【技术实现步骤摘要】
喷墨记录墨水,用于喷墨记录的墨水组和喷墨记录方法
本专利技术涉及确保在高湿度条件下极好图像稳定性的喷墨记录墨水组合物,和使用该墨水组合物的喷墨记录方法。
技术介绍
伴随近来计算机的普及,不仅在办公室而且在家里,喷墨打印机被广泛用于将文字和图像打印在纸,胶片,布等上。喷墨记录方法包括通过施加来自压电元件的压力喷射出液滴的系统,通过在加热下在墨水中产生气泡喷射出液滴的系统,使用超声波的系统,和通过使用静电力吸取喷射液滴的系统。用于该喷墨记录的墨水组合物包括水墨,油墨和固体(熔融-类型)墨水。在这些墨水中,考虑到生产,操作性能,气味,安全性等,水墨是占统治地位的。在该喷墨记录墨水中使用的着色剂要求在溶剂中具有高溶解度,能够高密度记录,提供好的色调,显示对光,热,空气,水和化学药品的极好坚牢度,确保良好的固定到图像接收材料上和较少出血,提供具有极好耐贮性的墨水,具有高纯度和无毒性,并且可以以低成本获得。然而,找出高水平地满足这些要求的着色剂非常困难。已经提议和实际使用各种用于喷墨记录的染料和颜料,但目前还未发现满足所有这些要求的着色剂。常规公知的具有比色指数(C.I.)号的染料和颜料几乎都不能满足喷墨记录墨水要求的色调和坚牢度。迄今,已经对具有坚牢度和好的色调的染料进行研究,尝试开发作为极好的喷墨记录染料的染料。然而,在作为水溶性染料的化合物中,需要取代水溶性基团。如果将水溶性基团的数量增加以便改善墨水的稳定性,这已经发现导致形成的图像在高湿度条件下容易模糊的问题。本专利技术的目的是提供喷墨记录墨水组合物和喷墨记录方法,其导致在-->高湿度条件下更少的模糊。专利 ...
【技术保护点】
一种喷墨记录墨水组合物,其包含水性介质和溶解和/或分散在所述水性介质中的至少一种染料,其中所述墨水组合物中包含至少一种内铵盐型表面活性剂。
【技术特征摘要】
JP 2002-2-8 32682/2002;JP 2002-2-12 34326/2002;JP 1.一种喷墨记录墨水组合物,其包含水性介质和溶解和/或分散在所述水性介质中的至少一种染料,其中在所述墨水组合物中包含至少一种内铵盐型表面活性剂。2.如权利要求1所要求喷墨记录墨水组合物,其中在所述内铵盐型表面活性剂的分子中,阳离子部分是季氮原子并且阴离子部分是羧基或磺基。3.如权利要求1或2所要求的喷墨记录墨水组合物,其中所述内铵盐型表面活性剂是咪唑N-位被羧基烷基取代的化合物(化合物A),或含有被羧基或磺基取代的烷基的烷基胺盐化合物(化合物B)。4.如权利要求3所要求的喷墨记录墨水组合物,其中所述化合物A是由式(A)表示的化合物:式(A):其中,RS1和RS2各自表示烷基,并且RS3表示含有羧基或磺基的烷基。5.如权利要求3所要求的喷墨记录墨水组合物,其中所述化合物B是由式(B)表示的化合物:式(B):其中RS4,RS5和RS6各自独立地表示烷基,芳基或杂环基,并且可以彼此结合形成环状结构,并且RS7表示含有羧基或磺基的烷基。6.如权利要求5所要求的喷墨记录墨水组合物,其中在式(B)表示的所述化合物中,RS4,RS5和RS6各自独立地表示烷基,并且由RS7表示的基团由-L-COO-表示,其中L表示连接基团。7.如权利要求6所要求的喷墨记录墨水组合物,其中在式(B)表示的所述化合物中,L表示CH(RS8),RS8表示氢原子或含有8个或更多碳原子的烷基,并且RS4,RS5,RS6和RS8中至少一个是含有8个或更多碳原子的烷基。8.如权利要求1至7中任何一项所要求的喷墨记录墨水组合物,其中所述染料是在所述水性介质中在500-580nm的光谱区内具有最大吸收并且具有高于1.0V(相对于SCE)的氧化电势的偶氮染料。9.如权利要求1至8中任何一项所要求的喷墨记录墨水组合物,其中所述偶氮染料含有由下式表示的生色团:(杂环A)-N=N-(杂环B),条件是杂环A和杂环B可以具有相同结构。10.如权利要求1至9中任何一项所要求的喷墨记录墨水组合物,其中所述偶氮染料是其中芳族含氮6元杂环作为偶联成分与偶氮基团的至少一侧直接键接的偶氮染料。11.如权利要求1至10中任何一项所要求的喷墨记录墨水组合物,其中所述偶氮染料是具有作为助色团的含有芳环氨基-或杂环氨基的结构的偶氮染料。12.如权利要求1至11中任何一项所要求的喷墨记录墨水组合物,其中所述偶氮染料是具有空间结构的偶氮染料。13.如权利要求1至12中任何一项所要求的喷墨记录墨水组合物,其中所述偶氮染料是由下式(1)表示的染料:式(1)其中A表示5元杂环基团;B1和B2各自表示=CR1-或-CR2=,或者B1和B2中任何一个表示氮原子并且另一个表示=CR1-或-CR2=;R5和R6各自独立地表示氢原子或取代基,所述取代基是脂族基,芳基,杂环基,酰基,烷氧羰基,芳氧基羰基,氨基甲酰基,烷基磺酰基,芳基磺酰基或氨磺酰基,并且每个取代基的氢原子可以被取代;G,R1和R2各自独立地表示氢原子或取代基,所述取代基是卤原子,脂族基,芳基,杂环基,氰基,羧基,氨基甲酰基,烷氧羰基,芳氧基羰基,杂环氧基羰基,酰基,羟基,烷氧基,芳氧基,杂环氧基,甲硅氧基,酰氧基,氨基甲酰基氧基,烷氧羰基氧基,芳氧基羰基氧基,氨基,酰氨基,脲基,氨磺酰基氨基,烷氧基羰基氨基,芳氧基羰基氨基,烷基磺酰基氨基,芳基磺酰基氨基,杂环磺酰基氨基,硝基,烷硫基,芳硫基,杂环硫基,烷基磺酰基,芳基磺酰基,杂环磺酰基,烷基亚...
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