流动性研磨膏及其制造方法、用途技术

本发明专利技术提供一种以高浓度含有以氧化铈为主成分的研磨材料，同时具有优异的品质稳定性和流动性的研磨膏。本发明专利技术的流动性研磨膏，按固体成分浓度计含有３０～９５质量％的以氧化铈为主成分的研磨材料，并且膏的表面亮度的变化率为１０％／小时以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术提供一种以高浓度含有以氧化铈为主成分的研磨材料，同时具有优异的品质稳定性和流动性，在工业上极其有用的流动性研磨膏(抛光膏)及其制造方法、其使用方法等。
技术介绍
近年来，研磨材料在各种领域中被应用。特别是以氧化铈为主成分的研磨材料，多用于玻璃材料和水晶的研磨，在光盘和磁盘用玻璃基板(基片)、薄膜晶体管(TFT)型LCD和扭转向列(TN)型LCD等的液晶用玻璃基板、液晶TV用滤色器、TV显像管(CRT)、眼镜透镜、光学透镜、LSI光掩模用玻璃基板、嵌网板玻璃、水晶振子用基板、半导体晶片氧化膜等的研磨中正被使用，在电子学相关基板的研磨技术中正占有日益重要的地位，对品质的要求也越发严格。例如，在磁盘用基板领域，与对与轻量化相伴的薄型化和高速旋转时磁盘可耐受的高刚性等机械特性的要求一同，对高记录密度化的要求极大地提高。为了达成高记录密度化的目的，磁头相对于磁盘基板的浮起高度不断变得非常小，为了达成这一点，对于基板要求具有高精度的平坦度和表面光洁度、以及极力要求表面不存在微小划痕和微小的凹坑(pit)等缺陷。另外，为了使其满足上述的薄型化和高的机械特性或者高的记录密度，对于玻璃的化学组成、制造方法也进行着各种各样的改良。作为玻璃基板，除了历来一直使用的化学强化玻璃以外，也正开发着以硅酸锂为主成分的结晶化玻璃基板和石英晶体占大半的结晶化玻璃基板。另一方面，以稀土类氧化物、特别是氧化铈为主成分的研磨材料，其研磨速度比作为现有的在玻璃基板的表面研磨中使用的研磨材料的、氧化铁和氧化锆或二氧化硅提高数倍，因此正在被使用。作为这样的研磨材料的制品形态，已知象例如特开平6-330025号公报和特开2002-129144号公报所显示的、将研磨材料本身精加工成粉末状的研磨材料制品、和象特开2002-180034号公报和特开2002-265931号公报所显示的、精加工成为浆液的研磨材料制品。其中，粉末状的研磨材料制品，例如进行实际的研磨时需要定期地进行计量规定量的研磨材料粉末、并向研磨材料供给槽供给的作业。在这样的粉末操作中，存在发生粉尘的问题和伴随着计量的精度难以保证的问题。一般地粉末被直接供给研磨液供给槽，所以在容器中不容易分散，作为结果也存在难以稳定地得到研磨性能的问题。另一方面，浆液状的制品的场合，可以回避上述粉末状制品的操作上的问题，但这样的浆液通过长时间静置容易生成硬的沉淀，再悬浮时花费工夫，另一方面，需要大量运输其成分水，物流成本变高，根据场合不同，还存在需要浆液专用的运输容器这一处置上的问题。
技术实现思路
为了解决这样的问题，本专利技术者们潜心研讨的结果发现，能够通过一种流动性研磨膏来提供可以解决上述一系列的问题、并且极其实用的、容易操作的研磨材料，所述的流动性研磨膏其特征在于，是按固体成分浓度计含有30～95质量％的以氧化铈为主成分的研磨材料(也有时称为铈系研磨材料)的流动性研磨膏，并且将流动性研磨膏均匀混合并静置后的膏的表面亮度的变化率为10％/小时以下。即，本专利技术提供下述方案。(1)一种流动性研磨膏，其特征在于，按固体成分浓度计含有30～95质量％的以氧化铈为主成分的研磨材料，并且表面亮度的变化率为10％/小时以下。(2)根据上述(1)所述的流动性研磨膏，表面亮度的变化率为6％/小时以下。(3)根据上述(1)或(2)的任一项所述的流动性研磨膏，相对于上述100质量份研磨材料，含有1～30质量份的表面活性剂。(4)根据上述(3)所述的流动性研磨膏，表面活性剂为阴离子系表面活性剂或非离子系表面活性剂。(5)根据上述(1)～(4)的任一项所述的流动性研磨膏，研磨材料含有换算成氧化物的量为35～90质量％的铈。