制备金/钯气体分离膜的方法技术
Preparation of gold / palladium gas separation membrane
The invention provides a method for the preparation of a gold alloy gas separation membrane system for the preparation of carbon monoxide. The palladium layer is provided on the surface of the tubular porous substrate, where the average surface roughness (Sa) of the palladium layer is less than 2.5 microns, and then the tubular porous substrate is immersed in the solution of chloro auric acid or its salt. Periodically, a certain volume of hydrogen peroxide is introduced into the solution, and at the same time, the tube porous substrate is rotated for a period of time at the set rate, so as to deposit the gold layer with expected uniformity and expected thickness on the palladium layer.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】制备金/钯气体分离膜的方法
本专利技术涉及一种制备金/钯(gold-on-palladium)气体分离膜体系的改进方法以及通过所述方法制备的气体分离膜体系。
技术介绍
美国专利8721773描述并要求保护一种用于制备金-钯合金气体分离膜的方法。所述金-钯膜通过以下步骤制成：在研磨至具有特定平均表面粗糙度的多孔衬底上提供钯层，然后使经研磨的钯表面与氯金酸和过氧化氢的溶液接触而在研磨钯表面上沉积金层，以制备金-钯膜。通过使镀金液在经退火的研磨钯层上循环，使研磨钯表面与镀金液进行接触。在实例中，将具有研磨钯层的多孔管悬浮在镀金液中，用蠕动泵对镀金液进行循环搅拌。虽然US8721773中公开的镀金方法提供了可接受的金-钯膜，但其使用方面仍然存在许多问题，而这些问题可以改进。例如，已经发现，用循环泵循环镀金液导致与镀金液接触的泵、管线以及其它设备的表面上也被镀金。其结果是损失了大量昂贵的金。此外，使用循环泵周期性地将过氧化氢与镀金液混合似乎对沉积在研磨钯层表面上的金层的分布和均匀度产生了不利的影响。期望有一种制备负载型金/钯膜的改进方法，而使得损失较少的昂贵的金，并且使沉积...
【技术保护点】
一种用于制备金/钯气体分离膜体系的方法，其中所述方法包括：在管状多孔衬底的表面上提供钯层，所述管状多孔衬底由外径、长度以及所述长度的中点界定，其中所述钯层的平均表面粗糙度(Sa)小于2.5微米；将具有所述钯层的所述管状多孔衬底浸入到一定体积的氯金酸或其盐的溶液中；以及周期性地将一定体积的过氧化氢引入到所述溶液中，同时以设定速率使所述管状多孔衬底旋转一段时间，以便在所述钯层上沉积具有期望均匀度和期望厚度的金层。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.18 US 62/134,6351.一种用于制备金/钯气体分离膜体系的方法，其中所述方法包括：在管状多孔衬底的表面上提供钯层，所述管状多孔衬底由外径、长度以及所述长度的中点界定，其中所述钯层的平均表面粗糙度(Sa)小于2.5微米；将具有所述钯层的所述管状多孔衬底浸入到一定体积的氯金酸或其盐的溶液中；以及周期性地将一定体积的过氧化氢引入到所述溶液中，同时以设定速率使所述管状多孔衬底旋转一段时间，以便在所述钯层上沉积具有期望均匀度和期望厚度的金层。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述体积的过氧化氢通过导管装置引入到所述溶液中，用于在靠近所述管状多孔衬底的点处引入所述体积的过氧化氢。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述管状多孔衬底在所述体积的所述溶液内定向成使得其长度不与水平...
【专利技术属性】
技术研发人员：J·C·索凯蒂斯，K·阿扎德，
申请(专利权)人：国际壳牌研究有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL
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