光催化剂、其制造方法、含有光催化剂的分散液及光催化剂涂料组合物技术

本发明专利技术提供一种光催化剂，所述光催化剂包含具有光催化剂活性的基体和被覆该基体的实质上无细孔的氧化硅膜，碱金属的含量为１ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下。另外，本发明专利技术还提供一种光催化剂的制造方法作为所述光催化剂的制造方法，即，使用硅酸盐，在存在于水性介质中的具有光催化剂活性的基体上被覆氧化硅膜，此时将含有具有光催化剂活性的基体和硅酸盐二者的水性介质的ｐＨ维持在５以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及有机物的光分解活性优异的光催化剂、含有此光催化 剂的光催化剂分散液及光催化剂涂料组合物、及使用硅酸盐在具有光 催化剂活性的基体上被覆氧化硅膜的光催化剂制造方法。
技术介绍
二氧化钛、氧化锌等金属氧化物半导体显示吸收具有与其带宽相 当的能量的光的性质。近年，因光照射激发生成的空穴和电子引发的 高反应性受到关注，人们正尝试将上述金属氧化物半导体作为"光催 化剂"，用于水质净化、防污、抗菌、除臭、大气净化等环境净化中。在公知的光催化剂中，成分为氧化钛的市售光催化剂P25(日本Aerosil 制)或ST-Ol (石原产业制)被广泛应用。但是，上述光催化剂的光 分解活性不充分。特别是为了能在室内这样的紫外线强度较弱的环境 中利用光催化剂功能，期望开发出光分解活性更加优异的催化剂。众所周知，作为提高光分解活性的技术有改良以粒径、膜厚、表 面积、细孔径等为代表的光催化剂形状的技术，及加入助催化剂、增 敏剂等的技术。另外，也公开了将具有其他功能的化合物与光催化剂 复合化的方案，已知有二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化硅-氧化铝、 沸石等的复合化光催化剂。作为含有氧化硅的光催化剂，已经公开本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光催化剂，所述光催化剂包含具有光催化剂活性的基体和被覆该基体的实质上不具有细孔的氧化硅膜，碱金属的含量为１ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫添智，锅田贵司，堀内伸彦，
申请(专利权)人：三井化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]