一种涂布微纳颗粒的设备制造技术

技术编号:16480359 阅读:96 留言:0更新日期:2017-10-31 13:53
本实用新型专利技术提供了一种涂布微纳颗粒的设备,本实用新型专利技术提供的涂布微纳颗粒的设备包括容雾舱以及设置在容雾舱上的雾化装置。其中,本实用新型专利技术通过将微纳颗粒通过雾化装置雾化分散微纳颗粒的方式涂布微纳颗粒,不仅保证分散涂布结果的均匀性、单颗粒分散性和一致性,而且还能实现大面积基片的分散涂布。

A device for coating micro nano particles

The utility model provides a device for coating micro nano particles. The equipment provided by the utility model comprises a fog holding cabin and an atomizing device arranged on the fog hold cabin. Among them, the utility model has the advantages of the micro nano particles by spray atomization device micro nano particle dispersion way of coated micro nano particles, not only to ensure the consistency of dispersion and dispersion coating uniformity, the single particle, but also can realize dispersion coating large area substrates.

【技术实现步骤摘要】
一种涂布微纳颗粒的设备
本技术涉及微纳颗粒的检测加工领域,尤其涉及一种涂布微纳颗粒的设备。
技术介绍
为了测量单个微纳颗粒的性质或制造特别的微纳结构。常需要将微纳颗粒涂布在玻璃片硅片等基片上,并使大部分微纳颗粒保持一个一个分散开的状态,避免多个颗粒团聚的状态。现在,常使用旋涂机旋涂,涂布器刮涂等方法使分散有微纳颗粒的溶液在基片上形成一层液膜,待溶液挥发,在基片上留下分散的微纳颗粒。但是,目前公开的这些方法存在一些问题,如:1)由于咖啡渍圈环效应,溶液挥发过程中微纳颗粒追随溶液移动聚集,使得在基片上纳米颗粒的分布疏密不均,部分区域发生团聚,部分区域又过于稀疏。2)若基片与溶液不能相互浸润,如在亲水性基片上涂布油性溶液时,溶液不能在基片上形成液膜,就无法实现分散涂布微纳颗粒的目的;可见,目前公开的涂布方式均匀性和单颗粒分散性较差且难以保证多次涂布的一致性。
技术实现思路
有鉴于此,本技术所要解决的技术问题在于提供一种涂布微纳颗粒设备,采用本技术的设备涂布微纳颗粒,能够保证微纳颗粒分散涂布结果的均匀性、单颗粒分散性和一致性。本技术提供了一种涂布微纳颗粒的设备,包括:容雾舱;设置在容雾舱上的雾化装置本文档来自技高网...
一种涂布微纳颗粒的设备

【技术保护点】
一种涂布微纳颗粒的设备,包括:容雾舱;设置在容雾舱上的雾化装置;所述容雾舱包括底座和设置在底座上的容雾舱室罩;所述底座上设置有基片安放槽、进气孔和排气孔;所述设备上设置有与排气孔相连通的排气管。

【技术特征摘要】
1.一种涂布微纳颗粒的设备,包括:容雾舱;设置在容雾舱上的雾化装置;所述容雾舱包括底座和设置在底座上的容雾舱室罩;所述底座上设置有基片安放槽、进气孔和排气孔;所述设备上设置有与排气孔相连通的排气管。2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述容雾舱室罩通过卡榫固定在所述底座的卡槽上。3.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑瑜孙方稳郭光灿
申请(专利权)人:中国科学技术大学
类型:新型
国别省市:安徽,34

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