一种吸波结构及终端制造技术

本实用新型专利技术提供了一种吸波结构及终端。本实用新型专利技术提供的吸波结构包括：至少一个层叠结构；每个所述层叠结构自下而上包括：第一金属层、介质层与第二金属层；在垂直于所述层叠结构所在平面的方向上，所述第一金属层为正方形，所述介质层与所述第二金属层为圆形；所述介质层的直径与所述第二金属层的直径相等，所述第一金属层的边长大于所述介质层的直径；所述第一金属层的中心点、所述介质层的圆心与所述第二金属层的圆心相同。因此，本实用新型专利技术提供的技术方案能够在一定程度上提高现有技术中终端的散热能力。

A wave absorbing structure and terminal

The utility model provides a wave absorbing structure and terminal. The utility model provides a wave absorbing structure includes at least one stacked structure; each of the stacked structure bottom includes a first metal layer and the dielectric layer and the second metal layer; in the plane perpendicular to the direction of the laminated structure, the first metal layer is a square, the dielectric layer and the second the metal layer is round; the diameter of the dielectric layer and the second metal layer is equal to the diameter, length of the first metal layer is larger than the diameter of the dielectric layer; the center point, the first metal layer of the center of the dielectric layer and the second metal layer of the same. Therefore, the technical scheme provided by the utility model can improve the heat dissipation capability of the terminal in the existing technology to a certain extent.

