阀、特别是真空阀制造技术
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阀、特别是真空阀本专利技术涉及一种阀、特别是真空阀，其带有至少一个阀壳体和至少一个关闭机构和至少一个阀座，其中，阀座包围该阀的至少一个阀开口，由至少一个关闭机构传动件可使得关闭机构在至少一个打开位置与关闭位置之间来回移动，在所述打开位置，关闭机构至少部分地释放阀开口，在所述关闭位置，关闭机构利用关闭机构的密封面为了关闭阀开口而顶压到阀座上。此外，当制造或处理过程必须在规定的气氛中、在规定的压力状况下特别是在所谓的真空中即在负压中进行时，这种阀特别是作为真空阀被予以采用。这些阀可以用于使得各腔比如过程腔或转移腔可关闭地且耐压地相互连接。在这种应用中，阀的阀壳体经常安置在相应腔的腔壁上。集成式的设计也是可行的。阀的阀开口于是大多与相应的腔开口对齐。如果关闭机构位于打开位置，则阀开口至少部分地释放，要处理的工件可以装入到相应的腔中，或者从所述腔中取出。如果阀处于关闭位置，则腔被密封，且可以产生对于相应的过程所需要的状况特别是压力状况。但上述类型的阀也可以是所谓的配给阀，其中，阀用于将流体特别是气体配给到腔等中。为了能够进行相应的过程，大多非常重要的是，尽可能地减少并非所愿...
【技术保护点】
一种阀(1)、特别是真空阀，带有至少一个阀壳体(2)和至少一个关闭机构(3)以及至少一个阀座(4)，其中，所述阀座(4)包围该阀(1)的至少一个阀开口(5)，由至少一个关闭机构传动件(6、7)能使得所述关闭机构(3)在至少一个打开位置与关闭位置之间来回运动，在所述至少一个打开位置，所述关闭机构(3)至少部分地释放所述阀开口(5)，在所述关闭位置，所述关闭机构(3)利用所述关闭机构(3)的密封面(8)顶压到所述阀座(4)上以便关闭所述阀开口(5)，其特征在于，所述阀(1)的至少一个表面(9)具有小于或等于0.4μm、优选小于或等于0.25μm的平均的粗糙度RZ。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.27 AT A182/20151.一种阀(1)、特别是真空阀，带有至少一个阀壳体(2)和至少一个关闭机构(3)以及至少一个阀座(4)，其中，所述阀座(4)包围该阀(1)的至少一个阀开口(5)，由至少一个关闭机构传动件(6、7)能使得所述关闭机构(3)在至少一个打开位置与关闭位置之间来回运动，在所述至少一个打开位置，所述关闭机构(3)至少部分地释放所述阀开口(5)，在所述关闭位置，所述关闭机构(3)利用所述关闭机构(3)的密封面(8)顶压到所述阀座(4)上以便关闭所述阀开口(5)，其特征在于，所述阀(1)的至少一个表面(9)具有小于或等于0.4μm、优选小于或等于0.25μm的平均的粗糙度RZ。2.如权利要求1所述的阀(1)，其特征在于，所述表面(9)是铣光的和/或车光的表面，和/或是在光学上镜反射的表面。3.如权利要求1或2所述的阀(1)，其特征在于，对于电磁辐射来说，所述表面(9)具有至少0.8、优选至少0.9的反射率。4.如权利要求1至3中任一项所述的阀(1)，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：克劳斯·阿尔布雷科特，
申请(专利权)人：VAT控股公司，
类型：发明
国别省市：瑞士,CH
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