刻蚀设备的监控装置及刻蚀方法制造方法及图纸
Monitoring device and etching method for etching equipment
The invention discloses a monitoring device and etching method for etching equipment. The monitoring device comprises a connecting and etching equipment electrical control system, and control system of electric sensor connection, sensor alignment bearing to be etched substrate position, whether used for etching pattern to be etched substrate detection meet preset requirements, control system for sensor according to the detection results of control spray etching equipment operation. Therefore, the invention can automatically monitor the etching status of the substrate to be etched, so as to improve the etching quality.
【技术实现步骤摘要】
刻蚀设备的监控装置及刻蚀方法
本专利技术涉及显示终端制造
，具体涉及一种刻蚀设备的监控装置及刻蚀方法。
技术介绍
在LCD(LiquidCrystalDisplay,液晶显示器)的制程中，蚀刻工艺是非常重要的一环。蚀刻工艺是利用化学药品对基板表面的金属进行腐蚀，从而达到去除部分金属以形成预定图案的目的。但是，在刻蚀工艺的过程中，待刻蚀基板的表面容易出现金属残留、光阻残留等颗粒(particle)，这些颗粒较小，难以被人眼识别，无法自动监控待刻蚀基板的刻蚀状况，容易出现残次品，影响刻蚀品质。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种刻蚀设备的监控装置及刻蚀方法，能够自动监控待刻蚀基板的刻蚀状况，有利于提高刻蚀品质。本专利技术一实施例的刻蚀设备的监控装置，包括与刻蚀设备电连接的控制系统、以及与控制系统电连接的传感器，传感器对准承载待刻蚀基板的工位，用于检测待刻蚀基板的刻蚀图案是否满足预设要求，控制系统用于根据传感器的检测结果控制刻蚀设备的喷淋操作。本专利技术一实施例的刻蚀方法，包括：将传感器对准承载待刻蚀基板的工位；传感器检测所述待刻蚀基板的刻蚀图案是否满足预设要...
【技术保护点】
一种刻蚀设备的监控装置，其特征在于，所述监控装置包括与所述刻蚀设备电连接的控制系统、以及与所述控制系统电连接的传感器，所述传感器对准承载待刻蚀基板的工位，用于检测所述待刻蚀基板的刻蚀图案是否满足预设要求，所述控制系统用于根据所述传感器的检测结果控制所述刻蚀设备的喷淋操作。
【技术特征摘要】
1.一种刻蚀设备的监控装置，其特征在于，所述监控装置包括与所述刻蚀设备电连接的控制系统、以及与所述控制系统电连接的传感器，所述传感器对准承载待刻蚀基板的工位，用于检测所述待刻蚀基板的刻蚀图案是否满足预设要求，所述控制系统用于根据所述传感器的检测结果控制所述刻蚀设备的喷淋操作。2.根据权利要求1所述的监控装置，其特征在于，所述传感器包括激光位移传感器。3.根据权利要求1所述的监控装置，其特征在于，所述监控装置还包括与所述传感器连接的运动机构，所述运动机构用于传动所述传感器沿所述待刻蚀基板的流水线方向平移，以使所述传感器在平移过程中依次对所述待刻蚀基板的刻蚀图案的不同区域进行检测。4.根据权利要求3所述的监控装置，其特征在于，所述控制系统还用于根据所述预设要求产生运动指令，所述运动机构与所述控制系统电连接，并从所述控制系统接收所述运动指令以平移述所述传感器。5.根据权利要求3所述的监控装置，其特征在于，所述刻蚀设备包括与所述运动机构连接的喷淋机构，所述运动机构还用于传动所述喷淋机构沿所述待刻蚀基板的流水线方向平移，所述喷淋机构和所述传感器在...
【专利技术属性】
技术研发人员：章仟益，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。