防止堵塞的坩埚制造技术

本发明专利技术公开了一种防止堵塞的坩埚，包括坩埚本体，其特征在于，还包括设在所述坩埚本体上的阻隔部件，所述阻隔部件上设有贯穿上下表面的开口，所述开口的尺寸小于在坩埚本体中的材料的尺寸，所述阻隔部件将在坩埚本体中的材料与外界隔开。实施本发明专利技术的技术方案，阻隔部件可以确保镁蒸气能有效通过的基础上，阻挡镁颗粒弹出。而且这样的结构不需改变坩埚本体结构，结构简单，容易加工，坩埚本体外部尺寸不变，完全兼容原有的加热源和蒸镀工艺，而且防堵塞效果显著。

Crucible for preventing clogging

The invention discloses a method for preventing clogging of the crucible, which comprises a crucible body, characterized in that the barrier member also includes a crucible body, wherein the barrier component is provided with a through opening on the surface, the opening is smaller than in the crucible body material in the size of the barrier member the material in the crucible body and separated from the outside world. By implementing the technical scheme of the invention, the barrier component prevents magnesium particles from ejecting on the basis that the magnesium vapor can pass effectively. Moreover, the structure of the crucible body is simple and easy to be processed without changing the structure of the crucible body, and the external dimension of the crucible body is unchanged, which is fully compatible with the original heating source and the evaporation process, and the blocking effect is remarkable.

