【技术实现步骤摘要】
基于分布式布拉格反射镜波导微腔的硅衬底GaN激光器
本专利技术属于信息材料与器件领域,涉及一种基于分布式布拉格反射镜波导微腔的硅衬底GaN激光器及其制备技术。
技术介绍
半导体激光器,又称激光二极管(LaserDiode,LD),其原理是通过一定的激励方式(电注入、光泵或高能电子束注入),在半导体物质的能带之间或能带与杂质能级之间,通过激发非平衡载流子而实现粒子数反转,从而产生光的受激发射作用。LD的核心发光部分是PN结,当注入PN结的少数载流子与多数载流子复合时,就会发出可见光;LD的重要组成部分是谐振腔,即由一定几何形状和光学反射特性的反射镜按特定的方式组合而成,可使腔内的光子振荡、反馈,产生光的辐射放大并输出激光。谐振腔的作用为:①提供光学反馈能力,使受激辐射光子在腔内多次往返以形成相干的持续振荡。②对腔内往返振荡光束的方向和频率进行限制,以保证输出激光具有一定的定向性和单色性。从材料角度来看,氮化物材料特别是GaN材料,具有较高的折射率(~2.5),在可见光、近红外波段透明,是一种优异的光学材料。然而,由于SiC和蓝宝石衬底不易加工,而氮化物特别是GaN的 ...
【技术保护点】
一种基于分布式布拉格反射镜波导微腔的硅衬底GaN激光器,其特征在于,以硅基氮化物晶片为载体,包括硅衬底层、设置在所述硅衬底层上的外延缓冲层、设置在所述外延缓冲层上的p‑n结量子阱器件,设置在所述p‑n结量子阱器件上的SiO2绝缘层,设置在所述SiO2绝缘层上的p‑电极的引线电极区和n‑电极的引线电极区,及分布式布拉格反射镜;所述p‑n结量子阱器件包括n‑GaN层、n‑电极、AlGaN包裹层、InGaN波导、InGaN/GaN量子阱层、p‑GaN层和p‑电极;所述n‑GaN层上表面是刻蚀形成的阶梯状台面,所述阶梯状台面包括下台面和上台面,所述n‑电极设置在下台面上,所述AlG ...
【技术特征摘要】
1.一种基于分布式布拉格反射镜波导微腔的硅衬底GaN激光器,其特征在于,以硅基氮化物晶片为载体,包括硅衬底层、设置在所述硅衬底层上的外延缓冲层、设置在所述外延缓冲层上的p-n结量子阱器件,设置在所述p-n结量子阱器件上的SiO2绝缘层,设置在所述SiO2绝缘层上的p-电极的引线电极区和n-电极的引线电极区,及分布式布拉格反射镜;所述p-n结量子阱器件包括n-GaN层、n-电极、AlGaN包裹层、InGaN波导、InGaN/GaN量子阱层、p-GaN层和p-电极;所述n-GaN层上表面是刻蚀形成的阶梯状台面,所述阶梯状台面包括下台面和上台面,所述n-电极设置在下台面上,所述AlGaN包裹层、InGaN波导层、InGaN/GaN量子阱层、InGaN波导、AlGaN包裹层、p-GaN层和p-电极从下至上依次连接设置在上台面的上方;所述分布式布拉格反射镜是直接在所述上台面的两端从所述SiO2绝缘层分别向下刻蚀至下方的InGaN波导层获得的,所述分布式布拉格反射镜在上台面的两端对称配对分布,形成谐振微腔结构。2.一种制备权利要求1所述的基于分布式布拉格反射镜波导微腔的硅衬底GaN激光器的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤(1)在硅基氮化物晶片背后对硅衬底层进行减薄抛光;步骤(2)在硅基氮化物晶片上表面均匀涂上一层光刻胶,采用光刻对准技术在光刻胶层上定义出n-GaN台阶区域,所述n-GaN台阶区域包括下台面和上...
【专利技术属性】
技术研发人员:施政,沈湘菲,王永进,蒋元,袁佳磊,张锋华,张帅,秦川,蒋燕,
申请(专利权)人:南京邮电大学,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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