The utility model discloses a flip wafer washing device, including washing box, box and jet fan, the washing box is provided with a flushing box door, one side of the washing tank is provided with a motor housing, wherein the outer side of the electric cabinet is equipped with a control panel, the flushing the bottom of the box is provided with a water outlet, the water pipe is connected with the water pump, the other side of the spray pipe to flush the embedded inside the box, and another one side of the tube wall spray pipe is provided with a plurality of nozzles, the flush box also installed inside a one shaft, wherein a No. No. two shaft and shaft connected by a transmission belt, the top of the washing box is provided with a hot air blower, the blower is connected with the inner side of the top box jet washing tank through a pipeline. The silicon wafer flip flushing device is equipped with two rotating shafts, which can install more silicon wafers, and the sprinkler head in the cleaning box is evenly distributed, the cleaning effect is good, the working efficiency is high, and the water consumption is few.
【技术实现步骤摘要】
一种硅片翻转冲洗装置
本技术涉及机械
,具体为一种硅片翻转冲洗装置。
技术介绍
随着大规模集成电路的发展、集成电路的集成度不断提高、线宽不断减小,集成电路对硅片表面的洁净度、表面化学态、氧化膜厚度的要求也越来越高。半导体器件生产中的硅片必须经严格清洗,否则即使微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括无机物和有机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染物包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染物包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属和钠等会引起严重漏电。颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等会导致各种缺陷。现有的硅片冲洗装置在清洗过程中硅片表面水喷淋不均匀,导致硅片表面有大量的药液残留,清洗效果不佳,工作效率低,用水量大,并且清洗后还需要取出烘干,浪费时间。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种硅片翻转冲洗装置,以解决上述
技术介绍
中提出的喷淋不均匀,导致硅片表面有大量的药液残留,清洗效果不佳,工作效率低,用水量大,并且清洗后还需要取出烘干,浪费时间的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种硅片翻转冲洗装置,包括冲洗箱、冲洗箱门、电动机箱、控制面板、冲洗箱门锁扣、电动机、传动带、支撑架、集水箱、出水口、二号转轴、清洗液箱、抽水管、喷水管、一号转轴、喷气盒、热风机、喷嘴和水泵,所述冲洗箱上设置有一个冲洗箱门,所述冲洗箱的一侧设置有一个电动机箱,所述电动机箱的外侧安装有一个控制面板,所述冲洗箱门上设置 ...
【技术保护点】
一种硅片翻转冲洗装置,包括冲洗箱(1)、冲洗箱门(2)、电动机箱(3)、控制面板(4)、冲洗箱门锁扣(5)、电动机(6)、传动带(7)、支撑架(8)、集水箱(9)、出水口(10)、二号转轴(11)、清洗液箱(12)、抽水管(13)、喷水管(14)、一号转轴(15)、喷气盒(16)、热风机(17)、喷嘴(18)和水泵(19),其特征在于:所述冲洗箱(1)上设置有一个冲洗箱门(2),所述冲洗箱(1)的一侧设置有一个电动机箱(3),所述电动机箱(3)的外侧安装有一个控制面板(4),所述冲洗箱门(2)上设置有一个冲洗箱门锁扣(5),所述电动机箱(3)内安装有一个电动机(6),所述电动机(6)的一侧设置有一根二号转轴(11),所述电动机箱(3)的底部安装有两根支撑架(8),所述冲洗箱(1)的底部设置有一个出水口(10),所述出水口(10)的底部设置有一个集水箱(9),所述冲洗箱(1)的另一侧设置有一个清洗液箱(12),所述清洗液箱(12)的底部安装有两根支撑架(8),所述抽水管(13)的一侧嵌入清洗液箱(12)内部,所述抽水管(13)的另一侧与水泵(19)连接,所述喷水管(14)的一侧与水泵(1 ...
【技术特征摘要】
1.一种硅片翻转冲洗装置,包括冲洗箱(1)、冲洗箱门(2)、电动机箱(3)、控制面板(4)、冲洗箱门锁扣(5)、电动机(6)、传动带(7)、支撑架(8)、集水箱(9)、出水口(10)、二号转轴(11)、清洗液箱(12)、抽水管(13)、喷水管(14)、一号转轴(15)、喷气盒(16)、热风机(17)、喷嘴(18)和水泵(19),其特征在于:所述冲洗箱(1)上设置有一个冲洗箱门(2),所述冲洗箱(1)的一侧设置有一个电动机箱(3),所述电动机箱(3)的外侧安装有一个控制面板(4),所述冲洗箱门(2)上设置有一个冲洗箱门锁扣(5),所述电动机箱(3)内安装有一个电动机(6),所述电动机(6)的一侧设置有一根二号转轴(11),所述电动机箱(3)的底部安装有两根支撑架(8),所述冲洗箱(1)的底部设置有一个出水口(10),所述出水口(10)的底部设置有一个集水箱(9),所述冲洗箱(1)的另一侧设置有一个清洗液箱(12),所述清洗液箱(12)的底部安装有两根支撑架(8),所述抽水管(13)的一侧嵌入清洗液箱(12)内部,所述抽水管(...
【专利技术属性】
技术研发人员:袁西冰,赵驯峰,李长虹,
申请(专利权)人:贵州大学,
类型:新型
国别省市:贵州,52
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