一种屏幕保护膜及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种屏幕保护膜，包括基材、形成在所述基材上的AR膜、形成在所述AR膜上的金属氧化膜、形成在所述金属氧化膜上的AF膜。本发明专利技术实施例的屏幕保护膜既有良好的耐磨性又有较高的透光率，而且还能兼顾疏水疏油及防指纹的效果。本发明专利技术还公开了一种屏幕保护膜的制作方法。

Screen protective film and its making method

The invention discloses a screen protective film, which comprises a base material, a AR film formed on the substrate, a metal oxide film formed on the AR film, and a AF film formed on the metal oxide film. The screen protection film of the embodiment of the invention has good abrasion resistance and high light transmittance, and can also take into account the effect of hydrophobic and oil thinning and fingerprint protection. The invention also discloses a method for making the screen protective film.

【技术实现步骤摘要】
一种屏幕保护膜及其制作方法
本专利技术涉及薄膜材料领域，尤其涉及一种屏幕保护膜及其制作方法。
技术介绍
手机，平板等设备的触控屏幕本身材质(例如玻璃)硬度偏低，在日常的使用和携带过程中，很容易被环境中的沙砾或钥匙等硬质物刮伤磨损，从而留下划痕甚至失效。此外，在频繁的触控使用中，使用者皮肤上的油脂和指纹很容易残留在触控屏表面上，影响屏幕的视觉清晰度和画面效果。目前，在触控屏幕表面覆盖一层耐磨性防指纹膜来提高硬度、防刮耐磨或疏水疏油的技术已有应用。例如，美国专利No.5,637,353公开了一种在玻璃基材表面沉积DLC膜的方法，其使用化学气相沉积法(ChemicalVaporDeposition,CVD)制备的DLC膜具有较好的耐磨性，然而，疏水性一般，而且，由于膜较厚也影响了透光率。美国专利No.6,280,834公开了一种在汽车玻璃基材表面使用离子束沉积-化学气相沉积法(IonBeamDeposition,ChemicalVaporDeposition,IBD-CVD)制备DLC膜的方法，其使用C2H2气体作为离子源，使用IBD方法沉积DLC，制备的DLC膜含有较多的氢，获得的高硬度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种屏幕保护膜，其特征在于，包括：一基材；形成在所述基材上的AR膜；形成在所述AR膜上的金属氧化膜；形成在所述金属氧化膜上的AF膜。

【技术特征摘要】
1.一种屏幕保护膜，其特征在于，包括：一基材；形成在所述基材上的AR膜；形成在所述AR膜上的金属氧化膜；形成在所述金属氧化膜上的AF膜。2.如权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于，所述屏幕保护膜还包括：形成在所述金属氧化膜表面的纳米点阵图案。3.如权利要求2所述的屏幕保护膜，其特征在于：所述纳米点阵图案采用纳米压印或光刻技术制成。4.如权利要求2或3所述的屏幕保护膜，其特征在于：所述纳米点阵图案的深度为5纳米，间距为2微米。5.如权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于：所述AR膜为两层或多层结构。6.如权利要求5所述的屏幕保护膜，其特征在于：所述AR膜为两层结构时，由下往上的第一层为高折射率材质层，第二层为低折射率材质层。7.如权利要求6所述的屏幕保护膜，其特征在于：所述高折射率材质层为氧化锆、氧化钛或氧化铝；所述低折射率材质层为氧化硅或氮化硅。8.如权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于：所述基材为触控屏幕类介质，包括玻璃或蓝宝石。9.如权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于：所述金属氧化膜的材料为ZrOx、TaOx、HfOx、YOx或AlOx。10.如权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于：所述金属氧化膜厚度为10埃～200埃。11.一种屏幕保护膜的制作方法，其特征在于，包括步骤：S1、提供一基材；S2、在所述基材上形成一AR膜；S3、在所述AR膜上形成一金属氧化膜；S4、在所述金属氧化膜上形成一AF膜。12.如权利要求11所述的屏幕保护膜的制作...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘庆平，唐鹏飞，
申请(专利权)人：新科实业有限公司，
类型：发明
国别省市：中国香港,81