【技术实现步骤摘要】
一种吸波结构及终端
本技术涉及功能材料与器件
，尤其涉及一种吸波结构及终端。
技术介绍
目前，终端中的各功能性器件在工作过程中，会使得这些器件表面的温度上升，最高可高达40℃～70℃，而温度的上升会导致有大量的热量累计在终端内，进而，可能导致终端被烧毁。基于此，如何实现终端的散热是至关重要的。现有技术中，一般是在一些需要保护的器件外部设置的屏蔽盖上覆盖石墨来实现散热的。在实现本技术过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：通过石墨进行散热时，由于石墨在40℃～70℃左右的发射率较低，因此，石墨能够向外辐射散热的能力较弱。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供了一种吸波结构及终端，能够在一定程度上提高现有技术中终端的散热能力。一方面，本技术提供了一种吸波结构，所述吸波结构包括：至少一个层叠结构；每个所述层叠结构自下而上包括：第一金属层、介质层与第二金属层；在垂直于所述层叠结构所在平面的方向上，所述第一金属层为正方形，所述介质层与所述第二金属层为圆形；所述介质层的直径与所述第二金属层的直径相等，所述第一金属层的边长大于所述介质层的直径；所述第一金属层的中心点、所述介质层的圆心与所述第二金属层的圆心相同。如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述第一金属层的边长为6μm，所述第二金属层的边长为3.1μm。如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述第一金属层的厚度为0.25μm；所述介质层的厚度为0.22μm；所述第二金属层的厚度为0.12μm。如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述第一金属层的材质与所述第二金属层的材质相同。如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述第一金属层与所述第二金属层的材质为铝；所述介质层的材质为三氧化二铝。如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述吸波结构设置于终端的屏蔽盖表面。如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述第一金属层设置于所述屏蔽盖表面，并且，所述第二金属层设置于所述第一金属层远离所述屏蔽盖的一侧。另一方面，本技术提供了一种终端，包括：上述的吸波结构。如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述终端还包括：屏蔽盖；所述吸波结构设置于所述屏蔽盖表面。上述技术方案中的一个技术方案具有如下有益效果：本技术中，利用电磁超材料(Electromagneticmetamaterial)的谐振特性，吸波结构会与入射电场产生电谐振，并且，在每个层叠结构中相对设置的第一金属层与第二金属层之间，会感应出方向平行的电流，导致与入射磁场产生次谐振，从而，使得电磁波被有效地局限在吸波结构中，基于此，可以使得吸波结构与空间阻抗相匹配，进而，使得入射电磁波在谐振点的反射为零，同时，由于第一金属层能够阻止入射波的透过，因此，可以形成一个近乎100％吸收效果的吸收峰，而根据基尔霍夫定律，物体的吸收率与其发射率相等，因此，本技术提供的技术方案，能够在一定程度上提升吸波结构的吸收率，从而，使得该吸波结构能够以较大的发射率向外辐射热量，以降低终端的表面温度，也就是说，能够在一定程度上提高现有技术中终端的散热能力。【附图说明】为了更清楚地说明本技术的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1是本技术所提供的吸波结构的俯视示意图；图2是本技术所提供的吸波结构中一个层叠结构的俯视示意图；图3是图2中A-A’处的剖面结构图；图4是本技术中吸波结构的吸收率与波长的关系示意图；图5是本技术所提供的终端的结构示意图。【具体实施方式】为了更好的理解本技术的技术方案，下面结合附图对本技术进行详细描述。应当明确，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本技术。在本技术和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。应当理解，尽管在本技术中可能采用术语第一、第二、第三等来描述金属层，但这些金属层不应限于这些术语。这些术语仅用来将金属层彼此区分开。例如，在不脱离本技术范围的情况下，第一金属层也可以被称为第二金属层，类似地，第二金属层也可以被称为第一金属层。取决于语境，如在此所使用的词语“如果”可以被解释成为“在……时”或“当……时”或“响应于确定”或“响应于检测”。类似地，取决于语境，短语“如果确定”或“如果检测(陈述的条件或事件)”可以被解释成为“当确定时”或“响应于确定”或“当检测(陈述的条件或事件)时”或“响应于检测(陈述的条件或事件)”。需要注意的是，本技术所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本技术的限定。此外在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件被形成在另一个元件“上”或“下”时，其不仅能够直接形成在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接形成在另一元件“上”或者“下”。针对现有技术中所存在的终端的散热能力较弱的问题，本技术提供了如下解决思路：在终端中设计一个具有较大发射率的吸波结构，通过该吸波结构快速地向外辐射热量，以防止终端由于过热而损坏。在该思路的引导下，本方案实施例提供了以下可行的实施方案。实施例一本技术给出一种吸波结构。具体的，请参考图1，其为本技术所提供的吸波结构的俯视示意图，如图1所示，该吸波结构包括有至少一个层叠结构100。需要说明的是，图1中各层叠结构100的数目及排布方式都仅为示例性的。在具体实现本方案的过程中，可以如图1所示，将这些层叠结构100矩阵排布。或者，在其他的实现过程中，还可以将这些层叠结构菱形交叉分布等，本技术对于层叠结构的排布方式不进行特别限定。以下，为了更具体的说明本方案，以图1中的一个层叠结构100为例，具体说明吸波结构的具体结构。具体的，请参考图2和图3，其中，图2为本技术所提供的吸波结构中一个层叠结构的俯视结构图，图3是图2中A-A’处的剖面结构图。结合图2与图3所示，每个层叠结构自下而上包括：第一金属层11、介质层13与第二金属层12。并且，如图2所示，在垂直于该层叠结构100所在平面的方向上，第一金属层11为正方形，介质层13与第二金属层12为圆形。本技术中，介质层13的直径与第二金属层12的直径相等，并且，介质层13的圆心与第二金属层12的圆心相同，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吸波结构，其特征在于，所述吸波结构包括：至少一个层叠结构；每个所述层叠结构自下而上包括：第一金属层、介质层与第二金属层；在垂直于所述层叠结构所在平面的方向上，所述第一金属层为正方形，所述介质层与所述第二金属层为圆形；所述介质层的直径与所述第二金属层的直径相等，所述第一金属层的边长大于所述介质层的直径；所述第一金属层的中心点、所述介质层的圆心与所述第二金属层的圆心相同。

【技术特征摘要】
1.一种吸波结构，其特征在于，所述吸波结构包括：至少一个层叠结构；每个所述层叠结构自下而上包括：第一金属层、介质层与第二金属层；在垂直于所述层叠结构所在平面的方向上，所述第一金属层为正方形，所述介质层与所述第二金属层为圆形；所述介质层的直径与所述第二金属层的直径相等，所述第一金属层的边长大于所述介质层的直径；所述第一金属层的中心点、所述介质层的圆心与所述第二金属层的圆心相同。2.根据权利要求1所述的吸波结构，其特征在于，所述第一金属层的边长为6μm，所述第二金属层的边长为3.1μm。3.根据权利要求1所述的吸波结构，其特征在于，所述第一金属层的厚度为0.25μm；所述介质层的厚度为0.22μm；所述第二金属层的厚度为0...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢健，
申请(专利权)人：深圳天珑无线科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44