一种用于样品磨抛的试验装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出一种用于样品磨抛的试验装置，包括磨抛机构、样品定位机构以及遮挡机构，样品定位机构及遮挡机构位于磨抛机构上方，遮挡机构包括固定盖板与移动盖板，固定盖板中具有滑孔，磨抛机构中部具有定位轴，定位轴伸入滑孔中，定位轴与滑孔为间隙配合，定位轴侧壁具有限位环，使固定盖板与磨抛机构之间保持一定间距，移动盖板边缘具有悬杆，悬杆与磨抛机构表面相互平行，使移动盖板与磨抛机构之间保持一定间距，悬杆向外侧伸出，其末端与支杆相接，固定盖板与移动盖板之间具有可限制样品位置的卡口；支杆中具有连接孔，悬杆具有连接端头，连接端头伸入连接孔内，连接端头与连接孔之间具有相互配合的螺纹，使悬杆可在支杆上调节位置。

An experimental device for sample grinding and polishing

The utility model provides a test device for sample grinding and polishing, grinding and polishing mechanism, including sample positioning mechanism and screening mechanism, sample positioning mechanism and occlusion mechanism is located above the grinding mechanism, occlusion mechanism comprises a fixed cover plate and the movable cover plate, the fixing cover plate has a sliding hole, grinding and polishing mechanism with central positioning shaft, a positioning shaft into the sliding hole, the positioning shaft and the sliding hole clearance, the positioning shaft side wall with limit ring, keep a certain distance between the plate and the polishing mechanism moves the cover edge with the suspension rod, rod grinding and polishing mechanism of surface parallel to each other, to keep a certain distance between the mobile plate and the grinding mechanism. The suspension rod extend outwards, the end is connected with a supporting rod, with bayonet can limit the sample position between the fixed plate and the movable cover plate; supporting rod with a connecting hole, a suspension rod is connected The connecting end extends into the connecting hole, and the connecting end and the connecting hole have mutually matched threads, so that the suspension rod can adjust the position on the supporting rod.

【技术实现步骤摘要】
一种用于样品磨抛的试验装置
本技术涉及磨抛设备，尤其涉及一种用于样品磨抛的试验装置。
技术介绍
机械研磨抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，采用磨具，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。常用的样品磨抛试验装置其样品在干磨工艺中产生大量粉尘，会对试验环境造成污染，并且对磨抛质量造成不利影响，因此，有必要对这种样品磨抛试验装置进行结构优化，以克服上述缺陷。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种用于样品磨抛的试验装置，以将磨抛形成的粉尘隔离，改善试验环境。本技术为解决其技术问题所采用的技术方案是，一种用于样品磨抛的试验装置，包括磨抛机构、样品定位机构以及遮挡机构，样品定位机构及遮挡机构位于磨抛机构上方，其中：遮挡机构包括固定盖板与移动盖板，固定盖板中具有滑孔，磨抛机构中部具有定位轴，定位轴伸入滑孔中，定位轴与滑孔为间隙配合，使定位轴可在滑孔中转动，定位轴侧壁具有限位环，使固定盖板与磨抛机构之间保持一定间距，移动盖板边缘具有悬杆，悬杆与磨抛机构表面相互平行，使移动盖板与磨抛机构之间保持一定间距，悬杆向外侧伸出，其末端本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于样品磨抛的试验装置，包括磨抛机构、样品定位机构以及遮挡机构，样品定位机构及遮挡机构位于磨抛机构上方，其特征在于：遮挡机构包括固定盖板与移动盖板，固定盖板中具有滑孔，磨抛机构中部具有定位轴，定位轴伸入滑孔中，定位轴与滑孔为间隙配合，使定位轴可在滑孔中转动，定位轴侧壁具有限位环，使固定盖板与磨抛机构之间保持一定间距，移动盖板边缘具有悬杆，悬杆与磨抛机构表面相互平行，使移动盖板与磨抛机构之间保持一定间距，悬杆向外侧伸出，其末端与支杆相接，固定盖板与移动盖板之间具有可限制样品位置的卡口。

【技术特征摘要】
1.一种用于样品磨抛的试验装置，包括磨抛机构、样品定位机构以及遮挡机构，样品定位机构及遮挡机构位于磨抛机构上方，其特征在于：遮挡机构包括固定盖板与移动盖板，固定盖板中具有滑孔，磨抛机构中部具有定位轴，定位轴伸入滑孔中，定位轴与滑孔为间隙配合，使定位轴可在滑孔中转动，定位轴侧壁具有限位环，使固定盖板与磨抛机构之间保持一定间距，移动盖板边缘具有悬杆，悬杆与磨抛机构表面相互平行，使移动盖板与磨抛机构之间保持一定间距，悬杆向外侧伸出，其末端与支杆相接，固定盖板与移动盖板之间具有可限制样品位置的卡口。2.根据权利要求1所述的一种用于样品磨抛的试验装置，其特征在于：支杆中具有连接孔，悬杆具有连接端头，连接端头伸入连接孔内，连接端头与连接孔之间具有相互配合的螺...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴杰，
申请(专利权)人：重庆市计量质量检测研究院，
类型：新型
国别省市：重庆,50