同轴腔介质振荡器及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种同轴腔介质振荡器及其制备方法和应用，其中，所述同轴腔介质振荡器包括内部形成有腔体结构的第一柱体(1)，和套合所述第一柱体(1)的第二柱体(2)，且所述第一柱体(1)和所述第二柱体(2)的两个端面在各自同一平面上，且所述第一柱体(1)和所述第二柱体(2)的端面的表面为非金属层表面，所述第一柱体(1)和所述第二柱体(2)的内侧面和外侧面覆盖有金属层。通过上述设计，实现了在不影响电路性能的前提下，能够提高工作频率，减小振荡器长度的效果。

Coaxial cavity dielectric oscillator and its preparation method and Application

The invention discloses a coaxial dielectric oscillator and a preparation method and application thereof, wherein, the coaxial cavity is formed in the first dielectric oscillator includes a cylindrical cavity (1), and set the first column (1) of the second column (2), and the first column (1) and the second column (2) of the two end in the same plane, and the first column (1) and the second column (2) on the surface of the end surface non metal layer, the first column (1) and the second column the body (2) on the inner surface and the outer surface is covered with a metal layer. Through the above design, the effect of improving the working frequency and reducing the oscillator length is realized without affecting the circuit performance.

【技术实现步骤摘要】
同轴腔介质振荡器及其制备方法和应用
本专利技术涉及介质振荡器的制备领域，具体地，涉及同轴腔介质振荡器及其制备方法和应用。
技术介绍
同轴腔介质振荡器以其工作频率高、相噪低、性能稳定的特点，在微波系统中常用于接收机本机振荡器，因此，其性能好坏直接影响接收机的灵敏度。同轴腔介质振荡器的工作模式往往是TEM模，而谐振频率与它的外形尺寸和介电常数有关。因此，在相同工作频率和波长模式下，介电常数越大，尺寸越小。因此，在工作频率和介电常数一定的情况下，有时所需的振荡器尺寸太长，甚至超出了生产厂家的生产标准，而太长的振荡器必然导致振荡器与电路板接触面积大，不利于电路的小型化，同时振荡器的安装也比较困难。因此，提供一种在不影响电路性能的前提下，能够提高工作频率，减小振荡器长度的同轴腔介质振荡器及其制备方法是本专利技术亟需解决的问题。
技术实现思路
针对上述现有技术，本专利技术的目的在于克服现有技术中同轴腔介质振荡器往往在工作频率和介电常数一定的情况下，其尺寸较大，不利于生产和使用的问题，从而提供一种在不影响电路性能的前提下，能够提高工作频率，减小振荡器长度的同轴腔介质振荡器及其制备方法。为了实现上述目的，本专利技术提供了一种同轴腔介质振荡器，其中，所述同轴腔介质振荡器包括内部形成有腔体结构的第一柱体，和套合所述第一柱体的第二柱体，且所述第一柱体和所述第二柱体的两个端面在各自同一平面上，且所述第一柱体和所述第二柱体的端面的表面为非金属层表面，所述第一柱体和所述第二柱体的内侧面和外侧面覆盖有金属层。优选地，端面所在的平面与侧面形成的角度为90°。本专利技术还提供了一种根据上述所述的同轴腔介质振荡器的制备方法，其中，所述制备方法包括：将同轴腔介质振荡器雏形的具有金属层的端面表面的金属层去除，制得同轴腔介质振荡器；其中，所述同轴腔介质振荡器雏形包括第一柱体雏形和第二柱体雏形，且所述第一柱体雏形和所述第二柱体雏形的一个端面的表面为金属层表面，另一个端面的表面为非金属层表面，所述第一柱体雏形和所述第二柱体雏形的内侧面和外侧面覆盖有金属层。优选地，所述同轴腔介质振荡器雏形的频率为f，所述同轴腔介质振荡器的频率为2f。优选地，金属层去除为采用金刚锉锉去。优选地，所述制备方法还包括将去除了金属层的端面进行打磨。本专利技术还提供了一种根据上述所述的同轴腔介质振荡器在TEM模式下的应用。