一种基板的抛光装置制造方法及图纸

一种基板的抛光装置，其包括：基座，所述基座支承抛光部，所述基座上设置有放置所述基板的抛光垫；抛光部，其包括与所述基板接触的抛光板，所述抛光板设置于所述基座上且位于所述抛光垫的上方；驱动部，所述驱动部固定在所述基座上，所述驱动部驱动所述抛光部直线往复运动。本实用新型专利技术的基板的抛光装置，采用直线往复运动的形式对ITO表面进行抛光，能够避免采用高速旋转的抛光板引起的过度磨损并导致PIN HOLE的现象。

A polishing device for substrate

Polishing device, a substrate comprising a base, the base supporting the polishing department, the base is provided with a polishing pad for placing the substrate; polishing department, including polishing plate contact with the substrate, the polishing plate is arranged on the base and is located in the polishing pad the driving part; the driving part is fixed on the base, the driving part drives the movement of the linear reciprocating polishing department. The substrate polishing apparatus of the utility model, the linear reciprocating motion in the form of polishing on the surface of ITO, and can avoid the high-speed rotation of the polishing plate and cause excessive wear of PIN HOLE.

【技术实现步骤摘要】
一种基板的抛光装置
本技术涉及基板表面处理
，具体涉及一种基板的抛光装置。
技术介绍
OLED显示技术具有自发光的特性，采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，当有电流通过时，这些有机材料就会发光，OLED显示屏幕可视角度大并且节省电能，近年来该显示设备已经得到了越来越多的广泛运用。其中OLED的基本结构是由一薄而透明具半导体特性之铟锡氧化物(ITO)作为阳极，再加上金属阴极，与有机材料包成如三明治的结构。其中ITO已广泛应用在商业化的显示器面板制造，其具有高透射率、低电阻率及高功函数等优点。一般而言，利用射频溅镀法(RFsputtering)所制造的ITO，易受工艺控制因素不良而导致表面不平整，进而产生表面的尖端物质或突起物。另外高温锻烧及再结晶的过程亦会产生表面突起层。这些不平整层的细粒之间所形成的路径会提供空穴直接射向阴极的机会，而这些错综复杂的路径会使漏电流增加，因此对ITO表面平整度的控制尤为重要。OLED发光器件对其透明阳极的表面ITO表面的粗糙度有较高的要求，目前业内普遍会对该ITO材料表面进行抛光再处理，以提高粗糙度改善器件良率。现有技术中普遍采用的是类似于抛光玻璃基板的方式(旋转抛光)对阳极表面进行处理。例如韩国专利文献KR1020060029332A中公开了一种用于OLED的ITO薄膜的抛光装置，其中该OLED的ITO薄膜的抛光装置被用于以提高ITO表面的抛光精度，其包括自旋转控制器、加压控制器、和操作面板。该OLED的ITO薄膜的抛光装置主要包括下压板、抛光垫、具有抛光固定器的台板、气缸、旋转驱动单元，其中旋转驱动单元用于旋转所述下压板，下压板按压所述台板上，抛光溶液供应单元用于提供抛光溶液到所述下压板，自旋控制器用于控制所述旋转驱动单元，所述气缸的加压控制器用于调整所述气缸的运动，旋转控制器用于控制所述旋转驱动单元。但上述专利文献中的抛光装置主要通过旋转抛光方式对ITO表面进行处理，上述旋转抛光方式存在以下缺点：(1)旋转速度过快，无法有效控制衬底ITO表面的抛光剥离厚度，且由于是采用小面积的抛光板旋转式来回抛光整体基板，因此完整抛光一个基板表面的时间较长、抛光效率低，且基板表面的整体粗糙度难以控制；(2)该抛光装置搭配的抛光板材质较硬，适用于玻璃基板，但用于ITO抛光时，对ITO等半导体材质损伤较大，在ITO表面易造成大量的PINHOLE(穿孔)不良现象，抛光过程可控性差，影响器件发光效率。
技术实现思路
因此，本技术要解决的技术问题在于克服现有技术中的抛光效率低、可控性差、已造成产品表面抛光不良的缺陷，从而提供一种操作简单，降低基板表面抛光过渡磨损的基板的抛光装置。为此，此处依次列出权利要求书记载的全部技术方案；一种基板的抛光装置，其包括：基座，所述基座支承抛光部，所述基座上设置有放置所述基板的抛光垫；抛光部，其包括与所述基板接触的抛光板，所述抛光板设置于所述基座上且位于所述抛光垫的上方；驱动部，所述驱动部固定在所述基座上，所述驱动部驱动所述抛光部直线往复运动。进一步地，所述抛光垫为方形垫，所述抛光板平行于所述抛光垫的一条边设置，且其长度与所述抛光垫的所述边相符，所述抛光板沿与所述边垂直的另一条边进行直线往复运动。进一步地，所述抛光装置还包括传动部和引导装置，所述传动部连接所述驱动部与所述抛光部，所述抛光部通过连接件分别与所述传动部和所述引导装置连接。进一步地，所述传动部包括水平带传动装置，所述水平带传动装置包括位于所述抛光垫前后两端的水平带轮和沿所述抛光板运动方向设置的水平传动带，所述连接件的上表面与所述水平传动带固定连接。进一步地，所述引导装置为滑轨，所述连接件的下表面设置有与所述滑轨配合的所述滑槽，所述滑槽内设置有与所述滑轨抵接的滚轮。进一步地，所述水平带传动装置和所述滑轨设置在所述抛光垫的至少一侧。进一步地，所述传动部还包括竖向带传动装置，所述竖向带传动装置的一个带轮与所述驱动部的输出端连接，所述竖向带传动装置的另一个带轮与所述水平带传动装置其中一端的主动水平带轮同轴设置。进一步地，所述基座为框架体，所述驱动部设置于所述框架体内，所述框架体上表面还设有允许所述竖向传动装置的传动带通过的槽体。进一步地，所述抛光部还包括与所述抛光板连接的压力调节装置和压力检测件，所述压力调节装置控制所述抛光板与所述基板表面的接触压力。进一步地，所述的基板的抛光装置的抛光液为氧化铝抛光液。本技术技术方案，具有如下优点：1.本技术的基板的抛光装置，采用直线往复运动的形式对基板表面进行抛光，能够避免采用高速旋转的抛光板引起的过度磨损并导致PINHOLE的现象。2.本技术的基板的抛光装置，采用高密度海绵抛光棉抛光，对基板阳极表面处理时损伤较小，可有效控制PINHOLE的产生。3.本技术基板的抛光装置，主要由新型材质抛光棉、抛光垫、定向水平导轨、驱动马达、压力感应器、压力调节装置等组成，在压力感应器和压力调节装置的作用下可调节抛光棉与底部的抛光垫的等距作用力，从而保证玻璃基板的所有区域的粗糙度水平一致。4.本技术基板的抛光装置，配合使用纳米级氧化铝抛光液，该纳米级氧化铝抛光液的晶相稳定、硬度高、颗粒小、悬浮性高且分布均匀；并且磨削力强、抛光后平整度高，适用于高精密加工行业；同时该抛光液的黏度小，介质膜层吸附比Ce2O3轻微，易于去除。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的基板的抛光装置的结构示意图；附图标记说明：1-抛光板；2-抛光垫；3-滑轨；4-载板；5-槽体,6-压力传感器；7-压力陀；8-弹簧支撑杆；9-框架体；10-操控面板；11-压力调节装置；12-驱动部；13-传动带；14-连接件；具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。此外，下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板的抛光装置，其特征在于：包括：基座，所述基座支承抛光部，所述基座上设置有放置所述基板的抛光垫；抛光部，其包括与所述基板接触的抛光板，所述抛光板设置于所述基座上且位于所述抛光垫的上方；驱动部，所述驱动部固定在所述基座上，所述驱动部驱动所述抛光部直线往复运动。

