阵列测量装置及阵列定位装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种阵列测量装置及阵列定位装置，所述阵列测量装置测量阵列基板与真空反应装置之间的位置关系，所述阵列基板与所述真空反应装置为方形，所述真空反应装置将所述阵列基板承载于其自身的中心位置，所述阵列测量装置包括镜筒装置、目镜装置、照明装置、透镜装置，其中：所述镜筒装置具有第一端面和第二端面，所述目镜装置靠近所述第一端面，所述目镜装置包括刻度标记，所述透镜装置靠近所述第二端面，所述照明装置位于所述目镜装置和所述透镜装置之间，所述第二端面接触所述阵列基板的一顶角。

Array measuring device and array positioning device

The utility model provides an array measurement device and array positioning device, the relationship between the position of the array measuring device array substrate and vacuum reaction device, the array substrate and the vacuum reaction device for the square, the center position of the vacuum reaction device to the array substrate bearing on its own, the the measuring device comprises a lens array device, eyepiece device, lighting device, lens device, wherein the barrel device has a first end and a second end, wherein the eyepiece device is close to the first end face, wherein the eyepiece device comprises a mark, the lens device is close to the end of second, between the lighting device located in the eyepiece device and the lens device is in contact with the second end face of the first vertex array substrate.

【技术实现步骤摘要】
阵列测量装置及阵列定位装置
本技术涉及光电设备制造
，特别涉及一种阵列测量装置及阵列定位装置。
技术介绍
在阵列的工艺制作中，矩阵的制程会使用到很多反应过程中环境为真空的真空反应装置，若阵列基板在真空反应装置的制造过程中发生开裂或破损等事故，处置起来非常困难，而且造成很大的经济损失，所以，反应前确保阵列基板在真空反应装置中保持正确的位置十分重要，并且需要经常对位置校准。现有技术中对阵列基板在真空反应装置中的位置采用钢尺进行量测和比较，但由于钢尺会与阵列基板发生碰触，阵列基板的材质为玻璃，钢尺碰触很容易造成阵列基板的破碎等，而且操作不便；另外，由于钢尺的刻度最大精度为毫米级，阵列基板与真空反应装置之间的距离也在毫米级之间，因此通过钢尺读取存在较大的误差。因此，需要设计一种使用简便的阵列测量装置及阵列定位装置。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种阵列测量装置及阵列定位装置，以解决现有的阵列测量装置使用不方便的问题。为解决上述技术问题，本技术提供一种阵列测量装置，所述阵列测量装置测量阵列基板与真空反应装置之间的位置关系，所述阵列基板与所述真空反应装置为方形，所述真空反应装置将所述阵列基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列测量装置，所述阵列测量装置测量阵列基板与真空反应装置之间的位置关系，所述阵列基板与所述真空反应装置为方形，所述真空反应装置将所述阵列基板承载于其自身的中心位置，其特征在于，所述阵列测量装置包括镜筒装置、目镜装置、照明装置、透镜装置，其中：所述镜筒装置具有第一端面和第二端面，所述目镜装置靠近所述第一端面，所述目镜装置包括刻度标记，所述透镜装置靠近所述第二端面，所述照明装置位于所述目镜装置和所述透镜装置之间，所述第二端面接触所述阵列基板的一顶角。

【技术特征摘要】
1.一种阵列测量装置，所述阵列测量装置测量阵列基板与真空反应装置之间的位置关系，所述阵列基板与所述真空反应装置为方形，所述真空反应装置将所述阵列基板承载于其自身的中心位置，其特征在于，所述阵列测量装置包括镜筒装置、目镜装置、照明装置、透镜装置，其中：所述镜筒装置具有第一端面和第二端面，所述目镜装置靠近所述第一端面，所述目镜装置包括刻度标记，所述透镜装置靠近所述第二端面，所述照明装置位于所述目镜装置和所述透镜装置之间，所述第二端面接触所述阵列基板的一顶角。2.如权利要求1所述的阵列测量装置，其特征在于，所述刻度标记为“十”字形刻度标记，所述刻度标记包括一中心点和相交于所述中心点的4条刻度线，所述中心点位于所述目镜装置的中心位置，所述各个刻度线相互垂直或与其他刻度线的反向延长线重合。3.如权利要求2所述的阵列测量装置，其特征在于，所述第二端面外侧的物体的图像投射到所述目镜装置上。4.如权利要求3所述的阵列测量装置，其特征在于，所述阵列基板的一顶角的图像投射到所述目镜装置上，且所述顶角与所述中心点重合，所述顶角的两个侧边与所述刻度线或所述刻度线的反向延长线重合。5.如权利要求4所述的阵列测量装置，其特征在于，所述投射到所述目镜装置上的物体的图像...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡贤夫，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32