一种电源插座内双层插套结构制造技术

本发明专利技术涉及一种电源插座内磷靑铜片构成的插套结构，其特征是将目前的单层磷靑铜片插套改为双层磷靑铜片插套，由此以提高插套的弹性，如图1所示，（本发明专利技术双层插套结构示意图），它包括内层弹片A，外层弹片B，经叠加冲压成双层磷靑铜弹片插套结构，其中的外层弹片B可以是非导电性金属弹片，以便节约成本。

Double layer inserting structure for power socket

The invention relates to a power socket socket structure composed of copper phosphorus in youth, which is the single copper sleeve of the Qinghai phosphorus modified to the double phosphorus copper sleeve Qinghai, thus to improve the elastic sleeve, as shown in Figure 1 (the double-layer sleeve structure diagram), it including the inner A shrapnel, shrapnel outer B, stamped by the superposition of double phosphorus bronze inserted sleeve structure, wherein the outer layer can be non shrapnel B conductive metal shrapnel, in order to save the cost.

【技术实现步骤摘要】
一种电源插座内双层插套结构
本专利技术涉及一种电源插座内磷靑铜片构成的插套结构。
技术介绍
常规的制作方法是将导电型单层磷靑铜弹片冲压成所需要的插套结构。
技术实现思路
本专利技术的目的是提高插套的弹性，其特征是将目前的插套由单层改为双层，（厚度相等于单层）由此以提高插套的插拔力及插拔次数，如图1所示（本专利技术双层插套结构示意图），它包括内层弹片A，外层弹片B，经叠加冲压成双层磷靑铜弹片插套结构，其中的外层弹片B为非接触层，可以是非导电性金属弹片以便节约成本，插套也可以是多位的，构成电插排。

【技术保护点】
将双金属片叠加成所需要的双层插套结构。

【技术特征摘要】
1.将双金属片叠加成所需要的双层插套结构。2.双层插套的非接触...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭龙，彭晓雪，
申请(专利权)人：彭龙，
类型：发明
国别省市：广东,44