除草化合物制造技术

技术编号:16386020 阅读:45 留言:0更新日期:2017-10-16 03:35
本发明专利技术涉及除草活性的吡啶并‑/嘧啶并‑吡唑衍生物,连同涉及用于制备此类衍生物的方法和中间体。本发明专利技术进一步延伸到包括此类衍生物的除草组合物,连同延伸到此类化合物和组合物在有用植物的作物中控制不希望的植物生长中的用途,特别是在控制杂草中的用途。

Herbicidal compounds

The present invention relates to the herbicidal activity of pyridine and pyrimidine and / pyrazole derivatives, and relates to a method for preparing such derivatives and intermediates. The invention further extends to herbicidal compositions including such derivatives, and extends to such compounds and compositions for use to control undesirable plant growth in useful plant crops, especially in the use of weed control.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】除草化合物本专利技术涉及除草活性的吡啶并-/嘧啶并-吡唑衍生物,连同涉及用于制备此类衍生物的方法和中间体。本专利技术进一步延伸到包括此类衍生物的除草组合物,连同延伸到此类化合物和组合物在有用植物的作物中控制不希望的植物生长中的用途,特别是在控制杂草中的用途。除草嘧啶并-咪唑是从WO2005/047281已知的。在WO2013/162715、WO2013/162716、WO2013/062981和WO2012/061290中描述了用作杀螨/杀昆虫/杀软体动物/杀线虫剂或用于在控制无脊椎动物害虫中的吡啶并-/嘧啶并-吡唑衍生物。本专利技术是基于以下发现:如在本文所定义的具有化学式(I)的吡啶并-吡唑和嘧啶并-吡唑衍生物展示了出人意料地良好的除草活性。因此,在本专利技术的第一个方面,提供了具有化学式(I)的化合物,或其盐或N-氧化物作为除草剂的用途,其中Q是选自的环系统,其中A表示与杂芳基环的附接点,以及B表示与氮原子的附接点;X1是N或CR1;R1是氢、卤素、氰基、C1-C6烷基、C3-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C(O)OR6或S(O)n(C1-C6烷基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有化学式(I)的化合物,

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.10 GB 1502164.51.一种具有化学式(I)的化合物,或其盐或N-氧化物作为除草剂的用途,其中Q是选自或的环系统,其中A表示与杂芳基环的附接点,以及B表示与氮原子的附接点;X1是N或CR1;R1是氢、卤素、氰基、C1-C6烷基、C3-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C(=O)OR6或S(=O)n(C1-C6烷基)、甲酰基、羟基、-(=O)CNR6R7、NR6R7、苄氧基、C1-C6卤代烷氧基或C1-C6卤代烷基;R2是氢、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6烯基、C(=O)OR6、或S(=O)n(C1-C6烷基)、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基;n是0、1、或2;R3是氢、氰基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代烯基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6烯氧基、C3-C10环烷基、NR6R7;R4是O、S、或N(C1-C6烷基);X2是O、S、或NR8;R5是氢,C1-C6烷基,C2-C6烯基,C2-C6炔基,C3-C10环烷基,C3-C10环烯基,C1-C6卤代烷基,C2-C6卤代烯基,C1-C6烷氧基,C1-C6卤代烷氧基,C2-C6烯氧基,C2-C6炔氧基,C3-C10环烷氧基,C3-C10环烯氧基,C2-C6卤代烯氧基,C6-C10芳基或被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基和C1-C3卤代烷氧基的基团取代的C6-C10芳基;C3-C10杂环基或被从1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、和C1-C3卤代烷氧基的基团取代的C3-C10杂环基;或NR6R7;或R3和R5连同X2以及它们所连接的原子一起形成饱和或部分不饱和5-9元环系统,该5-9元环系统任选地包括1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素或C1-C6烷基的基团取代;或R3和R8连同它们所连接的原子一起形成饱和或部分不饱和5-9元环系统,该5-9元环系统任选地包括1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素或C1-C6烷基的基团取代;R6和R7各自独立地是氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6烯基、或C2-C6炔基,或R6和R7连同它们所连接的氮原子一起形成饱和或部分不饱和3-6元环,该3-6元环任选地包括1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素或C1-C6烷基的基团取代;R8是氢、氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6烯基或C2-C6炔基;C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6烯氧基、C2-C6炔氧基、C3-C10环烷基氧基、C3-C10环烯氧基、C2-C6卤代烯氧基;或R7和R8连同它们所连接的碳原子一起形成饱和或部分不饱和3-9元环,该3-9元环任选地包括1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素或C1-C6烷基的基团取代,R9是氢、卤素、氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷氧基、或C3-C6环烷基;R10是氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6烯基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基硫基、-C(O)OR6、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C3-C6环烷基、或C2-C6炔基。2.根据权利要求1所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R1是氢、卤素、甲酰基、氰基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基硫基、C1-C6卤代烷氧基、-(O)CNR6R7、NR6R7、或C1-C6卤代烷基。3.根据权利要求1或权利要求2所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R1是氢、氟、氯、氰基、三氟甲基、甲氧基、二氟甲氧基、甲酰基、甲烷磺酰基、甲酰胺、甲硫醇或氨基。4.根据权利要求1至3中任一项所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R2是卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6烯基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基硫基、-C(O)OR6、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C3-C6环烷基、或C2-C6炔基。5.根据前述权利要求中任一项所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R2是卤素、氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6烯基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C3-C6环烷基、-C(=O)OR6、或C2-C6炔基。6.根据前述权利要求中任一项所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R2是甲基、三氟甲基、氯、溴、碘、氟、乙烯基、乙炔基、甲氧基羰基、-CO2H或环丙基。7.根据前述权利要求中任一项所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R3是氢或C1-C3烷基。8.根据前述权利要求中任一项所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R3是氢或甲基。9.根据前述权利要求中任一项所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R5是C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C10环烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6卤代烯基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6烯氧基、C2-C6炔氧基、C3-C10环烷氧基、C3-C10环烯氧基、C2-C6卤代烯氧基、C6-C20芳基、C3-C20杂环基、或NR6R7。10.根据前述权利要求中任一项所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R5是甲基、乙基异丙基、叔丁基或叔丁氧基。11.根据权利要求1至6中任一项所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R3和R5连同X2以及它们所连接的原子一起形成饱和或部分不饱和5-9元环系统,该5-9元环系统任选地包括1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素或C1-C6烷基的基团取代。12.根据权利要求11所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R3和R5连同X2和它们所附接的原子一起形成环系统T,该环系统T选自由T1和T2组成的组,其中X2和R4是如权利要求1中所定义的,并且A表示与吡啶并/嘧啶并-吡唑部分的附接点。13.根据前述权利要求中任一项所述的具有化学式(I)的化合物的用途,其中R4是O。14.根据前述权利要求中任一项所述的具有化学式...

【专利技术属性】
技术研发人员:S·P·巴奈特N·B·卡特A·C·埃里奥特D·迈克科尔马克M·M·W·麦克拉克兰J·A·莫里斯A·M·西维勒M·J·韦伯
申请(专利权)人:先正达参股股份有限公司
类型:发明
国别省市:瑞士,CH

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