抛光组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种辗轧减少剂，它含有一种或多种选自具有２－２０个碳原子并具有ＯＨ基团（一个或多个）或ＳＨ基团（一个或多个）的羧酸、具有１－２０个碳原子的单羧酸、具有２－３个碳原子的二羧酸及其盐的化合物；和一种辗轧减少剂组合物，它含有一种辗轧减少剂，该辗轧减少剂含有一种或多种选自具有２－２０个碳原子并具有ＯＨ基团（一个或多个）或ＳＨ基团（一个或多个）的羧酸、具有１－２０个碳原子的单羧酸、具有２－３个碳原子的二羧酸及其盐的化合物和研磨剂及水。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及辗轧(roll-off)减少剂。更确切地说，本专利技术涉及含有辗轧减少剂的辗轧减少剂的组合物，通过将辗轧减少剂施加到基片上而减少抛光基片的辗轧的方法，通过将辗轧减少剂施加到基片上而形成抛光基片的方法，抛光组合物，通过将抛光组合物施加到基片上来抛光基片的抛光方法，通过将抛光组合物施加到要抛光的基片上而制成基片的方法。数年来，对进一步提高硬盘容量的技术的需求越来越高。作为一种提高硬盘容量的先进方法，已经考虑了通过减少抛光过程中引起的辗轧(基片端面的边缘圆)来制成甚至外圆周也能够记录数据的基片的方法。例如，已经研究了能够减少辗轧的各种机械抛光条件，例如使抛光垫更硬、使抛光负荷更小。然而，虽然由这些机械抛光条件减少辗轧获得了一定程度的效果，但是该效果尚不能令人满意。另外，作为能够减少辗轧的抛光组合物，一种含有水、α-氧化铝粒子和硝酸铝的组合物是已知的(日本公开专利№Hei-9-286975)。但是，该组合物没有令人满意的减少辗轧的效果，目前对具有优良的减少辗轧效果的抛光组合物的研究尚不充分。另一方面，近年来，在硬盘的小型化和高容量方面，取得了很大进展，使高密度有了提高，最本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种辗轧减少剂，它含有一种或多种选自具有２－２０个碳原子并具有一个或多个ＯＨ基团或一个或多个ＳＨ基团的羧酸、具有１－２０个碳原子的单羧酸、具有２－３个碳原子的二羧酸及其盐的化合物。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：萩原敏也，藤井滋夫，大岛良晓，
申请(专利权)人：花王株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]