受抑立方体形组件制造技术

本实用新型专利技术总体涉及受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件具有：第一棱镜，所述第一棱镜具有第一表面、第二表面和第一斜边；以及第二棱镜，所述第二棱镜具有第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。受抑立方体形组件可以包括与第二表面相邻的倾斜反射镜。第二表面可为反射衍射光栅。光以法向入射角并沿单一光轴穿过图像投影系统来反射到与受抑立方体形组件相邻的数字微镜器件(DMD)。入射在DMD上的光的方向使得从“打开”反射镜反射的光沿着DMD表面的法线并与斜边成45度来引导。输入光束和输出光束是平行的。

Frustrated cube shape component

The utility model relates to the inhibition of cubic component, the inhibition of cubic assembly has a first prism, the first prism has a first surface, a second surface and the first edge; and second prism, the second prism has third surface, fourth surface and second. The first and second sides are oriented to each other and separated by air gaps. The frustrated cube shape assembly can include an inclined mirror adjacent to the second surface. The second surface can be reflected diffraction grating. The light is reflected into the image projection system along a single optical axis through the image projection system to reflect the digital micromirror device (DMD) adjacent to the suppressed cube shape component. The direction of the light incident on the DMD guides the light reflected from the \open\ mirror along the normal surface of the DMD and 45 degrees to the bevel. The input beam and the output beam are parallel.

【技术实现步骤摘要】
受抑立方体形组件
本技术的实施方式总体涉及用于处理一个或多个基板的装置和系统，并且更具体地涉及用于执行光刻工艺的装置。
技术介绍
光刻广泛用于制造半导体器件和显示器件(诸如液晶显示器(LCD))。通常利用大面积基板进行LCD制造。LCD或者平板常常用于有源矩阵显示器，诸如计算机、触摸面板设备、个人数字助理(PDA)、蜂窝电话、电视监视器，等等。一般来说，平板可以包括液晶材料层，液晶材料层形成夹在两个板之间的像素。当来自于电源的电力跨液晶材料进行施加时，可在像素位置处控制通过液晶材料的光的量，从而使得图像能够被产生。显微光刻技术一般用来创建作为形成像素的液晶材料层的部分而并入的电学特征。根据这项技术，通常将光敏型光刻胶涂覆到基板的至少一个表面。接着，图案产生器(patterngenerator)用光来使光敏型光刻胶的作为图案的一部分的所选区域曝光，以便导致选择区域中的光刻胶的化学改变，从而使这些选择区域准备好进行后续显影，显影将曝光的或未曝光的光刻胶区域去除以创建掩模，掩模抵制或保护下方层中的部分以免受用于图案化下方层的蚀刻工艺的影响，并且形成电学特征。为了继续以消费者期望的价格向消费者提供显示器件和其它器件，需要新的装置和方法来在基板(如大面积基板)上精确且成本有效地创建图案。
技术实现思路
本技术总体涉及受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件具有：第一棱镜，所述第一棱镜具有第一表面、第二表面和第一斜边；以及第二棱镜，所述第二棱镜具有第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。受抑立方体形组件可以包括与第二表面相邻的倾斜反射镜。第二表面可为反射衍射光栅。光以法向入射角并沿单一光轴穿过图像投影系统来反射到与受抑立方体形组件相邻的数字微镜器件(DMD)。入射在DMD上的光的方向使得从“打开”反射镜反射的光沿DMD表面的法线并与斜边成45度来引导。输入光束和输出光束是平行的。在一个实施方式中，公开了受抑立方体形组件。受抑立方体形组件包括第一棱镜、第二棱镜和倾斜反射镜。第一棱镜包括第一表面、第二表面和第一斜边。第二棱镜包括第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。倾斜反射镜与第二表面相邻，并且倾斜反射镜和第二表面以第二气隙隔开。在另一实施方式中，公开了受抑立方体形组件。受抑立方体形组件包括第一棱镜、第二棱镜、倾斜反射镜和数字微镜器件。第一棱镜包括第一表面、第二表面和第一斜边。第二表面是窗口，并且第二表面是倾斜的。第二棱镜包括第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以第一气隙隔开。倾斜反射镜与第二表面相邻，并且倾斜反射镜和第二表面以第二气隙隔开。数字微镜器件与第三表面相邻。在又一实施方式中，公开了受抑立方体形组件。受抑立方体形组件包括第一棱镜和第二棱镜。第一棱镜包括第一表面、第二表面和第一斜边。第二表面是反射衍射光栅。第二棱镜包括第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并以气隙隔开。附图说明因此，为了能够详细理解本技术的上述特征所用方式，上文所简要概述的本技术的更具体的描述可以参考实施方式进行，一些实施方式例示在附图中。然而，应当注意，附图仅例示了本技术的典型实施方式，并且因此不应视为对本技术的范围的限制，因为本技术可允许其它等效实施方式。图1是可受益于本文所公开的实施方式的系统的立体图。图2是可受益于本文所公开的实施方式的图像投影系统的照明系统的示意图。图3是可受益于本文所公开的实施方式的图像投影装置的立体图。图4是根据一个实施方式的受抑立方体形组件的示意图。图5是根据另一实施方式的受抑立方体形组件的示意图。图6是根据一个实施方式的数字微镜器件的反射镜阵列的示意图。图7是根据一个实施方式的光中继器中的一个的剖视图。为了促进理解，已尽可能使用相同附图标记指定各图所共有的相同要素。另外，一个实施方式中的要素可有利地适用于本文中描述的其它实施方式中。具体实施方式本技术总体涉及受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件具有：第一棱镜，所述第一棱镜具有第一表面、第二表面和第一斜边；以及第二棱镜，所述第二棱镜具有第三表面、第四表面和第二斜边。第一斜边和第二斜边面向彼此，并由气隙隔开。受抑立方体形组件可以包括与第二表面相邻的倾斜反射镜。第二表面可为反射衍射光栅。光以法向入射角并沿单一光轴穿过图像投影系统来反射到与受抑立方体形组件相邻的数字微镜器件(DMD)。入射在DMD上的光的方向使得从“打开”反射镜反射的光沿DMD表面的法线并与斜边成45度来引导。输入光束和输出光束是平行的。图1是可受益于本文所公开的实施方式的系统100的立体图。系统100包括基架110、板件120、两个或更多个台架130、以及处理装置160。基架110可搁置于制造设施的地面上，并且可以支撑板件120。可将被动式空气隔振器(passiveairisolator)112定位在基架110与板件120之间。板件120可为整块的花岗岩，并且可将两个或更多个台架130安置在板件120上。基板140可由两个或更多个台架130中的每一个支撑。在台架130中可形成有多个孔(未示出)，以允许多个升降杆(未示出)穿过其中而延伸。升降杆可升高到伸展位置，以便接收基板140，诸如从一个或多个传送用机械手(未示出)处接收。一个或多个传送用机械手可用于从两个或更多个台架130装载和卸载基板140。基板140可例如由玻璃制成，并且用作平板显示器的一部分。在其它实施方式中，基板140可由其它材料制成。在一些实施方式中，基板140可以具有形成在其上的光刻胶层。光刻胶对辐射敏感，并且可以是正性光刻胶或负性光刻胶，这意味着光刻胶的暴露于辐射的部分将相应地为可溶于或不可溶于在将图案写入光刻胶后涂覆到光刻胶的光刻胶显影剂。光刻胶的化学组分决定光刻胶将是正性光刻胶还是负性光刻胶。例如，光刻胶可包括以下至少一者：重氮萘醌、酚醛树脂、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚(甲基戊二酰亚胺)和SU-8。以此方式，图案可被创建在基板140的表面上，以便形成电子电路。系统100可进一步包括成对支撑件122和成对轨道124。可将成对支撑件122安置在板件120上，并且板件120和成对支撑件122可为单块材料。成对轨道124可由成对支撑件122支撑，并且两个或更多个台架130可沿轨道124在X方向上移动。在一个实施方式中，成对轨道124与成对平行磁性通道共面。如图所示，成对轨道124中的每个轨道124是线性的。在其它实施方式中，轨道124可以具有非线性的形状。编码器126可耦接到每个台架130，以便将位置信息提供给控制器(未示出)。处理装置160可以包括支撑件162和处理单元164。可将支撑件162安置在板件120上，并且支撑件162可以包括供两个或更多个台架130穿过处理单元164下方的开口166。处理单元164可由支撑件162支撑。在一个实施方式中，处理单元164是图案产生器，所述图案产生器配置成在光刻工艺中暴露光刻胶。在一些实施方式中，图案产生器可配置成执行无掩模光刻工艺。处理单元164可以包括多个图像投影装置(在图2至图3中示出)。在一个实施方式中，处理单元164可以包含84个图像本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件包括：第一棱镜，其中所述第一棱镜包括：第一表面；第二表面；以及第一斜边；第二棱镜，其中所述第二棱镜包括：第三表面；第四表面；以及第二斜边，其中所述第一斜边和所述第二斜边面向彼此，并且其中所述第一斜边和所述第二斜边由第一气隙隔开；以及倾斜反射镜，其中所述倾斜反射镜与所述第二表面相邻，并且其中所述倾斜反射镜和所述第二表面由第二气隙隔开。

