用于支撑基板的载体以及所述载体的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)。所述载体包括：框架(110)，所述框架被配置成用于接收基板(200)；以及基板固持组件(120)，所述基板固持组件被配置成用于竖直地将所述基板固持在所述框架(110)内。基板固持组件(120)包括位置指示单元(140)，所述位置指示单元用于指示基板相对于所述框架的位置，其中所述位置指示单元(140)可相对于所述框架(110)移动。

Carrier for supporting substrate and device for supporting carrier

The utility model provides a carrier (100) for supporting the substrate (200) in the substrate processing chamber. The carrier comprises a frame (110) configured for receiving the substrate (200) and a substrate holding assembly (120), the substrate holding component configured to vertically hold the substrate in the frame (110). The substrate holding assembly (120) comprises a position indicating unit (140), which is used to indicate the position of the substrate relative to the frame, wherein the position indicating unit (140) can move relative to the frame (110).

【技术实现步骤摘要】
用于支撑基板的载体以及所述载体的装置
本技术的实施方式涉及一种用于支撑基板的载体。具体来说，本文所述实施方式涉及用于在基板的处理过程中(例如在溅射沉积工艺过程中)支撑基板的载体。本技术的实施方式具体涉及在用于处理大面积基板的装置(例如真空沉积装置)中的用于支撑大面积基板的载体。
技术介绍
已知用于在基板上沉积材料的若干方法。例如，基板可以通过物理气相沉积(physicalvapordeposition；PVD)工艺、化学气相沉积(chemicalvapordeposition；CVD)工艺、等离子体增强化学气相沉积(plasmaenhancedchemicalvapordeposition；PECVD)工艺等进行涂布。通常，所述工艺在将涂布的基板所放置的工艺装置或工艺腔室中执行。在装置中提供沉积材料。多种材料(例如，其氮化物或碳化物)都可用于在基板上的沉积。另外，可以在处理腔室中进行其他处理步骤(像蚀刻、结构化、退火等)。涂布材料可以用于若干应用和若干
中。例如，在微电子器件领域(诸如产生半导体器件)中进行应用。另外，用于显示器的基板常常通过PVD工艺来涂布。进一步应用包括绝缘面板、有机发光二极管(organiclightemittingdiode；OLED)面板、具有TFT的基板、滤色器等等。尤其对于诸如显示器生产、薄膜太阳能电池制造和类似应用的领域，大面积玻璃基板被使用来被处理。过去，一直不断增大基板大小，这种增大仍在继续。在不因断裂而牺牲产量的情况下，增大基板大小使基板的搬运、支撑和处理变得越来越有挑战性。通常，大面积基板在处理过程中是由载体支撑。例如，载体可呈框架或板形式，其沿基板的周边支撑基板表面，或者在后一情况下，本身支撑所述表面。对于许多应用，基板相对于被定位在处理设备与基板之间的沉积源或掩模的准确位置对于实现高质量的基板处理结果来说是极其重要的。鉴于以上内容，需要提供用于在处理过程中对基板、具体地是大面积基板进行支撑的载体，这种载体克服本领域的问题中的至少一些问题。本技术的目标尤其在于提供能够提高大面积基板的处理结果的质量(例如，大面积基板上的涂层的均匀性)的载体和装置。
技术实现思路
鉴于以上内容，提供根据独立权利要求的用于在基板处理腔室内支撑基板的载体以及用于处理基板的装置。进一步优点、特征、方面和细节通过从属权利要求、说明书和附图显而易见。根据本技术的一个方面，提供用于在基板处理腔室内支撑基板的载体。载体包括框架，所述框架被配置成用于接收基板。另外，载体包括基板固持组件，所述基板固持组件被配置成用于竖直地将基板固持在框架内。基板固持组件包括位置指示单元，所述位置指示单元用于指示基板相对于框架的位置，其中所述位置指示单元可相对于所述框架移动。根据本技术的另一方面，提供用于在基板处理腔室内支撑基板的载体。载体包括框架，所述框架被配置成用于接收所述基板。另外，载体包括基板固持组件，所述基板固持组件被配置成用于竖直地将基板固持在框架内。基板固持组件包括位置指示单元。位置指示单元包括用于接触基板边缘的基板接触元件，和连接到所述基板接触元件的位置指示元件。位置指示单元至少部分地延伸穿过框架。位置指示元件连接到框架的侧面部分并且从所述框架的外侧边缘突出。另外，载体包括定位单元，所述定位单元附接到所述框架的底部部分。定位单元包括用于支撑基板的底部边缘的基板支撑元件。另外，定位单元包括连接到基板支撑元件的可调量规(gauge)。可调量规被配置成用于在竖直方向上调整和固定基板在框架内的位置。根据例示本技术的示例，描述了用于检测基板相对于载体框架的位置的方法。所述说明性方法包括提供根据本文所述的任何实施方式的载体。另外，所述说明性方法包括通过监测位置指示元件的位置来检测出基板的位置。根据本技术的又一方面，提供一种用于对基板进行处理的装置。所述装置包括：真空处理腔室，所述真空处理腔室适于处理基板；运输系统，所述运输系统适于运输根据本文所述的任何实施方式的载体；以及处理设备，所述处理设备用于处理基板，具体地是用于对在基板上形成层的材料进行沉积的沉积源。附图说明因此，为了能够详细理解本公开的上述特征结构所用方式，上文所简要概述的本公开的更具体的描述可以参考各个实施方式进行。附图涉及本技术的各个实施方式，并且描述如下：图1示出根据本文所述实施方式的用于支撑基板的载体的示意性前视图；图2示出根据本文所述实施方式的用于支撑基板的载体的一部分的示意性立体图；图3示出根据本文所述实施方式的如图2所示的用于支撑基板的载体的包括位置指示单元的区段的详细视图；图4示出如图2所示的用于支撑基板的载体的另一区段的另一详细视图；图5示出根据本文所述实施方式的如图4所示的用于支撑基板的载体的包括定位单元的另一区段的另一详细视图的背侧；图6示出根据本文所述实施方式的用于利用载体对基板进行处理的装置的示意图；图7A和图7B示出例示用于检测基板相对于载体框架的位置以便更好地理解本技术的说明性方法的实施方式的框图。具体实施方式现将详细参考本技术的各种实施方式，这些实施方式的一或多个实例在附图中例示。在对附图的以下描述中，相同的附图标记是指相同元件。在下文中，仅描述了相对于个别实施方式的差异。每个实例以解释本
技术实现思路
的方式提供，而不表示对本技术的限制。另外，例示或描述为一个实施方式的部分的特征可以用于其他实施方式或与其他实施方式结合以产生另一实施方式。预期的是，描述包括此类修改和变化。图1示出根据本文所述实施方式的用于支撑基板200的载体100的示意性前视图。具体来说，根据本文所述的实施方式，载体被配置成用于在基板处理腔室(例如，沉积装置中的真空处理腔室)中支撑基板，如参考图6以更详细的方式示例性地描述。如图1示例性地示出，根据本文所述实施方式，载体100包括框架110，所述框架被配置成用于接收基板200。另外，载体100包括基板固持组件120，所述基板固持组件被配置成用于竖直地将基板200固持在框架110内。具体来说，根据本文所述实施方式的载体的基板固持组件120包括位置指示单元140，所述位置指示单元用于指示基板相对于框架的位置。如双头箭头144所示，位置指示单元140可配置成可相对于框架110移动。因此，通过提供具有如本文所述的位置指示单元的载体，可非常准确地确定基板相对于框架的位置。另外，如本文所述的位置指示单元的可移动式配置对于检测基板在框架内的位置变化来说是尤其有益，所述位置变化可例如由于在处理过程中的基板的热膨胀造成。因此，提供一载体，利用所述载体就可在整个基板处理过程中对基板在框架内的位置进行监测。鉴于这点，根据本文所述的实施方式的载体尤其适于实现高质量的处理结果，例如，在基板上的高度均匀涂层。示例性地参考图1，根据可与本文所述的任何其他实施方式结合的实施方式，基板固持组件120可以包括多个基板保持单元121。例如，基板保持单元121可环绕框架110的周边分布，这样可有益于有效地避免或减少布置在框架110内的基板200的弯曲或隆起。因此，在本技术中，术语“基板固持组件”可理解为可连接到基板载体的框架的组件。具体来说，“基板固持组件”可理解为具有被配置成用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，所述载体包括：‑框架(110)，所述框架被配置成用于接收所述基板(200)；以及‑基板固持组件(120)，所述基板固持组件被配置成用于竖直地将所述基板固持在所述框架(110)内，其中所述基板固持组件(120)包括位置指示单元(140)，所述位置指示单元用于指示所述基板相对于所述框架的位置，其中所述位置指示单元(140)可相对于所述框架(110)移动。

