一种清洗装置制造方法及图纸
A cleaning device
The invention discloses a cleaning device, which belongs to the field of semiconductor process equipment. The workpiece support table comprises a supporting platform, an angle adjusting unit and the seat support platform and the angle regulating unit are arranged on the supporting seat, supporting platform for bearing supporting plane has a part to be cleaned, the angle adjusting unit is used for adjusting the tilt angle of the supporting plane, by setting the angle regulating unit can adjust the tilt angle of the supporting plane, in the process of the workpiece cleaning placed on the supporting surface, because the supporting inclined plane, so that the residual photoresist liquid and stain more easily, to further improve the cleaning effect.
【技术实现步骤摘要】
一种清洗装置
本专利技术涉及半导体工艺设备领域，特别涉及一种清洗装置。
技术介绍
在显示器件的制造过程中，经常会使用到构图工艺。而在构图工艺中，常常会使用到光刻胶。光刻胶在使用时需要进行曝光和显影，在显影过程中，有部分光刻胶会被去除，从而将掩膜上的图案转移到光刻胶上。在完成显影之后，由于会有一定量的显影液和在显影过程中被去除的光刻胶残留在工件上，因此需要对工件进行清洗，以去除残留的显影液和光刻胶。目前的清洗方法通常是将工件水平放置在清洗装置的工件支撑台上，再通过清洗装置的喷淋组件对工件进行喷淋。由于光刻胶在显影后形成的图案中，常常会包括一些孔、槽等，因此在清洗过程中残留的显影液、光刻胶和污渍容易残留到孔、槽等结构中而难以被去除干净。
技术实现思路
为了解决现有的清洗装置难以完全去除残留的显影液、光刻胶和污渍的问题，本专利技术实施例提供了一种清洗装置。所述技术方案如下：本专利技术实施例提供了一种清洗装置，包括工件支撑台和喷淋组件，所述工件支撑台包括支撑平台、角度调节单元和支座，所述支撑平台和所述角度调节单元均设置在所述支座上，所述支撑平台具有用于承载待清洗工件的支撑平面...
【技术保护点】
一种清洗装置，包括工件支撑台和喷淋组件，其特征在于，所述工件支撑台包括支撑平台、角度调节单元和支座，所述支撑平台和所述角度调节单元均设置在所述支座上，所述支撑平台具有用于承载待清洗工件的支撑平面，所述角度调节单元用于调节所述支撑平面的倾斜角度。
【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，包括工件支撑台和喷淋组件，其特征在于，所述工件支撑台包括支撑平台、角度调节单元和支座，所述支撑平台和所述角度调节单元均设置在所述支座上，所述支撑平台具有用于承载待清洗工件的支撑平面，所述角度调节单元用于调节所述支撑平面的倾斜角度。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑平台包括平台本体和支撑臂，所述支撑臂的一端固定连接在所述平台本体的与所述支撑平面相反的一面上，所述支撑臂的另一端与所述角度调节单元连接，所述角度调节单元用于驱动所述支撑臂的另一端沿一弧线运动。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述支座上设有凹形的弧面，所述支撑臂的另一端可沿所述凹形的弧面滑动地设置在所述凹形的弧面上。4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述角度调节单元包括螺纹套、螺纹杆和用于驱动螺纹杆绕其轴线旋转的驱动器，所述螺纹套套装在所述螺纹杆上且与所述螺纹杆螺纹连接，所述支撑臂的另一端与所述螺纹套铰接。5.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑臂包括支撑块和设置在所述支撑块上的旋转动力单元...
【专利技术属性】
技术研发人员：董立文，谷丰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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