层叠光学膜的缺陷检查方法、光学膜的缺陷检查方法以及层叠光学膜的制造方法技术

层叠光学膜的缺陷检查方法包括进行光学膜(11)的缺陷检查的第一检查工序、向光学膜(11)贴合保护膜(12)以及粘合件(13)而生成层叠光学膜(10A、10B)的工序、将在第一检查工序中检测出的缺陷(20)的信息以代码(40)的形式记录于层叠光学膜(10A)的记录工序、进行层叠光学膜(10B)的缺陷检查的第二检查工序、与在第一检查工序中检测出的缺陷(20)以及在第二检查工序中检测出的缺陷(21)对应地对层叠光学膜(10B)进行标记的标记工序，在第二检查工序中，读取在记录工序中所记录的缺陷信息，不重复检测与该缺陷信息对应的缺陷(20)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠光学膜的缺陷检查方法、光学膜的缺陷检查方法以及层叠光学膜的制造方法
本专利技术涉及层叠光学膜的缺陷检查方法以及光学膜的缺陷检查方法，也涉及层叠光学膜的制造方法。
技术介绍
作为具有光学特性的光学膜，已知具有偏振特性的偏振板、具有双折射性的相位差板等。例如，作为偏振板，已知在作为光学膜主体的偏振片(PolyvinylAlcohol：PVA(聚乙烯醇))的主面两侧贴合有TAC(TriacetylCellulose：三醋酸纤维素)膜的偏振板。作为相位差板，已知由光学膜主体单独构成的相位差板。也有时在这种光学膜贴合保护膜、或者贴合带有隔离膜的状态的粘合件而形成层叠光学膜。在这种光学膜以及层叠光学膜中，若例如在上述贴合时在内部或表面混入异物、气泡，则有时产生光学缺陷。在专利文献1～2中公开了检查这种光学膜以及层叠光学膜的缺陷的方法。当采用这种缺陷检查方法检测出缺陷时，与缺陷对应地例如以包围缺陷的方式在光学膜以及层叠光学膜的表面上进行标记，进行了标记的区域被从作为产品的利用中剔除。在先技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-69142号公报专利文献2：日本特开2011-65184号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题在这样的缺陷检查方法中，追求准确地对缺陷的数量进行计数。另外，追求标记的记号为与缺陷的大小对应的大小。此外，在这种光学膜以及层叠光学膜的缺陷检查中，有时进行两次以上的缺陷检查。例如，每当贴合光学膜以及层叠光学膜的各层时进行缺陷检查、或者为了检测不同的缺陷而执行不同的检查方法。然而，在进行两次以上的缺陷检查的情况下，在第二次以后的检查中，存在如下问题：会对上次以前检测出的缺陷进行重复检测，无法精度良好地求出缺陷率。在第二次以后的检查中，存在如下问题：会将上次以前标记出的记号检测为缺陷并与之对应地(例如以包围缺陷的方式)进行标记，结果导致最终记号尺寸变大。于是，本专利技术的目的在于，提供能够防止在进行两次以上的缺陷检查时对上次以前检测出的缺陷进行重复检测的情况、以及对与上次以前检测出的缺陷对应的记号进行检测的情况的层叠光学膜的缺陷检查方法以及光学膜的缺陷检查方法。另外，本专利技术的目的也在于，提供层叠光学膜的制造方法。用于解决课题的方案本专利技术的层叠光学膜的缺陷检查方法是向光学膜贴合保护膜以及粘合件中的至少一方而得到层叠光学膜、并对层叠光学膜中的缺陷进行检查的方法，其包括：进行光学膜的缺陷检查的第一检查工序；向光学膜贴合保护膜以及粘合件中的至少一方而生成层叠光学膜的工序；对在第一检查工序中检测出的缺陷信息进行记录的记录工序；进行层叠光学膜的缺陷检查的第二检查工序；以及与在第一检查工序中检测出的缺陷以及在第二检查工序中检测出的缺陷对应而对层叠光学膜进行标记的标记工序，在第二检查工序中，读取在记录工序中所记录的缺陷信息，不检测与该缺陷信息对应的缺陷。根据该层叠光学膜的缺陷检查方法，在第二检查工序中，不检测与在记录工序中所记录的缺陷信息对应的缺陷。因而，在进行两次以上的缺陷检查时，能够防止对上次以前检测出的缺陷进行重复检测的情况。另外，根据该层叠光学膜的缺陷检查方法，在记录工序中对在第一检查工序中检测出的缺陷信息进行记录，由此不与在第二检查工序之前在第一检查工序中检测出的缺陷对应地对光学膜进行标记，因此能够防止对与上次以前检测出的缺陷对应的记号进行检测的情况。上述的第一检查工序中的缺陷检查方法与上述的第二检查工序中的缺陷检查方法可以相同，也可以不同。本专利技术的光学膜的缺陷检查方法是检查光学膜的缺陷的方法，其包括：进行光学膜的缺陷检查的第一检查工序；对在第一检查工序中检测出的缺陷信息进行记录的记录工序；对光学膜进行与第一检查工序中的缺陷检查不同的缺陷检查的第二检查工序；以及与在第一检查工序中检测出的缺陷以及在第二检查工序中检测出的缺陷对应地对光学膜进行标记的标记工序，在第二检查工序中，读取在记录工序中所记录的缺陷信息，不检测与该缺陷信息对应的缺陷。本专利技术中的光学膜是如下概念：不仅包括由光学膜主体构成的单层光学膜，也包括包含光学膜主体的光学膜以及向该光学膜贴合保护膜以及粘合件中的至少一方而成的层叠光学膜。