【技术实现步骤摘要】
抛光组合物中有机硅表面活性剂的使用专利
本专利技术涉及包含成膜聚合物和离子型有机硅表面活性剂的水性耐污抛光组合物。专利技术背景本专利技术涉及抛光组合物,尤其是地板抛光用组合物。应用于基材的抛光剂的适用性常取决于各种受到表面活性剂选择影响的物理性能。例如,抛光剂的光滑度和耐污性依赖于表面活性剂。“光滑度”指抛光后的表面干燥形成膜后涂层的均匀性。“耐污性”指暴露于污物后抛光剂保留其外观的能力。表面活性剂可降低抛光剂的表面张力,从而改善抛光剂的润湿和流平特性。追溯到50年代中期,碳氟化合物一直是地板抛光业最通用的润湿剂和流平剂。在美国专利2,397,098(Geen)和3,163,547(Vietor)中也描述了这类表面活性剂,这些表面活性剂通常以很低浓度使用,如约为总配方的0.01%(重量)。由于碳氟化合物表面活性剂能以这样低的浓度使用,它们对最终性能如干抛光膜的耐污性通常仅有很小的负面影响。许多碳氟化合物表面活性剂包含全氟辛基部分。这些表面活性剂最终降解为含全氟辛基的化合物。曾报道一些含全氟辛基的化合物会在生物器官中生物积聚;对一些碳氟化合物的这种倾向一直被强烈关注。例如,参见美国专利5,688,844(Baker等)。结果,存在代替地板抛光剂中的碳氟化合物表面活性剂的必要。一些地板抛光剂用的非氟化表面活性剂为本领域已知。美国专利3,728,418(Gleason)公开了许多磷酸盐化合物。美国专利4,168,255(Lewis等)、4,017,662(Gehman等)和3,554,790(Gehman)揭示了有12-18个碳原子的脂肪酸的碱金属盐和胺盐 ...
【技术保护点】
一种用于在基材上施加涂层的水性抛光组合物,该组合物包含:(a)成膜聚合物,(b)离子型有机硅表面活性剂,其中,上述涂层具有耐污性。
【技术特征摘要】
US 2001-2-5 09/777,0431.一种用于在基材上施加涂层的水性抛光组合物,该组合物包含:(a)成膜聚合物,(b)离子型有机硅表面活性剂,其中,上述涂层具有耐污性。2.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于上述基材选自地板、墙壁或浴室表面。3.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于所述基材是地板表面。4.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于所述离子型有机硅表面活性剂是一种阴离子型有机硅表面活性剂。5.如权利要求4所述的抛光组合物,其特征在于所述阴离子型有机硅表面活性剂包含选自下列的碱式盐:羧酸盐、膦酸盐、磷酸盐、硫酸盐和磺酸盐。6.如权利要求4所述的抛光组合物,其特征在于所述阴离子有机硅表面活性剂包含一种羧酸盐。7.如权利要求6所述的抛光组合物,其特征在于所述羧酸盐是苯二甲酸盐。8.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于所述抛光组合物包含0.01-5重量%的离子型有机硅表面活性剂。9.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于所述抛光组合物包含0.1-2重量%的离子型有机硅表面活性剂。10.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于所述离子型有机硅表面活性剂的平均分子量小于10,000。11.如权利要求10所述的抛光组合物,其特征在于所述分子量小于6,000。12.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于所述抛光组合物的pH在6-10.5范围。13.如权利要求12所述的抛光组合物,其特征在于所述pH在7.5-9.9范围。14.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于所述离子型有机硅表面活性剂还包含聚氧化烯。15.如权利要求14所述的抛光组合物,其特征在于所述聚氧化烯是聚环氧乙烷。16.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于所述成膜聚合物选自丙烯酸聚合物、丙烯酸共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物以及它们的混合物。17.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于,以抛光组合物重量为基准,所述抛光组合物包含5-50重量%的成膜聚合物。18.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于,以抛光组合物重量为基准,所述抛光组合物包含10-35重量%的成膜聚合物。19.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于,以抛光组合物重量为基准,所述抛光组合物的固含量在10-50重量%范围。20.如权利要求19所述的抛光组合物,其特征在于,以抛光组合物重量为基准,所述固含量在10-30重量%范围。21.如权利要求19所述的抛光组合物,其特征在于,以抛光组合物重量为基准,所述固含量在35-50重量%范围。22.如权利要求1所述的抛光组合物,其特征在于所述抛光组...
【专利技术属性】
技术研发人员:SK雅美,A派瓦,AC刘,JR小巴兰,
申请(专利权)人:三M创新有限公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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