【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及有机无机复合体、其制造方法以及有机无机复合体形成用组合物，详细而言，涉及通过照射350nm以下波长的光使表面碳含有率少于内部的有机无机复合体、其制造方法以及用于形成该有机无机 复合体的有机无机复合体形成用组合物。本申请主张2005年2月18日申请的曰本专利申请第2005 - 43199 号、2005年8月29日申请的日本专利申请第2005-248170号以及2006 年1月23日申请的日本专利申请第2006- 13933号的优先权，这里引 用其内容。
技术介绍
目前，作为市售硅烷类涂膜剂的原料，主要使用3官能的硅烷，通 过所述3官能硅烷，可以形成具有适当硬度和柔软性的聚硅氧烷。但是， 3官能硅烷的膜其硬涂性仍然不足，为了弥补这一点，通过在3官能硅 烷中混合4官能硅烷或胶体二氧化硅来弥补，但存在膜一旦变硬则易出 现裂缝、密接性变差的问题。作为硅烷类的涂膜剂例如有，含有带有环氧基的3官能烷氧基硅烷 化合物的防污膜形成用组合物(参照专利文献l。)。另外，还提出了含 有光催化剂的硅烷类涂膜剂，使用光致酸发生剂(光酸発生剤)、交联 剂、固化催化剂等来固化膜(...
【技术保护点】
一种有机无机复合体，其特征在于，以式（Ⅰ）： Ｒ↓［ｎ］ＳｉＸ↓［４－ｎ］ （Ⅰ） 所示的有机硅化合物的缩合物作为主要成分，含有至少１种感应３５０ｎｍ以下波长的光的感光化合物和／或由所述感光化合物衍生的化合物；所述感光化合物选自金属螯合物、金属有机酸盐化合物、含有２个以上羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物；其中式中Ｒ表示碳原子直接键合于式中Ｓｉ的有机基团，Ｘ表示羟基或水解性基团，ｎ表示１或２，当ｎ为２时，Ｒ可以相同也可以不同，当（４－ｎ）为２以上时，Ｘ可以相同也可以不同。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：木村信夫，芝田大干，长谷川一希，
申请(专利权)人：日本曹达株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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