【技术特征摘要】
2016.02.25 US 62/299,777;2016.07.18 US 62/363,5971.一种受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件包括：第一棱镜，其中所述第一棱镜包括：第一表面；第二表面；以及第一斜边；第二棱镜，其中所述第二棱镜包括：第三表面；第四表面；以及第二斜边，其中所述第一斜边和所述第二斜边面向彼此，并且其中所述第一斜边和所述第二斜边由第一气隙隔开；以及倾斜反射镜，其中所述倾斜反射镜与所述第二表面相邻，并且其中所述倾斜反射镜和所述第二表面由第二气隙隔开。2.如权利要求1所述的受抑立方体形组件，其进一步包括：数字微镜器件，其中所述数字微镜器件与所述第三表面相邻。3.如权利要求2所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第一表面和所述第二表面以大于约90度的角度相交，并且其中所述第三表面和所述第四表面是垂直的。4.如权利要求3所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第二表面是窗口。5.如权利要求4所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第二表面相对于所述第三表面而倾斜。6.如权利要求5所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述第二表面以与所述数字微镜器件的数字微镜的角度相同的角度倾斜。7.如权利要求5所述的受抑立方体形组件，其特征在于，所述倾斜反射镜与所述第二表面平行。8.一种受抑立方体形组件，所述受抑立方体形组件包括：第一棱镜，其中所述第一棱镜包括：第一表面；第二表面，其中所述第二表面是窗口，并且其中所述第二表面是倾斜的；以及第一斜边；第二棱镜，其中所述第二棱镜包括：第三表面；第四表面；以及第二斜边，其中所述第一斜边和所述第二斜边面向彼此，并且其中所述第一斜边和所述第二斜边由第一气隙隔开；倾斜反射镜，其中所述倾斜反射镜与所述第二表面相邻，并且其中所述倾斜反射镜和所述第二表面由第二气隙隔开...

【专利技术属性】
技术研发人员：D·马克莱，T·L·莱迪戈，T·N·托马斯，陈正方，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国,US