根据上述技术方案，本专利技术将同轴腔介质振荡器雏形的金属层表面的金属层去除，且其另一个非金属层表面不改变，其第一柱体雏形和第二柱体雏形的内侧面和外侧面的金属层均不变，从而使得通过上述简单的改进，能够将其输出频率提高为原来的两倍，从而达到在实现相同的技术效果的前提下，同轴腔介质振荡器的尺寸能相较于同轴腔介质振荡器雏形小一倍。本专利技术的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1是本专利技术提供的一种同轴腔介质振荡器的侧视图；图2是本专利技术提供的一种同轴腔介质振荡器的主视图。附图标记说明1-第一柱体2-第二柱体。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。在本专利技术中，在未作相反说明的情况下，“内部、端面”等包含在术语中的方位词仅代表该术语在常规使用状态下的方位，或为本领域技术人员理解的俗称，而不应视为对该术语的限制。本专利技术提供了一种同轴腔介质振荡器，其中，如图1和图2所示，所述同轴腔介质振荡器包括内部形成有腔体结构的第一柱体1，和套合所述第一柱体1的第二柱体2，且所述第一柱体1和所述第二柱体2的两个端面在各自同一平面上，且所述第一柱体1和所述第二柱体2的端面的表面为非金属层表面，所述第一柱体1和所述第二柱体2的内侧面和外侧面覆盖有金属层。上述设计通过将同轴腔介质振荡器雏形的金属层表面的金属层去除，且其另一个非金属层表面不改变，其第一柱体雏形和第二柱体雏形的内侧面和外侧面的金属层均不变，从而使得通过上述简单的改进，能够将其输出频率提高为原来的两倍，从而达到在实现相同的技术效果的前提下，同轴腔介质振荡器的尺寸能相较于同轴腔介质振荡器雏形小一倍。当然，这里的第一柱体1和第二柱体2可以按照本领域常规形状进行设置，例如，可以为圆柱或是方形柱体。为了使得具有更好的使用效果，一种优选的实施方式中，端面所在的平面与侧面形成的角度为90°。本专利技术还提供了一种根据上述所述的同轴腔介质振荡器的制备方法，其中，所述制备方法包括：将同轴腔介质振荡器雏形的具有金属层的端面表面的金属层去除，制得同轴腔介质振荡器；其中，所述同轴腔介质振荡器雏形包括第一柱体雏形和第二柱体雏形，且所述第一柱体雏形和所述第二柱体雏形的一个端面的表面为金属层表面，另一个端面的表面为非金属层表面，所述第一柱体雏形和所述第二柱体雏形的内侧面和外侧面覆盖有金属层。进一步优选的实施方式中，通过上述制备，所述同轴腔介质振荡器雏形的频率为f，所述同轴腔介质振荡器的频率为2f。这里金属层的去除可以按照本领域常规方式进行操作，例如，一种优选的实施方式中，金属层去除可以为采用金刚锉锉去。进一步优选的实施方式中，所述制备方法还包括将去除了金属层的端面进行打磨。从而使得去除金属层的端面更为光滑平整。本专利技术还提供了一种根据上述所述的同轴腔介质振荡器在TEM模式下的应用。以上结合附图详细描述了本专利技术的优选实施方式，但是，本专利技术并不限于上述实施方式中的具体细节，在本专利技术的技术构思范围内，可以对本专利技术的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本专利技术的保护范围。另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本专利技术对各种可能的组合方式不再另行说明。此外，本专利技术的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本专利技术的思想，其同样应当视为本专利技术所公开的内容。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种同轴腔介质振荡器，其特征在于，所述同轴腔介质振荡器包括内部形成有腔体结构的第一柱体(1)，和套合所述第一柱体(1)的第二柱体(2)，且所述第一柱体(1)和所述第二柱体(2)的两个端面在各自同一平面上，且所述第一柱体(1)和所述第二柱体(2)的端面的表面为非金属层表面，所述第一柱体(1)和所述第二柱体(2)的内侧面和外侧面覆盖有金属层。

【技术特征摘要】
1.一种同轴腔介质振荡器，其特征在于，所述同轴腔介质振荡器包括内部形成有腔体结构的第一柱体(1)，和套合所述第一柱体(1)的第二柱体(2)，且所述第一柱体(1)和所述第二柱体(2)的两个端面在各自同一平面上，且所述第一柱体(1)和所述第二柱体(2)的端面的表面为非金属层表面，所述第一柱体(1)和所述第二柱体(2)的内侧面和外侧面覆盖有金属层。2.根据权利要求1所述的同轴腔介质振荡器，其特征在于，端面所在的平面与侧面形成的角度为90°。3.一种根据权利要求1或2所述的同轴腔介质振荡器的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将同轴腔介质振荡器雏形的具有金属层的端面表面的金属层去除，制得同轴腔...

【专利技术属性】
技术研发人员：曲燕霞，朱良凡，吴文书，叶贝贝，
申请(专利权)人：安徽华东光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：安徽,34