氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种氧化铝／氧化硅复合磨粒的制备方法，属高精密抛光用磨料的制备工艺技术领域。本发明专利技术的制备方法是先制备α－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］分散液：于去离子水中加入一定量的α－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］及分散剂六偏磷酸钠，搅匀，后加入稀碱和稀酸溶液，调节ＰＨ值为９，采用超声分散和球磨分散；然后加热至反应温度８０～１００℃，再在α－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］分散液中加入一定量的Ｎａ↓［２］ＳｉＯ↓［３］和稀Ｈ↓［２］ＳＯ↓［４］，反应完毕后陈化２小时，然后离心分离、提纯、烘干，最终制得包覆有ＳｉＯ↓［２］的氧化铝／氧化硅复合磨粒。由该复合磨粒配制成的抛光液，对计算机硬盘基片和光盘玻璃基片进行抛光，可明显降低表面的粗糙度和波纹度。

【技术实现步骤摘要】
氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法
本专利技术涉及一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法，属高精密抛光用磨料的制备工艺

技术介绍
近年来，随着存储器硬盘容量及存储密度的快速上升，计算机磁头的飞行高度已降低低到10nm左右。随着磁头与磁盘间运行如此接近，对磁盘表面质量的要求也越来越高。如果硬盘表面粗糙度、波纹度过大，在高速旋转的过程中，磁头就会与磁盘表面发生碰撞，损坏磁头或存储器硬盘表面上上的磁介质，从而导致磁盘设备发生故障或读写信息的错误。因此，在形成磁介质之前，必须对磁盘基片进行抛光，使基片表面粗糙度和波纹度降至最小，同时还必须完全去除微凸起、细小凹坑、划痕、抛光条痕等表面缺陷。数字光盘技术中，玻璃基片作为数字光盘制造过程中的母盘基片，一般要求其粗糙度在10～20，随着数字光盘存储密度、数据读取速度的不断提高，将对母盘玻璃基片表面质量提出更高的要求。目前，普遍采用化学机械抛光技术对计算机硬盘基片、数字光盘母盘基片表面进行抛光。研磨制是化学机械抛光液中的主要成分，α-Al2O3是目前广泛使用的研磨剂，但α-Al2O3粒子硬度较大、市售的α-Al2O3粉体分散后粒子外形一般不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化铝／氧化硅复合磨粒的制备方法，其特征在于具有以下的制备过程和步骤：ａ．先制备α－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］分散液：于去离子水中加入一定量的α－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］，配制成重量百分含量为１０～１５％的水溶液；随后再加入浓度为５％ 的ＮａＯＨ溶液和１％稀Ｈ↓［２］ＳＯ↓［４］，调节ＰＨ值为９；然后加入分散剂六偏磷酸钠，用搅拌机搅拌均匀，然后进行超声分散，再进行球磨分散，制得α－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］分散液；ｂ．将上述α－Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］分散液中加热至反应 温度８０～１００℃，加入一定量的Ｎａ↓［２］ＳｉＯ↓［３］和稀Ｈ↓［２］ＳＯ↓［４］，保持溶液ＰＨ值为９...

【技术特征摘要】
1.一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法，其特征在于具有以下的制备过程和步骤：a.先制备α-Al2O3分散液：于去离子水中加入一定量的α-Al2O3，配制成重量百分含量为10～15％的水溶液；随后再加入浓度为5％的NaOH溶液和1％稀H2SO4，调节PH值为9；然后加入分散剂六偏磷酸钠，用搅拌机搅拌均匀，然后进行超声分散，再进行球磨分散，制得α-Al2O3分散液；b.将上述α-Al2O3分散液中加热至反应温...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷红，张鹏珍，卢海参，张泽芳，肖保其，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]