The invention provides a magnetostrictive ultrasonic vibration polishing device and polishing equipment, including a base, a polishing pad, rotating blade and magnetostrictive actuator; the polishing equipment and the base is connected by a column, the polishing pad is disposed on the polishing device, the rotary blade placed in the bottom of the polishing equipment, the magnetostrictive actuator is disposed on the base. The invention uses magnetostrictive brake as the drive mode, high frequency vibration polishing can improve the polishing efficiency, the brittle silicon semiconductor material CMP ultra precision polishing and ultrasonic polishing, reduces the surface pressure, the thickness of the workpiece surface metamorphic layer reduces the times, improve the quality of the polished surface.
【技术实现步骤摘要】
一种超磁致伸缩超声振动抛光装置
本专利技术涉及机械设备表面加工
,尤其涉及一种超磁致伸缩超声振动抛光装置。
技术介绍
超精密加工关系微电子和半导体行业未来的发展,作为超精密加工领域重要技术之一的CMP(ChemicalMechanicalPolishing,化学机械抛光)是一种利用微细磨粒的机械与化学作用来获得光滑或超光滑表面质量的加工方法。近些年来,研究人员开始针对硅片等脆硬半导体材料的表面加工展开热点研究,特别是利用超声振动辅助CMP抛光。在现有CMP抛光生产作业中,发现一些存在的问题,包括抛光作业温度较高,而且CMP抛光液中使用的多为纳米粒子,纳米粒子的比表面积较大,表面能较高,极易发生团聚现象,因此磨料粒子易团聚且分散效果普遍较差,不仅如此,实验发现工件表面易产生变质层,抛光表面的质量较差。现迫切需要一种可以解决抛光作业温度较高、解决磨粒易团聚、分散效果较差,表面质量较差问题的装置,可以减少变质层厚度,提高表面质量,提高抛光效率,且应提供一种不用改造现有CMP抛光机,能够和现有CMP抛光机配套使用,可替换的抛光装置,可安置在不同抛光机上,供CMP抛光使用。
技术实现思路
本专利技术提供了一种超磁致伸缩超声振动抛光装置,通过超声振动来辅助CMP抛光,利用超磁致伸缩制动器将其超声高频振动传递到抛光盘上,从而实现高效抛光和超声分散。为了实现上述目的,本专利技术采取了如下技术方案:一种超磁致伸缩超声振动抛光装置,包括抛光设备、底座、抛光垫、旋转叶片和超磁致伸缩致动器;所述抛光设备和所述底座通过支柱连接,所述抛光垫安置在所述抛光设备上面,所述旋转叶片安置在 ...
【技术保护点】
一种超磁致伸缩超声振动抛光装置,其特征在于,包括抛光设备、底座、抛光垫、旋转叶片和超磁致伸缩致动器;所述抛光设备和所述底座通过支柱连接,所述抛光垫安置在所述抛光设备上面,所述旋转叶片安置在所述抛光设备底部,所述超磁致伸缩致动器安置在所述底座上面。
【技术特征摘要】
1.一种超磁致伸缩超声振动抛光装置,其特征在于,包括抛光设备、底座、抛光垫、旋转叶片和超磁致伸缩致动器;所述抛光设备和所述底座通过支柱连接,所述抛光垫安置在所述抛光设备上面,所述旋转叶片安置在所述抛光设备底部,所述超磁致伸缩致动器安置在所述底座上面。2.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述支柱数量为三个,每个所述支柱上均设置三个橡胶弹簧,用于实现所述支柱的预紧和所述抛光设备的调平。3.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述旋转叶片为三组,按照设定弧度沿所述抛光设备圆周排列,所述旋转叶片通过焊接安置在所述抛光设备底部,所述旋转叶片一方面用于增大散热面积,另一方面在旋转过程中,用于加速所述抛光设备内部空气流动,对所述抛光设备整体散热。4.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,在所述底座外圈沿圆周方向开设三个螺纹孔,所述支柱通过所述三个螺纹孔与所述底座螺钉固连。5.根据权利要求1所述的抛光装置,其特...
【专利技术属性】
技术研发人员:李建勇,宣统,朱朋哲,聂蒙,曹建国,李保震,
申请(专利权)人:北京交通大学,
类型:发明
国别省市:北京,11
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