【技术实现步骤摘要】
防止堵塞的坩埚
本专利技术涉及实验器具领域，尤其是涉及一种防止堵塞的坩埚，该坩埚主要用于OLED有机镀膜工艺中蒸发金属电极材料镁。
技术介绍
在OLED有机发光器件中，为了将电子有效地注入有机材料，阴极必须是低功函数的金属，具有较低功函数的金属镁是OLED器件中常用的阴极材料。通过真空蒸镀工艺，镁料从坩埚中受热蒸发，在衬底上制备得到镁薄膜(阴极)，但在镁蒸发过程中，如图1所示，会出现镁颗粒局部受热不均弹出坩埚(即“跳舟”)并在坩埚口持续聚集现象，坩埚口口径变化甚至堵死，影响镀膜速率的控制，导致膜厚偏差，最终引起器件色坐标和亮度发生偏移。堵塞发生后，还需要开腔室处理，严重影响设备的产能。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于，针对现有技术中的上述缺陷，提供一种新的坩埚结构，可有效地解决蒸镀工艺过程中堵塞的问题，提高工艺稳定性和设备产能。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种防止堵塞的坩埚，包括坩埚本体，还包括设在坩埚本体上的阻隔部件，阻隔部件上设有贯穿上下表面的开口，开口的尺寸小于在坩埚本体中的材料的尺寸，阻隔部件将在坩埚本体中的材料与外界隔开。优选地，阻隔部件设在坩埚本体内侧并与坩埚本体内表面配合。优选地，阻隔部件设在坩埚本体3/4高度的位置。优选地，坩埚本体内侧壁设有凸出的用于支承阻隔部件的支承部。优选地，支承部为环形台阶。优选地，阻隔部件呈片状。优选地，开口包括阵列分布在阻隔部件上的若干开口。优选地，开口为小孔。优选地，阻隔部件的材料与坩埚本体材料相同。实施本专利技术的技术方案，至少具有以下的有益效果：阻隔部件可以确保镁蒸气能有效通过的基础上，阻挡镁颗粒弹出。而且这样的结构不需改变坩埚本体结构，结构简单，容易加工，坩埚本体外部尺寸不变，完全兼容原有的加热源和蒸镀工艺，而且防堵塞效果显著。附图说明下面将结合附图及实施例对本专利技术作进一步说明，附图中：图1是现有的坩埚的结构示意图(镁颗粒局部受热不均弹出坩埚)。图2是本技术方案的一优选实施例中的防止堵塞的坩埚的剖视示意图。图3是图2中的防止堵塞的坩埚的阻隔部件的俯视图。其中，1.坩埚本体，1a.坩埚出口，2.阻隔部件，3.支承部，4.弹起的镁颗粒，5.镁料颗粒，6.开口。具体实施方式为了对本专利技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本专利技术的具体实施方式。在本专利技术的防止堵塞的坩埚的描述中，需要理解的是，“前”、“后”、“上”、“下”、“正面”、“背面”等术语仅是为了便于描述本专利技术的技术方案，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位，因此不能理解为对本专利技术的限制。如图2-3所示，本专利技术一个优选实施方式中的防止堵塞的坩埚，包括坩埚本体1，还包括设在坩埚本体1上的阻隔部件2，阻隔部件2上设有贯穿上下表面的开口6，开口6的尺寸小于在坩埚本体1中的材料的尺寸，阻隔部件2将在坩埚本体1中的材料与外界隔开，以确保镁蒸气能有效通过的基础上，阻挡镁颗粒弹出。而且这样的结构不需改变坩埚本体1结构，结构简单，容易加工，坩埚本体1外部尺寸不变，完全兼容原有的加热源和蒸镀工艺，而且防堵塞效果显著。图2示出了弹起的镁颗粒4。优选地，阻隔部件2设在坩埚本体1内侧并与坩埚本体1内表面配合，换言之，对于圆形的坩埚，阻隔部件2也呈圆形。该遮挡帘能够阻挡蒸镀工艺过程中弹起的镁颗粒44，而镁蒸气流则可以顺利地通过小孔6，然后从坩埚出口1a处蒸发出来；该坩埚使用时，先用镊子取出阻隔部件2，往坩埚本体1内加入实验材料后，将阻隔部件2放回坩埚本体1中，即可像原有坩埚一样，放入加热源中使用。阻隔部件2的设置方式除此之外，也可以设在坩埚出口1a中或覆盖在坩埚出口1a上。阻隔部件2设在坩埚本体1的3/4高度的位置，以留有足够的空间给实验材料。坩埚本体1内侧壁设有凸出的用于支承阻隔部件2的支承部3。优选地，支承部3为环形台阶，台阶位于坩埚本体1的3/4高度的位置。该坩埚使用时，先用镊子取出阻隔部件2，往坩埚本体1内加入实验材料后，将阻隔部件2放置到凸起的环形台阶上，然后盖上盖子，即可像原有坩埚一样，放入加热源中使用。阻隔部件2呈片状。开口6包括阵列分布在阻隔部件2上的若干开口6。开口6为小孔。例如，阻隔部件2可以是分布有一定数量小孔的遮挡帘。阻隔部件2的材料与坩埚本体1材料相同，以便创造符合条件的实验条件。综上所述，本技术方案中的防止堵塞的坩埚，能够确保镁蒸气能有效通过的基础上，阻挡镁颗粒弹出。而且这样的结构不需改变坩埚本体1结构，结构简单，容易加工，坩埚本体1外部尺寸不变，完全兼容原有的加热源和蒸镀工艺，而且防堵塞效果显著。以上所述仅为本专利技术的优选实施例而已，并不用于限制本专利技术，对于本领域的技术人员来说，本专利技术可以有各种更改、组合和变化。凡在本专利技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的权利要求范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防止堵塞的坩埚，包括坩埚本体(1)，其特征在于，还包括设在所述坩埚本体(1)上的阻隔部件(2)，所述阻隔部件(2)上设有贯穿上下表面的开口(6)，所述开口(6)的尺寸小于在坩埚本体(1)中的材料的尺寸，所述阻隔部件(2)将在坩埚本体(1)中的材料与外界隔开。

【技术特征摘要】
1.一种防止堵塞的坩埚，包括坩埚本体(1)，其特征在于，还包括设在所述坩埚本体(1)上的阻隔部件(2)，所述阻隔部件(2)上设有贯穿上下表面的开口(6)，所述开口(6)的尺寸小于在坩埚本体(1)中的材料的尺寸，所述阻隔部件(2)将在坩埚本体(1)中的材料与外界隔开。2.如权利要求1所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于，所述阻隔部件(2)设在所述坩埚本体(1)内侧并与所述坩埚本体(1)内表面配合。3.如权利要求2所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于，所述阻隔部件(2)设在所述坩埚本体(1)的3/4高度的位置。4.如权利要求2所述的防止堵塞的坩埚，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：茆胜，
申请(专利权)人：茆胜，
类型：发明
国别省市：广东,44