在该光学膜的缺陷检查方法中，在第二检查工序中也不检测与在记录工序中所记录的缺陷信息对应的缺陷，因此在进行两次以上的缺陷检查时，能够防止对上次以前检测出的缺陷进行重复检测的情况。在该光学膜的缺陷检查方法中，也是在记录工序中对在第一检查工序中检测出的缺陷信息进行记录，由此不与在第二检查工序之前在第一检查工序中检测出的缺陷对应地对光学膜进行标记，因此能够防止对与上次以前检测出的缺陷对应的记号进行检测的情况。本专利技术的层叠光学膜的制造方法是向光学膜贴合保护膜以及粘合件中的至少一方而制造层叠光学膜的方法，其中，所述层叠光学膜的制造方法包括上述的层叠光学膜的缺陷检查方法。根据该层叠光学膜的制造方法，能够得到与上述的层叠光学膜的缺陷检查方法同样的优点。专利技术效果根据本专利技术，在进行两次以上的光学膜以及层叠光学膜的缺陷检查时，能够防止对上次以前检测出的缺陷进行重复检测的情况，其结果是，能够精度良好地求出缺陷率。另外，根据本专利技术，在进行两次以上的光学膜以及层叠光学膜的缺陷检查时，能够防止对与上次以前检测出的缺陷对应的记号进行检测的情况，其结果是，能够防止最终记号尺寸变大而光学膜的收获率降低。附图说明图1是表示本专利技术的第一实施方式的层叠光学膜的缺陷检查方法以及制造方法的图。图2是表示本专利技术的第一实施方式的层叠光学膜的缺陷检查方法以及制造方法的图。图3是用于说明本专利技术的第一实施方式的层叠光学膜的缺陷检查方法中的记录工序的图，是表示层叠光学膜的一方的主面的图。图4是图3的沿着IV-IV线的层叠光学膜的剖视图。图5是用于说明本专利技术的第一实施方式的层叠光学膜的缺陷检查方法中的标记工序的图，是表示层叠光学膜的一方的主面的图。图6是图5的沿着VI-VI线的层叠光学膜的剖视图。图7是用于说明以往的缺陷检查方法中的第一标记工序的图，是表示以往的缺陷检查方法中的层叠光学膜的一方的主面的图。图8是图7的沿着VIII-VIII线的层叠光学膜的剖视图。图9是用于说明以往的缺陷检查方法中的第二标记工序的图，是表示以往的缺陷检查方法中的层叠光学膜的一方的主面的图。图10是图9的沿着X-X线的层叠光学膜的剖视图。图11是表示本专利技术的第二实施方式的层叠光学膜的缺陷检查方法以及制造方法的图。图12是表示本专利技术的第二实施方式的层叠光学膜的缺陷检查方法以及制造方法的图。图13是用于说明本专利技术的第二实施方式的层叠光学膜的缺陷检查方法中的记录工序的图，是表示层叠光学膜的一方的主面的图。图14是图13的沿着XIV-XIV线的层叠光学膜的剖视图。图15是用于说明本专利技术的第二实施方式的层叠光学膜的缺陷检查方法中的标记工序的图，是表示层叠光学膜的一方的主面的图。图16是图15的沿着XVI-XVI线的层叠光学膜的剖视图。具体实施方式以下，参照附图来详细说明本专利技术的优选的实施方式。需要说明的是，在各附图中，对同一或相当的部分标注同一附图标记。[第一实施方式]图1以及图2是表示本专利技术的第一实施方式的层叠光学膜的缺陷检查方法以及制造方法的图。图3以及图5是表示本专利技术的第一实施方式的缺陷检查方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种层叠光学膜的缺陷检查方法，其是向光学膜贴合保护膜以及粘合件中的至少一方而得到层叠光学膜、并对所述层叠光学膜中的缺陷进行检查的方法，所述层叠光学膜的缺陷检查方法的特征在于，包括：进行所述光学膜的缺陷检查的第一检查工序；向所述光学膜贴合所述保护膜以及所述粘合件中的至少一方而生成所述层叠光学膜的工序；对在所述第一检查工序中检测出的缺陷信息进行记录的记录工序；进行所述层叠光学膜的缺陷检查的第二检查工序；以及与在所述第一检查工序中检测出的缺陷以及在所述第二检查工序中检测出的缺陷对应而对所述层叠光学膜进行标记的标记工序，在所述第二检查工序中，读取在所述记录工序中所记录的所述缺陷信息，不检测与该缺陷信息对应的缺陷。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.20 JP 2015-0577291.一种层叠光学膜的缺陷检查方法，其是向光学膜贴合保护膜以及粘合件中的至少一方而得到层叠光学膜、并对所述层叠光学膜中的缺陷进行检查的方法，所述层叠光学膜的缺陷检查方法的特征在于，包括：进行所述光学膜的缺陷检查的第一检查工序；向所述光学膜贴合所述保护膜以及所述粘合件中的至少一方而生成所述层叠光学膜的工序；对在所述第一检查工序中检测出的缺陷信息进行记录的记录工序；进行所述层叠光学膜的缺陷检查的第二检查工序；以及与在所述第一检查工序中检测出的缺陷以及在所述第二检查工序中检测出的缺陷对应而对所述层叠光学膜进行标记的标记工序，在所述第二检查工序中，读取在所述记录工序中所记录的所述缺陷信息，不检测与该缺陷信息对应的缺陷。2.根据权利要求1所述的层叠光学膜的缺陷检查方法，其中，所述第一检查工序中的缺陷检查方法与所述第二检查工序中的缺陷检查...

【专利技术属性】
技术研发人员：井村圭太，富永俊彦，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP