本发明专利技术提供表面具有非常高硬度的同时，内部及背面侧具有适当硬度，并且与基体的密接性优良的有机无机复合体。该有机无机复合体的特征在于：以式（Ⅰ）：Ｒ↓［ｎ］ＳｉＸ↓［４－ｎ］（式中，Ｒ表示碳原子直接键合于式中Ｓｉ的有机基团，Ｘ表示羟基或水解性基团。ｎ表示１或２）所示的有机硅化合物的缩合物作为主要成分，含有至少１种感应３５０ｎｍ以下波长的光的感光化合物和／或由该感光化合物衍生的化合物，所述感光化合物选自金属螯合物、金属有机酸盐化合物、含有２个以上羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及有机无机复合体、其制造方法以及有机无机复合体形成用组合物，详细而言，涉及通过照射350nm以下波长的光使表面碳含有率少于内部的有机无机复合体、其制造方法以及用于形成该有机无机 复合体的有机无机复合体形成用组合物。本申请主张2005年2月18日申请的曰本专利申请第2005 - 43199 号、2005年8月29日申请的日本专利申请第2005-248170号以及2006 年1月23日申请的日本专利申请第2006- 13933号的优先权，这里引 用其内容。
技术介绍
目前，作为市售硅烷类涂膜剂的原料，主要使用3官能的硅烷，通 过所述3官能硅烷，可以形成具有适当硬度和柔软性的聚硅氧烷。但是， 3官能硅烷的膜其硬涂性仍然不足，为了弥补这一点，通过在3官能硅 烷中混合4官能硅烷或胶体二氧化硅来弥补，但存在膜一旦变硬则易出 现裂缝、密接性变差的问题。作为硅烷类的涂膜剂例如有，含有带有环氧基的3官能烷氧基硅烷 化合物的防污膜形成用组合物(参照专利文献l。)。另外，还提出了含 有光催化剂的硅烷类涂膜剂，使用光致酸发生剂(光酸発生剤)、交联 剂、固化催化剂等来固化膜(例如，参照专利文献2， 3。)。进一步，还 提出了材料中金属类化合物的含有率具有从材料的表面至深度方向连 续变化的成分倾斜构造的硅烷类的有机-无机复合倾斜材料(例如，参 照专利文献4。)。专利文献l:特开平10 - 195417号公报 专利文献2:特开2002 - 363494号公才艮 专利文献3:特开2000 - 169755号 >才艮 专利文献4:特开2000 - 336281号公净艮
技术实现思路
本专利技术的课题在于，提供使用了感光化合物的新的有机无机复合体，特别是表面具有所期望硬度并且与基体的密接性优良的有机无机复合体； 该有机无机复合体的制造方法以及可以形成该有机无机复合体的有机无 机复合体形成用组合物。本专利技术者致力于新的有机无机复合体的开发并进行了深入研究，结 果发现，通过使用特定的有机硅化合物和感光化合物制造有机无机复合 体，能够制造表面比内部硬度高并且与基体的密接性优良的有机无机复 合体，进一步而言，能够制造表面具有非常高的硬度的同时，内部和背 面侧具有适当硬度并且与基体的密接性优良的有机无机复合体，从而完 成了本专利技术。即，本专利技术涉及(1) 有机无机复合体，其特征在于，以式(I ) RnSiX4_n ( I )(式中，R表示式中的Si上直接键合碳原子的有机基团，X表示羟基或 水解性基团。n表示l或2，当n为2时，R可以相同也可以不同，当(4-n)为2以上时，X可以相同也可以不同。)所示的有机珪化合物 的缩合物作为主要成分，含有至少1种感应350nm以下波长的光的感 光化合物和/或由该感光化合物衍生的化合物，所述感光化合物选自金 属螯合物、金属有机酸盐化合物、含有2个以上羟基或水解性基团的金 属化合物、它们的水解物及它们的缩合物。(2) 上述(1)所述的有机无机复合体，其特征在于，所述金属螯 合物含有羟基或水解性基团。(3) 上述(1)或(2)所述的有机无机复合体，其特征在于，所述 金属有机酸盐化合物含有羟基或水解性基团。(4) 上述(1) ~ (3)任一项所述的有机无机复合体，其特征在于， 所述含有2个以上羟基或水解性基团的金属化合物的水解物和/或缩合 物是，相对1摩尔含有2个以上羟基或水解性基团的金属化合物，用0.5摩尔以上的水而水解生成的产物。(5) 上述(1) ~ U)任一项所述的有机无机复合体，其特征在于， 所述金属螯合物的水解物和/或缩合物是，相对1摩尔金属螯合物，用5 ~ IOO摩尔的水而水解生成的产物。(6) 上述(1) ~ (5)任一项所述的有机无机复合体，其特征在于， 所述金属有机酸盐化合物的水解物和/或缩合物是，相对1摩尔金属有 机酸盐化合物，用5~100摩尔的水而水解生成的产物。(7) 上述(1) ~ (6)任一项所述的有机无机复合体，其特征在于， 所述金属螯合物是p —酮羰基化合物、p —酮酯化合物或者a 一羟基酯化 合物。(8) 上述(1) ~ (7)任一项所述的有机无机复合体，其特征在于， 所述水解性基团是碳数为1 ~ 4的烷氧基或者碳数为1 ~ 6的酰氧基。(9) 上述(1) ~ (8)任一项所述的有机无机复合体，其特征在于， 所述金属化合物、金属螯合物或金属有机酸盐化合物中的金属是选自 钛、锆、铝、硅、锗、铟、锡、钽、锌、鴒、铅中的至少l种。(10) 上述(I) ~ (9)任一项所述的有机无机复合体，其特征在 于，式(I )中R是碳数l 10的烷基、碳数2 10的烯基或者碳数l-10的环氧烷基。本专利技术进一步涉及(11) 上述(l) ~ (10)任一项所述的有机无机复合体，其特征在 于，该有机无机复合体是薄膜。(12) 上迷(11)所述的有机无机复合体，其特征在于，其是薄膜， 所述薄膜从膜表面向深度方向10nm的膜表面部分的碳含量，为从膜背 面向深度方向10nm的膜背面部分的碳含量的80%以下。(13) 上述(11)或(12)所述的有机无机复合体，其特征在于， 由膜表面至规定深度的碳含量依次增加。(14)上述(13)所述的有机无机复合体，其特征在于，碳含量依次增加的深度为膜厚度的5 ~ 80 % 。(15) 上述(13)或(14)所述的有机无机复合体，其特征在于， 碳含量依次增加的深度是50 ~ 2000nm。(16) 上述(11) ~ (15)任一项所述的有机无机复合体，其特征 在于，其是在玻璃基板上形成时JIS K 5600 - 5 - 4铅笔法所规定的铅笔 硬度在5H以上的薄膜。(17) 聚硅氧烷类薄膜，其特征在于，是以式(I ) RnSiX4-n ( I )(式中，R表示碳原子直接键合于式中Si的有机基团，X表示羟基或水 解性基团。n表示l或2，当n为2时，R可以相同也可以不同，当(4-n)为2以上时，X可以相同也可以不同。)所示的有机珪化合物的缩 合物作为主要成分的薄膜，从膜表面向深度方向10nm的膜表面部分的 碳含量，是从膜背面向深度方向10nm的膜背面部分的碳含量的80%以 下。(18) 上述(17)所述的聚硅氧烷类薄膜，其特征在于，从膜表面 至规定深度的碳含量依次增加。(19) 上述(18)所述的聚硅氧烷类薄膜，其特征在于，碳含量依 次增加的深度为膜厚度的5 ~ 80 % 。(20) 上述(18)或(19)所述的聚硅氧烷类薄膜，其特征在于， 碳含量依次增加的深度是50 ~ 2000nm。本专利技术还涉及(21) 上述(17) ~ (20)任一项所述的聚硅氧烷类薄膜，其特征 在于，在玻璃基板上形成时JIS K 5600 - 5 - 4铅笔法所规定的铅笔硬度 在5H以上。(22) 上述(17) ~ (21)任一项所述的聚硅氧烷类薄膜，其特征 在于，进一步含有感应350nm以下波长的光的感光化合物和/或由该感 光化合物衍生的化合物。 (23) 上述(22)所述的聚硅氧烷类薄膜，其特征在于，含有至少 1种感应350nm以下波长的光的感光化合物和/或由该感光化合物衍生 的化合物，所述感光化合物选自金属螯合物、金属有机酸盐化合物、含 有2个以上幾基或水解性基团的金属化合物、它们的水本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种有机无机复合体，其特征在于，以式（Ⅰ）： Ｒ↓［ｎ］ＳｉＸ↓［４－ｎ］ （Ⅰ） 所示的有机硅化合物的缩合物作为主要成分，含有至少１种感应３５０ｎｍ以下波长的光的感光化合物和／或由所述感光化合物衍生的化合物；所述感光化合物选自金属螯合物、金属有机酸盐化合物、含有２个以上羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物；其中式中Ｒ表示碳原子直接键合于式中Ｓｉ的有机基团，Ｘ表示羟基或水解性基团，ｎ表示１或２，当ｎ为２时，Ｒ可以相同也可以不同，当（４－ｎ）为２以上时，Ｘ可以相同也可以不同。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：木村信夫，芝田大干，长谷川一希，
申请(专利权)人：日本曹达株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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