；R3、R4独立地选自氢、卤素、OH、CN、NO2、SH、C1-C6烷硫基、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、NH-SO2-Rx、C1-C6烷基、C2-C6链烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤素烷氧基、饱和或部分不饱和3、4、5、6、7、8、9或10员碳环或杂环，其中在每种情况下所述碳环和杂环的1或2个CH2基团可被独立地选自C(＝O)和C(＝S)的基团替换，5或6员杂芳基和芳基；其中所述杂环和所述杂芳基独立地含有1、2、3或4个选自N、O和S的杂原子；其中R3和R4的脂族结构部分分别独立地未经进一步取代或带有1、2、3或至多最大可能数目的相同或不同的相互独立地选自如下的基团R3a或R4a:R3a、R4a卤素、OH、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、NH(C(＝O)C1-C4烷基)、N(C(＝O)C1-C4烷基)2、C1-C6烷氧基、C3-C6环烷基、C3-C6卤素环烷基、C1-C4卤素烷氧基、C1-C6烷硫基、芳基和苯氧基，其中所述芳基和苯基独立地未取代或带有1、2、3、4或5个选自由卤素、OH、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、NH(C(＝O)C1-C4烷基)、N(C(＝O)C1-C4烷基)2、NH-SO2-Rx、C1-C6烷硫基、C1-C4烷基、C1-C4卤素烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤素烷氧基组成的组的取代基；其中R3和R4的碳环、杂环、杂芳基和芳基结构部分分别独立地未经进一步取代或带有1、2、3、4、5或至多最大数目的相同或不同的相互独立地选自如下的基团R3b或R4b:R3b、R4b卤素、OH、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、NH(C(＝O)C1-C4烷基)、N(C(＝O)C1-C4烷基)2、NH-SO2-Rx、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤素烷基、C3-C6环烷基、C3-C6卤素环烷基、C1-C4卤素烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6卤素烷硫基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和苯氧基，其中所述苯基未取代或带有1、2、3、4或5个选自由卤素、OH、C1-C4烷基、C1-C4卤素烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤素烷氧基组成的组的取代基；和其中Rx如上文所定义；或R3、R4与其所键合的碳原子(在式I中以*标记)一起形成饱和或部分不饱和3、4、5、6、7、8、9或10员碳环或杂环；其中所述杂环含有1、2、3或4个选自N、O和S的杂原子，其中所述杂原子N可带有1个选自C1-C4烷基、C1-C4卤素烷基和SO2Ph的取代基RN，其中Ph为未取代苯基或被1、2或3个选自C1-C4烷基的取代基取代的苯基，且其中所述杂原子S可呈其氧化物SO或SO2形式，且其中所述碳环或杂环未取代或带有1、2、3或4个独立地选自卤素、OH、CN、NO2、SH、NH2、C1-C6烷基、C1-C6卤素烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤素烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6卤素烷硫基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和苯氧基的取代基R34，其中所述苯基未取代或带有1、2、3、4或5个选自由卤素、OH、C1-C4烷基、C1-C4卤素烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤素烷氧基组成的组的取代基R34a；且其中在每种情况下所述碳环或杂环的1或2个CH2基团可被独立地选自C(＝O)和C(＝S)的基团替换；R5为氢、卤素、OH、CN、NO2、SH、NH2、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、NH-SO2-Rx、C1-C6烷基、C2-C6链烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C3-C6环烷基、饱和或部分不饱和3、4、5、6、7、8、9或10员杂环、5或6员杂芳基或芳基；其中所述杂环或杂芳基含有1、2或3个选自N、O和S的杂原子；且其中Rx在上文中定义；和其中R5的脂族结构部分未经进一步取代或带有1、2、3或至多最大可能数目的相同或不同的相互独立地选自如下的基团R5a:R5a卤素、OH、CN、C1-C6烷氧基、C3-C6环烷基、C3-C6卤素环烷基、C1-C4卤素烷氧基、C1-C6烷硫基和苯氧基，其中所述苯基未取代或带有1、2、3、4或5个选自由卤素、OH、C1-C4烷基、C1-C4卤素烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤素烷...
【专利技术属性】
技术研发人员：W·格拉梅诺斯，N·布戴，B·米勒，A·沃尔夫，A·埃斯克里巴诺奎斯塔，E·堪比斯，J·K·洛曼，T·格尔特，M·克雷奇默，E·哈登，M·费尔，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE
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