An electrostatic chuck is disclosed. The electrostatic chuck includes a main body, the main body is coupled to the support rod, the body has a substrate support surface; the shoulder, the shoulder from the main body of the substrate support surface is prominent, which around the body arranged around the shoulder; the internal electrode, the internal electrode is embedded in the body inside, the inner electrode from the center of the body radially extending to adjacent the shoulder region; and the external electrode, the outer electrode is embedded in the main body, the external electrode disposed radially outside the internal electrode and the external electrode, and relatively arranged on the internal electrodes above a height.
【技术实现步骤摘要】
一种静电卡盘本申请是申请日为2016年8月2日、申请号为201610625498.X,题为“陶瓷加热器和具有增强的晶片边缘性能的ESC”的申请的分案申请。
本公开的实施方式大体涉及一种用于处理半导体基板的设备。更具体地,本公开的实施方式涉及一种用于等离子体腔室中的静电卡盘。
技术介绍
等离子体增强工艺、诸如等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)工艺、等离子体浸没离子注入工艺(P3I)和等离子体蚀刻工艺已在半导体处理中变得必不可少。等离子体在半导体装置的制造中提供许多优点。例如,由于降低的处理温度,使用等离子体使得广范围的应用成为可能,等离子体增强沉积对于高深宽比缝隙和高沉积速率具有出色的缝隙填充。在等离子体处理期间发生的一个问题是由于用于制造静电卡盘和基板的部件的材料的不同电性质和热性质而在基板的边缘附近造成的工艺不均匀性。另外,由于RF驻波效应,在基板上方的电磁场不均匀,从而导致形成具有等离子体鞘(sheath)(所述等离子体鞘在基板的边缘附近朝基板弯曲)的等离子体。与基板中心处相比,等离子体鞘的这种弯曲导致在基板的边缘附近轰击基板的离子轨迹的差异,由此导致对基板的非均匀的处理,并且因此影响总临界尺寸均匀性。因此,需要一种提供增强的基板边缘电磁场和均匀等离子体性能的改进的静电卡盘。
技术实现思路
本公开的实施方式提供一种用于支撑基板的改进的静电卡盘。在一个实施方式中,所述静电卡盘包括:卡盘主体,所述卡盘主体耦合到支撑杆,所述卡盘主体具有基板支撑表面;多个突片,所述多个突片远离所述卡盘主体的所述基板支撑表面突出, ...
【技术保护点】
一种静电卡盘,包括:主体,所述主体耦合到支撑杆,所述主体具有基板支撑表面;肩部,所述肩部从所述主体的基板支撑表面突出,其中绕所述主体的周边设置所述肩部;内部电极,所述内部电极嵌入在所述主体内,所述内部电极从所述主体的中心径向地延伸到邻近所述肩部的区域;以及外部电极,所述外部电极嵌入在所述主体内,所述外部电极径向地设置在所述内部电极的外部,并且所述外部电极相对地设置在所述内部电极上方的一高度处。
【技术特征摘要】
2015.08.07 US 62/202,6561.一种静电卡盘,包括:主体,所述主体耦合到支撑杆,所述主体具有基板支撑表面;肩部,所述肩部从所述主体的基板支撑表面突出,其中绕所述主体的周边设置所述肩部;内部电极,所述内部电极嵌入在所述主体内,所述内部电极从所述主体的中心径向地延伸到邻近所述肩部的区域;以及外部电极,所述外部电极嵌入在所述主体内,所述外部电极径向地设置在所述内部电极的外部,并且所述外部电极相对地设置在所述内部电极上方的一高度处。2.如权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,所述内部电极径向地延伸至超出将设置在所述基板支撑表面上的基板的边缘的区域。3.如权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,所述外部电极在所述肩部下方径向地延伸。4.如权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,所述主体包括氮化铝或氧化铝。5.如权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,所述内部电极和外部电极连接至公共电源。6.如权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,所述公共电源是RF电源、DC电源或它们的组合。7.如权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,所述内部电极连接至第一电源,并且所述外部电极连接至第二电源,其中所述第一电源和所述第二电源中的每一个包括RF电源、DC电源或它们的组合。8.如权利要求7所述的静电卡盘,其特征在于,所述第一电源是DC电源,并且所述第二电源是RF电源。9.如权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,进一步包括:一个或多个加热元件,所述一个或多个加热元件嵌入在所述主体中,其中沿着与所述内部电极相同的平面设置所述加热元件。10.一种静电卡盘,包括:主体,所述主体耦合到支撑杆,所述主体具有基板支撑表面;多个突片,所述多个突片从所述主体的基板支撑表面突出,其中环绕所述主体的周边设置所述多个突片;内部电极,所述内部电极嵌入在所述主体内,所述内部电极从所述主体的中心径向地延伸到邻近所述突片的区域;以及外部电极,所述外部电极嵌入在所述主体内,所述外部电极径向...
【专利技术属性】
技术研发人员:林兴,周建华,Z·J·叶,陈建,J·C·罗查阿尔瓦雷斯,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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