【技术特征摘要】
2016.04.07 KR 20-2016-00018911.一种用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，所述载体包括：-框架(110)，所述框架被配置成用于接收所述基板(200)；以及-基板固持组件(120)，所述基板固持组件被配置成用于竖直地将所述基板固持在所述框架(110)内，其中所述基板固持组件(120)包括位置指示单元(140)，所述位置指示单元用于指示所述基板相对于所述框架的位置，其中所述位置指示单元(140)可相对于所述框架(110)移动。2.如权利要求1所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示单元(140)包括用于接触所述基板的边缘的基板接触元件(141)和连接到所述基板接触元件(141)的位置指示元件(142)。3.如权利要求2所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示元件(142)至少部分地布置在所述框架(110)的外部部分处。4.如权利要求2所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示元件(142)从所述框架(110)的外缘突出。5.如权利要求3所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示元件(142)从所述框架(110)的外缘突出。6.如权利要求1所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示单元(140)至少部分地延伸穿过所述框架(110)。7.如权利要求4所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示单元(140)至少部分地延伸穿过所述框架(110)。8.如权利要求5所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示单元(140)至少部分地延伸穿过所述框架(110)。9.如权利要求1所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示单元(140)连接到所述框架(110)的侧面部分。10.如权利要求4所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示单元(140)连接到所述框架(110)的侧面部分。11.如权利要求5所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示单元(140)连接到所述框架(110)的侧面部分。12.如权利要求7所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示单元(140)连接到所述框架(110)的侧面部分。13.如权利要求8所述的用于在基板处理腔室中支撑基板(200)的载体(100)，其特征在于，所述位置指示单元(140)连接到所述框架(110)的侧面部分。14...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·吴尔斯特，S·刘，C·灿格尔，O·乌尔曼，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国,US