氧化硅基光致发光感应物及使用方法技术

技术编号:1659219 阅读:216 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及包含氧化硅基的核及至少一种光致发光染料的感应颗粒。该氧化硅基的核可包含多个孔,而该至少一种光致发光染料可包括对其环境和分析物不敏感的参比染料以及对所述环境或分析物敏感的感应染料。该感应颗粒可用来在体内或体外感测生物或非生物系统中未知环境状态或分析物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及氧化硅基颗粒,并且更具体地涉及含有适于用作感测剂(sensing agent)的光致发光物质的氧化硅基颗粒。
技术介绍
近年来,基于光致发光成像的技术基本朝向高分辨率、实时、分子水平分析的方向发展,以直观化并获知生命及其过程。基于光致发光的分析的魅力源于其优异的对比度、高特异性以及快的响应时间。尽管大多数光致发光染料被设计成对其环境不敏感,但各种具有特异亲和性并响应于化学分析物或环境刺激物的染料已经被合成出来。例如,已经将某些类型的光致发光染料游离地用于溶液中作为响应化学分析物或环境刺激物的感应物。虽然敏感和不敏感的光致发光化合物通常都是游离地用于溶液中,但是在一些情况下,这些染料已被结合到感应平台(platform)如光学纤维、薄膜及膜上。感应平台的组分以及光致发光染料的特性,除了确定观察其感应能力的未知状态的类型外,还会影响染料的性能。需要一种环境或分析物的感应物,其可以最优化光致发光染料的可变的性能并且在多种环境中感应未本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化硅基颗粒,包括氧化硅基的核及两种或多种光致发光染料,所述两种或多种光致发光染料含有至少一种参比染料和至少一种感应染料。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2005-5-2 11/119,9691.一种氧化硅基颗粒,包括氧化硅基的核及两种或多种光致发光
染料,所述两种或多种光致发光染料含有至少一种参比染料和
至少一种感应染料。
2.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,其中,所述氧化硅基颗
粒是纳米颗粒。
3.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,其中,所述氧化硅基颗
粒具有直径在约0.1nm至约100.0nm之间的孔。
4.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,其中,所述参比染料和
感应染料中至少其一共价连接至所述氧化硅基的核。
5.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,其中,所述参比染料和
感应染料中至少其一具有约1.0个至约100.0个之间的染料分
子,并且所述参比染料和感应染料响应于在单预定波长发射的
单激发源而发射光子。
6.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,其中,所述参比染料设
置在所述核内并且所述感应染料设置在所述氧化硅基颗粒的
至少一部分表面上。
7.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,其中,所述参比染料和
感应染料设置在所述核的面上或在所述核的外围。
8.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,进一步包括围绕所述核
的氧化硅基的壳,其中,所述参比染料设置在所述核内并且所
述氧化硅基的壳介于所述参比染料和所述感应染料之间。
9.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,其中,所述参比染料和
感应染料响应于在单个预定波长发射的单激发源而发射光子。
10.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,其中,所述参比染料和
感应染料响应光子暴露的峰值波长是被足够的间隙分开,以致
能逐个辨别所述发射峰。
11.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,其中,将所述参比染料
或感应染料暴露于光子激发导致红外或近红外发射。
12.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,其中,所述感应染料至
少对pH、离子的存在和浓度、化学物质或生物化学分析物中
的一种有响应。
13.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,进一步包括表面改性
剂,所述表面改性剂显示出与目标分析物优先相互作用。
14.根据权利要求1所述的氧化硅基颗粒,进一步包括对疾病状态
或损伤有响应的治疗剂。
15.一种光致发光纳米颗粒,包括两种或多种光致发光染料及多个
孔,所述两种或多种光致发光染料包含至少一种参比染料和至
少一种感应染料。
16.根据权利要求15所述的光致发光纳米颗粒,其中,至少一个
所述孔的直径在约0.1nm至约100.0nm之间。
17.根据权利要求15所述的光致发光纳米颗粒,其中,所述纳米
颗粒的直径在约1.0nm至约250.0nm之间。
18.一种方法,包括以下步骤:
提供含有两种或多种光致发光染料的至少一种氧化硅基
颗粒;
将所述至少一种氧化硅基颗粒引入到具有一种或多种未
知状态或分析物的环境中;
将所述至少一种氧化硅基颗粒暴露于激发光子,使得所述
两种或...

【专利技术属性】
技术研发人员:安德鲁A伯恩斯埃里克赫茨塔拉C泽戴科乌尔里希魏斯纳
申请(专利权)人:科内尔研究基金会
类型:发明
国别省市:US[美国]

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