The invention discloses a glass ceramics with high brightness chemical polishing solution, the composition including hydrofluoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and glycerol; the concentration of hydrofluoric acid and hydrofluoric acid as 40% sulfuric acid, 96% sulfuric acid, hydrochloric acid solution of 36.5% components; the number of copies according to the product design, 8 hydrofluoric acid ~ 14, 6 ~ 12, glycerol 3 sulfuric acid and hydrochloric acid 0 ~ 4 ~ 6. Compared with the original polishing solution of the invention, the polishing surface brightness, polishing surface smooth, visible light range (400nm ~ 1000nm) transmittance increased from 33% to 85%, after polishing, the surface roughness Ra from 0.305 m reduced to 0.146 m, chemical polishing removal rate is 0 ~ 200 m. The polishing time is shortened and the polishing efficiency is improved by increasing the amount of polishing.
【技术实现步骤摘要】
一种微晶玻璃高光亮度化学抛光液及制备方法
本专利技术属于微晶玻璃化学抛光
，涉及一种微晶玻璃高光亮度化学抛光液及制备方法。
技术介绍
微晶玻璃是制作飞机控制、惯性导航、制导控制光学元件的基础材料，微晶玻璃的军用及高质量的光学元件，由于其应用领域的特殊性，对光学元件的表面及内部微孔的粗糙度及光洁度要求较高，凸凹不平表面将影响元件的光学性能指标。结构复杂、具有微孔结构的微晶玻璃精密光学元件(激光陀螺腔体)，孔道机械加工后，孔壁会留下凸凹不平的机加破坏层，激光陀螺要求腔体的回路为平滑的表面，以减少材料的放气，这时影响陀螺存储寿命的关键技术之一。将光学元件回路内机加破坏层变成圆钝、平滑的表面，用传统光学抛光的方法不能实现，这就需要对精密元件的内部孔道、凹槽进行化学抛光，即采用化学溶液对玻璃进行侵蚀，获得光滑而透明的玻璃表面。高精度激光陀螺发展，要求陀螺腔体的毛细孔的平滑、光亮程度提高。特别是微晶玻璃更换材料厂家后(德国)，微晶玻璃的组成及微晶结构发生了很大的变化，原化学抛光液及方法不在适用，使用原抛光液抛光后表面附着大量盐类表面无光泽，抛光表面及孔道的不够光亮、透明...
【技术保护点】
一种微晶玻璃高光亮度化学抛光液，其特征在于，其组成成分包括：氢氟酸、硫酸、丙三醇、盐酸；其中，氢氟酸为浓度为40％的氢氟酸溶液，硫酸为96％的浓硫酸，盐酸为36.5％的酸溶液；组分按体积份数计，氢氟酸8～14、硫酸6～12、丙三醇3～6、盐酸0～4。
【技术特征摘要】
1.一种微晶玻璃高光亮度化学抛光液，其特征在于，其组成成分包括：氢氟酸、硫酸、丙三醇、盐酸；其中，氢氟酸为浓度为40％的氢氟酸溶液，硫酸为96％的浓硫酸，盐酸为36.5％的酸溶液；组分按体积份数计，氢氟酸8～14、硫酸6～12、丙三醇3～6、盐酸0～4。2.根据权利要求1所述的微晶玻璃高光亮度化学抛光液，其特征在于，按体积份数计，氢氟酸0.56L、硫酸0.7L、丙三醇0.21L、盐酸0.28L。3.根据权利要求1所述的微晶玻璃高光亮度化学抛光液，其特征在于，按体积份数计，氢氟酸0.4L、硫酸0.6L、丙三醇0.3L、盐酸0.15L。4.根据权利要求1所述的微晶玻璃高光亮度化学抛光液，其特征在于，按体积份数计，氢氟酸0.6L、硫酸0.6L、丙三醇0.3L、盐酸0L。5....
【专利技术属性】
技术研发人员：矫灵艳，崔莹，林娜娜，
申请(专利权)人：天津津航技术物理研究所，
类型：发明
国别省市：天津,12
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