【技术特征摘要】
1.一种基板的抛光装置，其特征在于：包括：基座，所述基座支承抛光部，所述基座上设置有放置所述基板的抛光垫；抛光部，其包括与所述基板接触的抛光板，所述抛光板设置于所述基座上且位于所述抛光垫的上方；驱动部，所述驱动部固定在所述基座上，所述驱动部驱动所述抛光部直线往复运动。2.根据权利要求1所述的基板的抛光装置，其特征在于：所述抛光垫为方形垫，所述抛光板平行于所述抛光垫的一条边设置，且其长度与所述抛光垫的所述边相符，所述抛光板沿与所述边垂直的另一条边进行直线往复运动。3.根据权利要求2所述的基板的抛光装置，其特征在于：所述抛光装置还包括传动部和引导装置，所述传动部连接所述驱动部与所述抛光部，所述抛光部通过连接件分别与所述传动部和所述引导装置连接。4.根据权利要求3所述的基板的抛光装置，其特征在于：所述传动部包括水平带传动装置，所述水平带传动装置包括位于所述抛光垫前后两端的水平带轮和沿所述抛光板运动方向设置的水平传动带，所述连接件的上表面与所述水平传动带固定连接。5.根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张民井，洪耀，毛成飞，曹瑞丰，郭丰，高裕弟，孙剑，
申请(专利权)人：枣庄维信诺电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：山东,37