(6)根据上述(1)～(5)的任一项所述的流动性研磨膏，研磨材料的固体成分浓度为50～90质量％。(7)根据上述(1)～(6)的任一项所述的流动性研磨膏，研磨材料的平均一次粒子粒径为10～80nm。(8)根据上述(1)～(7)的任一项所述的流动性研磨膏，研磨材料的比表面积为1～50m2/g。(9)根据上述(1)～(8)的任一项所述的流动性研磨膏，研磨材料的平均二次粒子粒径为0.1～1μm。(10)一种流动性研磨膏，其特征在于，上述(1)～(9)的任一项所述的研磨膏被充填在柔性容器中。(11)一种废弃的研磨膏容器的回收方法，将上述(10)所述的研磨膏所使用的容器缩小体积进行回收。(12)一种流动性研磨膏的制造方法，其特征在于，向以氧化铈为主成分的研磨材料的浆液中添加表面活性剂、形成絮状物之后，通过进行浓缩使固体成分浓度在30～95质量％的范围。(13)根据上述(12)所述的高品质流动性研磨膏的制造方法，表面活性剂为阴离子系表面活性剂或非离子系表面活性剂。(14)一种研磨浆液的制造方法，其特征在于，对上述(1)～(10)的任一项所述的流动性研磨膏进行稀释。(15)一种基板的研磨方法，使用上述(1)～(10)的任一项所述的研磨膏。实施专利技术的最佳方案以下，详细说明本专利技术。本专利技术涉及一种按固体成分浓度计含有30～95质量％、优选含有50～90质量％的以氧化铈为主成分的研磨材料的膏体。当固体成分浓度低于30质量％时，会产生由于水分增加所致的物流上的问题等。另一方面，当超过95质量％时，成为流动性低的膏或成为粉状而变得难以处置。本专利技术发现可以存在一种流动性研磨膏，该流动性研磨膏是按固体成分浓度计含有30～95质量％、优选含有50～90质量％的以氧化铈为主成分的研磨材料的流动性研磨膏，将流动性研磨膏均匀混合并静置后的膏的表面亮度的变化率为10％/小时以下(优选为6％/小时以下，进一步优选为4％/小时以下)，并且，确认了通过使用该流动性研磨膏可以解决上述有关处置上的问题，从而完成了本专利技术。在此，所谓静置，是指实质上对以氧化铈为主成分的流动性研磨膏完全不施加震荡、振动、搅拌、反转、对流等除了重力以外的外力的状态。另外，是否被均匀混合，例如装入透明容器中的膏，确认其底面、上面、侧面等的表面亮度无差别即可。膏表面亮度，是能够使用市售的一般的光谱反射率计、色差计或比色测验器(color tester)等的测定器来测定的光学特性。例如，将膏放入具有底面、上面、侧面的透明的容器内，在其底面、上面、侧面的代表性的位置测定表面亮度即可。装入膏而进行测定的容器，优选是采用透明度高的玻璃、塑料材料构成的透明的容器。容器的大小、形状和膏的充填量是使用的测定器能够测定的大小、形状和量即可。表面亮度的差，以膏刚刚静置后的表面亮度为基准(100％)，经过规定时间(例如1小时)后测定底面、上面和侧面的表面亮度，求出与基准之差。根据测定部分不同测定值不同的场合，使用表面亮度之差最大的部分的测定值即可。再者，在本专利技术中，将平均单位时间的表面亮度之差作为表面亮度的变化率。表面亮度的变化率，可以优选用作为研磨材料的处置容易度的指标。例如，如果表面亮度的变化率为10％/小时以下，则不需要超声波分散装置等，采用简单的搅拌就能够再悬浮。如果表面亮度的变化率更少，则能够容易地进行再悬浮。作为在本专利技术中使用的以氧化铈为主成分的研磨材料，可以含有氧化铈以外的其它物质，例如镧(La)、钕(Nd)、镨(Pr)或者它们的氧化物等。本专利技术所使用的铈系研磨材料，一次粒子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种流动性研磨膏，其特征在于，按固体成分浓度计含有３０～９５质量％的以氧化铈为主成分的研磨材料，并且表面亮度的变化率为１０％／小时以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：今井文男，三枝浩，伊藤桂，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]